CN219701962U - 一种低温搅拌反应浴装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种低温搅拌反应浴装置，包括机箱主体，机箱主体的上端设置有反应槽，反应槽的底部安装有磁力搅拌装置，反应槽内可拆卸放置有开口朝上的水浴罐，水浴罐位于磁力搅拌装置的上方，水浴罐的底部放置有与磁力搅拌装置对应的磁子，水浴罐内设有承托板，承托板位于磁子的上方并且承托板上具有若干镂空孔，水浴罐的内壁上设有螺旋状的加热线圈，反应槽的底部朝上设有排水管插管，排水管插管的下端连接有延伸出机箱主体外的排水管，水浴罐的底部朝下设有与排水管插管对应的放水管，放水管插入排水管插管内，机箱主体的上端还设有螺纹连接孔，水浴罐是直接放置在反应槽内，可以随时取出，便于日常的清理以及维护。

Description

一种低温搅拌反应浴装置

技术领域

本实用新型涉及反应浴技术领域，具体涉及到一种低温搅拌反应浴装置。

背景技术

低温恒温反应浴广泛应用于科研、生物、医药、化工等领域进行低温试验，主要是利用反应浴内的搅拌子本体搅动介质溶液流动，以达到低温反应浴内温度更均匀，温度控制更精确的效果。现有技术中的低温恒温反应浴，通常是直接在箱体的上端设置凹陷的浴槽用于水浴加热，因此浴槽是与箱体直接固定设置的，不利于直接取出清理或者维修等。

实用新型内容

为了解决上述现有技术中的不足之处，本实用新型提出一种低温搅拌反应浴装置。

为了实现上述技术效果，本实用新型采用如下方案：

一种低温搅拌反应浴装置，包括机箱主体，所述机箱主体的底部均匀设有若干支撑脚，所述机箱主体的上端设置有反应槽，所述反应槽的底部安装有磁力搅拌装置，所述反应槽内可拆卸放置有开口朝上的水浴罐，所述水浴罐位于磁力搅拌装置的上方，所述水浴罐的底部放置有与磁力搅拌装置对应的磁子，所述水浴罐内设有承托板，所述承托板位于磁子的上方并且承托板上具有若干镂空孔，所述水浴罐的内壁上设有螺旋状的加热线圈，所述反应槽的底部朝上设有排水管插管，所述排水管插管的下端连接有延伸出机箱主体外的排水管，所述水浴罐的底部朝下设有与排水管插管对应的放水管，所述放水管插入排水管插管内，所述机箱主体的上端还设有螺纹连接孔。

优选的技术方案，所述机箱主体的上端还设有伸缩保温盖，所述伸缩保温盖包括固定环、转动环、调节环以及若干调节叶片，所述固定环围绕反应槽设置并且固定设于机箱主体的上端，所述固定环的外沿设有一圈台阶，所述转动环转动安装于台阶上，所述固定环的上表面与转动环的上表面高度一致，所述调节环位于转动环的上方，所述调节环与转动环之间通过若干连接杆固定连接，所述调节叶片呈弧形状，所述调节叶片朝向内侧弯曲，所述转动环上等距设有若干转动柱，所述转动柱的数量与调节叶片的数量一致并与调节叶片一一对应，若干转动柱围绕一圈设置，所述固定环上设有一圈与若干转动柱一一对应的插柱，所述调节叶片的一端与转动柱铰接，所述调节叶片的下表面设有一条与插柱匹配的约束槽，所述插柱插入约束槽中，所述约束槽的一端靠近转动柱并且靠近调节叶片的外侧边设置，所述约束槽的另一端朝向背离转动柱的方向并且靠近调节叶片的内侧边延伸。

优选的技术方案，所述反应槽的内壁上设有若干定位沿，所述定位沿在竖直方向上延伸，若干定位沿围绕反应槽的周向间隔分布，所述水浴罐的外壁上设有若干与导向沿相匹配的定位槽，所述定位沿卡入定位槽内设置。

优选的技术方案，所述反应槽的内壁上沿着反应槽的周向设有若干承托座，所述水浴罐的下端承托在若干承托座上。

优选的技术方案，所述机箱主体的底部设有若干万向轮，所述机箱主体内具有机构腔，所述机构腔位于机箱主体的下部，所述支撑脚的底部朝上延伸设有与机构腔连通的通孔，若干万向轮分别位于若干通孔内，所述机构腔内设有与机箱主体固定连接的承重板以及位于承重板下方上下移动的升降板，所述升降板的下表面朝下延伸设有若干分别插入若干通孔内的安装柱，所述万向轮安装于安装柱的下端，所述承重板上安装有液压气缸，所述液压气缸的伸缩杆朝下与升降板固定连接。

优选的技术方案，所述承重板的下表面朝下延伸设有若干与机构腔底部连接的导向柱，所述升降板上具有若干与导向柱相匹配的导向孔，所述导向柱穿过导向孔设置。

与现有技术相比，有益效果为：

本实用新型结构简单，使用方便，水浴罐是直接放置在反应槽内，可以随时取出，便于日常的清理以及维护。

附图说明

图1是本实用新型结构示意图；

图2是本实用新型内部结构示意图；

图3是本实用新型中伸缩保温盖结构示意图；

图4是图3部分结构示意图；

图5是图4俯视示意图；

图6是图5另一状态结构示意图；

图7是本实用新型中伸缩保温盖闭合状态部分结构示意图；

图8是本实用新型中调节叶片示意图。

附图标记：1、机箱主体；2、支撑脚；3、反应槽；4、螺纹连接孔；5、伸缩保温盖；501、固定环；502、转动环；503、调节环；504、连接柱；505、转动柱；506、插柱；507、调节叶片；508、约束槽；6、水浴罐；7、磁力搅拌装置；8、承托板；9、磁子；10、加热线圈；11、排水管插管；12、放水管；13、定位槽；14、定位沿；15、排水管；16、机构腔；17、承重板；18、升降板；19、液压气缸；20、安装柱；21、通孔；22、万向轮；23、导向柱。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

一种低温搅拌反应浴装置，包括机箱主体1，所述机箱主体1的底部均匀设有若干支撑脚2，机箱主体1为现有技术中低温恒温反应浴的机箱，内部具有控制系统，所述机箱主体1的上端设置有反应槽3，所述反应槽3的底部安装有磁力搅拌装置7，所述反应槽3内可拆卸放置有开口朝上的水浴罐6，所述水浴罐6位于磁力搅拌装置7的上方，所述水浴罐6的底部放置有与磁力搅拌装置7对应的磁子9，磁力搅拌装置7带动磁子9快速转动进行搅拌，磁力搅拌装置7与磁子9采用现有技术，所述水浴罐6内设有承托板8，承托板8用于承托反应用的烧瓶，所述承托板8位于磁子9的上方并且承托板8上具有若干镂空孔，镂空孔连通承托板8的上下，所述水浴罐6的内壁上设有螺旋状的加热线圈10，所述反应槽3的底部朝上设有排水管插管11，所述排水管插管11的下端连接有延伸出机箱主体1外的排水管15，排水管15上设置阀门，所述水浴罐6的底部朝下设有与排水管插管11对应的放水管12，所述放水管12插入排水管插管11内，所述机箱主体1的上端还设有螺纹连接孔4，螺纹连接孔4用于固定烧瓶架，现有技术中的一种烧瓶架包括一根支撑杆，支撑杆上安装有夹住烧瓶的夹子，支撑杆的下端具有螺纹部，通过螺纹部与螺纹连接孔4螺接而固定在机箱主体1的上端。

将水浴用到的液体倒入水浴罐6中，烧瓶内盛放反应的物质，将烧瓶放入水浴罐6中后，通过烧瓶架固定，加热线圈10用于加热液体，磁力搅拌装置7带动磁子9快速转动用于搅动液体，使液体的温度均匀，由于水浴罐6是直接放入反应槽3中，便于随时取出，有利于清理水浴罐6以及维护，反应完成之后，通过放水管12、排水管插管11以及排水管15排出水浴罐6中的液体。

优选的技术方案，所述机箱主体1的上端还设有伸缩保温盖5，所述伸缩保温盖5包括固定环501、转动环502、调节环503以及若干调节叶片507，所述固定环501围绕反应槽3设置并且固定设于机箱主体1的上端，所述固定环501的外沿设有一圈台阶，所述转动环502转动安装于台阶上，所述固定环501的上表面与转动环502的上表面高度一致，所述调节环503位于转动环502的上方，所述调节环503与转动环502之间通过若干连接杆固定连接，所述调节叶片507呈弧形状，所述调节叶片507朝向内侧弯曲，所述转动环上等距设有若干转动柱505，所述转动柱505的数量与调节叶片507的数量一致并与调节叶片507一一对应，若干转动柱505围绕一圈设置，所述固定环上设有一圈与若干转动柱505一一对应的插柱506，所述调节叶片507的一端与转动柱505铰接，所述调节叶片507的下表面设有一条与插柱506匹配的约束槽508，所述插柱506插入约束槽508中，所述约束槽508的一端靠近转动柱505并且靠近调节叶片507的外侧边设置，所述约束槽508的另一端朝向背离转动柱505的方向并且靠近调节叶片507的内侧边延伸。

现有技术中，烧瓶在水浴过程中由于水浴罐6无法盖上，因此液体的温度散失较快，因此需要更多的能源用于较热而保持液体的温度，从而造成了能源的浪费，本方案中，将烧瓶放入水浴罐6中后，转动调节环503而带动转动环502转动，而转动环502则驱动调节叶片507活动，由于约束槽508约束了插柱506的移动路径，因此会使调节叶片507远离转动柱505的一端向内侧移动，若干转动环502向内侧移动则可以形成盖子遮蔽住水浴罐6的上端，减少热量的流失，伸缩保温盖5的结构以及原理与现有技术中虹膜光圈的结构以及原理相同。

优选的技术方案，所述反应槽3的内壁上设有若干定位沿14，所述定位沿14在竖直方向上延伸，若干定位沿14围绕反应槽3的周向间隔分布，所述水浴罐6的外壁上设有若干与导向沿相匹配的定位槽13，所述定位沿14卡入定位槽13内设置。

优选的技术方案，所述反应槽3的内壁上沿着反应槽3的周向设有若干承托座，所述水浴罐6的下端承托在若干承托座上。

优选的技术方案，所述机箱主体1的底部设有若干万向轮22，所述机箱主体1内具有机构腔16，所述机构腔16位于机箱主体1的下部，所述支撑脚2的底部朝上延伸设有与机构腔16连通的通孔21，若干万向轮22分别位于若干通孔21内，所述机构腔16内设有与机箱主体1固定连接的承重板17以及位于承重板17下方上下移动的升降板18，所述升降板18的下表面朝下延伸设有若干分别插入若干通孔21内的安装柱20，所述万向轮22安装于安装柱20的下端，所述承重板17上安装有液压气缸19，所述液压气缸19的伸缩杆朝下与升降板18固定连接。

通过万向轮22便于移动机箱主体1，需要移动机箱主体1时，液压气缸19驱动升降板18朝下移动，使万向轮22与地面接触并顶起机箱主体1使支撑脚2离开地面。

优选的技术方案，所述承重板17的下表面朝下延伸设有若干与机构腔16底部连接的导向柱23，所述升降板18上具有若干与导向柱23相匹配的导向孔，所述导向柱23穿过导向孔设置，通过导向柱23能够起到竖直方向上的导向作用，也能支撑承重板17，提高承重板17的承重强度。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该实用新型产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，或者是本领域技术人员惯常理解的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

Claims (6)

1.一种低温搅拌反应浴装置，其特征在于，包括机箱主体(1)，所述机箱主体(1)的底部均匀设有若干支撑脚(2)，所述机箱主体(1)的上端设置有反应槽(3)，所述反应槽(3)的底部安装有磁力搅拌装置(7)，所述反应槽(3)内可拆卸放置有开口朝上的水浴罐(6)，所述水浴罐(6)位于磁力搅拌装置(7)的上方，所述水浴罐(6)的底部放置有与磁力搅拌装置(7)对应的磁子(9)，所述水浴罐(6)内设有承托板(8)，所述承托板(8)位于磁子(9)的上方并且承托板(8)上具有若干镂空孔，所述水浴罐(6)的内壁上设有螺旋状的加热线圈(10)，所述反应槽(3)的底部朝上设有排水管插管(11)，所述排水管插管(11)的下端连接有延伸出机箱主体(1)外的排水管(15)，所述水浴罐(6)的底部朝下设有与排水管插管(11)对应的放水管(12)，所述放水管(12)插入排水管插管(11)内，所述机箱主体(1)的上端还设有螺纹连接孔(4)。

2.如权利要求1所述的低温搅拌反应浴装置，其特征在于，所述机箱主体(1)的上端还设有伸缩保温盖(5)，所述伸缩保温盖(5)包括固定环(501)、转动环(502)、调节环(503)以及若干调节叶片(507)，所述固定环(501)围绕反应槽(3)设置并且固定设于机箱主体(1)的上端，所述固定环(501)的外沿设有一圈台阶，所述转动环(502)转动安装于台阶上，所述固定环(501)的上表面与转动环(502)的上表面高度一致，所述调节环(503)位于转动环(502)的上方，所述调节环(503)与转动环(502)之间通过若干连接杆固定连接，所述调节叶片(507)呈弧形状，所述调节叶片(507)朝向内侧弯曲，所述转动环上等距设有若干转动柱(505)，所述转动柱(505)的数量与调节叶片(507)的数量一致并与调节叶片(507)一一对应，若干转动柱(505)围绕一圈设置，所述固定环上设有一圈与若干转动柱(505)一一对应的插柱(506)，所述调节叶片(507)的一端与转动柱(505)铰接，所述调节叶片(507)的下表面设有一条与插柱(506)匹配的约束槽(508)，所述插柱(506)插入约束槽(508)中，所述约束槽(508)的一端靠近转动柱(505)并且靠近调节叶片(507)的外侧边设置，所述约束槽(508)的另一端朝向背离转动柱(505)的方向并且靠近调节叶片(507)的内侧边延伸。

3.如权利要求1所述的低温搅拌反应浴装置，其特征在于，所述反应槽(3)的内壁上设有若干定位沿(14)，所述定位沿(14)在竖直方向上延伸，若干定位沿(14)围绕反应槽(3)的周向间隔分布，所述水浴罐(6)的外壁上设有若干与导向沿相匹配的定位槽(13)，所述定位沿(14)卡入定位槽(13)内设置。

4.如权利要求1所述的低温搅拌反应浴装置，其特征在于，所述反应槽(3)的内壁上沿着反应槽(3)的周向设有若干承托座，所述水浴罐(6)的下端承托在若干承托座上。

5.如权利要求1所述的低温搅拌反应浴装置，其特征在于，所述机箱主体(1)的底部设有若干万向轮(22)，所述机箱主体(1)内具有机构腔(16)，所述机构腔(16)位于机箱主体(1)的下部，所述支撑脚(2)的底部朝上延伸设有与机构腔(16)连通的通孔(21)，若干万向轮(22)分别位于若干通孔(21)内，所述机构腔(16)内设有与机箱主体(1)固定连接的承重板(17)以及位于承重板(17)下方上下移动的升降板(18)，所述升降板(18)的下表面朝下延伸设有若干分别插入若干通孔(21)内的安装柱(20)，所述万向轮(22)安装于安装柱(20)的下端，所述承重板(17)上安装有液压气缸(19)，所述液压气缸(19)的伸缩杆朝下与升降板(18)固定连接。

6.如权利要求5所述的低温搅拌反应浴装置，其特征在于，所述承重板(17)的下表面朝下延伸设有若干与机构腔(16)底部连接的导向柱(23)，所述升降板(18)上具有若干与导向柱(23)相匹配的导向孔，所述导向柱(23)穿过导向孔设置。