CN219457529U - 一种用于可以直接读取采集匹控制微观原理装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种用于可以直接读取采集匹控制微观原理装置,包括ICP刻蚀机底座,所述ICP刻蚀机底座顶端中部设置有控制腔室,所述控制腔室顶部一侧设置有气体流量计,所述ICP刻蚀机底座一侧设置有微观原理检测仪,所述微观原理检测仪正面底部等距均匀设置有控制按钮,所述微观原理检测仪正面顶部设置有控制屏幕。本实用新型通过提拉侧带在DRY ETCH微观原理检测仪侧面提供额外着力点,并通过防护胶片增加了微观原理检测仪侧面的摩擦力,通过DRY ETCH原理检测探头对控制腔室内部的VDC PV和VPP PV数值进行检测,使操作人员可以实时了解控制腔室内部的工作情况,进而有效的提高了半导体元件生产的便捷性。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体加工技术领域,具体为一种用于可以直接读取采集匹控制微观原理装置。
背景技术
目前在ICP刻蚀机运行的过程中,受刻蚀机内部结构的限制,ICP刻蚀机运行过程中无法对匹配器释放给线圈匹所产生的高频高压能量数值进行读取,同时无法对离子能量的VDC PV和VPP PV数值进行检测,进而降低了ICP刻蚀机使用的便捷性。
实用新型内容
本实用新型提供一种用于可以直接读取采集匹控制微观原理装置,可以有效解决上述背景技术中提出的技术问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种用于可以直接读取采集匹控制微观原理装置,包括ICP刻蚀机底座,所述ICP刻蚀机底座顶端中部设置有控制腔室,所述控制腔室顶部一侧设置有气体流量计;
所述ICP刻蚀机底座一侧设置有微观原理检测机构;
所述微观原理检测机构包括DRY ETCH微观原理检测仪、控制按钮、控制屏幕、RS232卡接口、电源接口、提拉侧带和防护胶片;
所述ICP刻蚀机底座一侧设置有DRY ETCH微观原理检测仪,所述DRY ETCH微观原理检测仪正面底部等距均匀设置有控制按钮,所述DRY ETCH微观原理检测仪正面顶部设置有控制屏幕,所述DRY ETCH微观原理检测仪外侧顶部一端等距均匀开设有RS232卡接口,所述DRY ETCH微观原理检测仪外侧底面中部开设有电源接口,所述DRY ETCH微观原理检测仪两侧中部均连接有提拉侧带,所述微观原理检测仪两侧中部对应提拉侧带内侧位置处粘接有防护胶片。
优选的,所述ICP刻蚀机底座内部设置有冷水机,所述控制腔室内侧底部设置有加工载台,且冷水机与加工载台之间通过管道相互连接,且控制腔室内部为真空环境,所述控制腔室内侧顶部设置有气体均布结构和释放高压高频能量的匹配器,且控制腔室内部设置有辅助的线圈匹配器;
所述控制腔室内部设置有DRY ETCH原理检测探头,且检测探头通过数据线与RS232卡接口接口相连接,所述电源接口与外部电源接头相连接。
优选的,所述微观原理检测仪一侧设置有辅助调节安装机构;
所述辅助调节安装机构包括连接卡环、安装侧板、连接侧座、连接底座、连接胶杆、连接顶座、调节顶座和连接卡爪;
所述微观原理检测仪背面一侧中部固定连接有连接卡环,所述ICP刻蚀机底座一侧顶部通过螺钉安装有安装侧板,所述安装侧板一侧中部固定连接有连接侧座,所述连接侧座一端中部通过连接栓安装有连接底座,所述连接底座一端中部粘接有连接胶杆,所述连接胶杆一端中部固定连接有连接顶座,所述连接顶座一端中部通过调节栓连接有调节顶座,所述调节顶座顶端中部固定连接有连接卡爪。
优选的,所述连接卡爪与连接卡环之间相互扣合,且连接卡爪外侧与连接卡环内壁之间紧密贴合。
优选的,所述微观原理检测仪正面设置有屏幕防护隔离机构;
所述屏幕防护隔离机构包括安装边槽、连接胶框、辅助卡槽和防护薄膜;
所述微观原理检测仪正面对应控制屏幕边部位置处开设有安装边槽,所述安装边槽内部卡接有连接胶框,所述连接胶框外侧两端斜面中部均开设有辅助卡槽,所述连接胶框内侧粘接有防护薄膜。
优选的,所述连接胶框外侧与安装边槽内壁之间紧密贴合,所述防护薄膜由透明柔性材料制成。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果:
1. 本实用新型设置了微观原理检测机构,通过微观原理检测仪顶部的RS232卡接口与控制腔室内部的检测探头相连接,通过控制按钮对微观原理检测仪进行控制,进而通过控制腔室内部的DRY ETCH原理检测探头对离子能量的VDC PV和VPP PV数值进行检测,并通过控制屏幕对检测的数值进行显示,进而实现了对控制腔室内部产品具体的形成过程的直观显示,同时通过提拉侧带在微观原理检测仪侧面提供额外着力点,并通过防护胶片增加了微观原理检测仪侧面的摩擦力,从而使微观原理检测仪掌握起来更加便捷,通过DRYETCH原理检测探头对控制腔室内部的VDC PV和VPP PV数值进行检测,使操作人员可以实时了解控制腔室内部的工作情况,进而有效的提高了半导体元件生产的便捷性;
2.本实用新型设置了辅助调节安装机构,通过安装侧板将连接侧座固定到ICP刻蚀机底座一侧,通过安装侧板将连接侧座及其上各组件一同安装到连接卡环边部,通过连接胶杆对连接底座和连接顶座之间进行连接,进而通过调节顶座将连接卡爪固定到ICP刻蚀机底座侧面,通过连接卡环与连接卡爪之间的卡接将微观原理检测仪安装到ICP刻蚀机底座侧面,同时通过连接胶杆对连接底座和连接顶座之间进行隔离,有效的防止了ICP刻蚀机底座产生的振动传递到微观原理检测仪上,使微观原理检测仪在使用过程中更加平稳,并通过连接卡环和连接卡爪之间的卡接式结构,使微观原理检测仪安装调节起来更加便捷;
3.本实用新型设置了屏幕防护隔离机构,通过安装边槽将连接胶框卡接到控制屏幕边部,并通过连接胶框将防护薄膜安装到控制屏幕外侧,同时通过辅助卡槽在连接胶框边部设置额外着力点,通过防护薄膜对控制屏幕外侧进行防护,有效的提高了微观原理检测仪的使用寿命,并通过辅助卡槽使连接胶框拆卸起来更加便捷,进而有效的提高了微观原理检测仪表面的清洁度。
附图说明
附图用来提供对本实用新型的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的限制。
在附图中:
图1是本实用新型的结构示意图;
图2是本实用新型微观原理检测机构的结构示意图;
图3是本实用新型辅助调节安装机构的结构示意图;
图4是本实用新型屏幕防护隔离机构的结构示意图;
图中标号:1、ICP刻蚀机底座;2、控制腔室;3、气体流量计;
4、微观原理检测机构;401、DRY ETCH微观原理检测仪;402、控制按钮;403、控制屏幕;404、RS232卡接口;405、电源接口;406、提拉侧带;407、防护胶片;
5、辅助调节安装机构;501、连接卡环;502、安装侧板;503、连接侧座;504、连接底座;505、连接胶杆;506、连接顶座;507、调节顶座;508、连接卡爪;
6、屏幕防护隔离机构;601、安装边槽;602、连接胶框;603、辅助卡槽;604、防护薄膜。
实施方式
以下结合附图对本实用新型的优选实施例进行说明,应当理解,此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
实施例:如图1-4所示,本实用新型提供一种技术方案,一种用于可以直接读取采集匹控制微观原理装置,包括ICP刻蚀机底座1,ICP刻蚀机底座1顶端中部设置有控制腔室2,控制腔室2顶部一侧设置有气体流量计3;
ICP刻蚀机底座1一侧设置有微观原理检测机构4;
微观原理检测机构4包括DRY ETCH微观原理检测仪401、控制按钮402、控制屏幕403、RS232卡接口404、电源接口405、提拉侧带406和防护胶片407;
ICP刻蚀机底座1一侧设置有DRY ETCH微观原理检测仪401,DRY ETCH微观原理检测仪401正面底部等距均匀设置有控制按钮402,DRY ETCH微观原理检测仪401正面顶部设置有控制屏幕403,DRY ETCH微观原理检测仪401外侧顶部一端等距均匀开设有RS232卡接口404,DRY ETCH微观原理检测仪401外侧底面中部开设有电源接口405,DRY ETCH微观原理检测仪401两侧中部均固定连接有提拉侧带406,DRY ETCH微观原理检测仪401两侧中部对应提拉侧带406内侧位置处粘接有防护胶片407,ICP刻蚀机底座1内部设置有冷水机,控制腔室2内侧底部设置有加工载台,且冷水机与加工载台之间通过管道相互连接,且控制腔室2内部为真空环境,控制腔室2内侧顶部设置有气体均布结构和释放高压高频能量的匹配器,且控制腔室2内部设置有辅助的线圈匹配器;
控制腔室2内部设置有DRY ETCH原理检测探头,且检测探头通过数据线与RS232卡接口404接口相连接,电源接口405与外部电源接头相连接,通过微观原理检测仪401顶部的RS232卡接口404与控制腔室2内部的检测探头相连接,通过控制按钮402对微观原理检测仪401进行控制,进而通过控制腔室2内部的DRY ETCH原理检测探头对离子能量的VDC PV和VPP PV数值进行检测,并通过控制屏幕403对检测的数值进行显示,进而实现了对控制腔室2内部产品具体的形成过程的直观显示,同时通过提拉侧带406在DRY ETCH微观原理检测仪401侧面提供额外着力点,并通过防护胶片407增加了DRY ETCH微观原理检测仪401侧面的摩擦力,从而使DRY ETCH微观原理检测仪401掌握起来更加便捷,通过DRY ETCH原理检测探头对控制腔室2内部的VDC PV和VPP PV数值进行检测,使操作人员可以实时了解控制腔室2内部的工作情况,进而有效的提高了半导体元件生产的便捷性;
DRY ETCH微观原理检测仪401一侧设置有辅助调节安装机构5;
辅助调节安装机构5包括连接卡环501、安装侧板502、连接侧座503、连接底座504、连接胶杆505、连接顶座506、调节顶座507和连接卡爪508;
DRY ETCH微观原理检测仪401背面一侧中部固定连接有连接卡环501,ICP刻蚀机底座1一侧顶部通过螺钉安装有安装侧板502,安装侧板502一侧中部固定连接有连接侧座503,连接侧座503一端中部通过连接栓安装有连接底座504,连接底座504一端中部粘接有连接胶杆505,连接胶杆505一端中部固定连接有连接顶座506,连接顶座506一端中部通过调节栓连接有调节顶座507,调节顶座507顶端中部固定连接有连接卡爪508,连接卡爪508与连接卡环501之间相互扣合,且连接卡爪508外侧与连接卡环501内壁之间紧密贴合,通过安装侧板502将连接侧座503固定到ICP刻蚀机底座1一侧,通过安装侧板502将连接侧座503及其上各组件一同安装到连接卡环501边部,通过连接胶杆505对连接底座504和连接顶座506之间进行连接,进而通过调节顶座507将连接卡爪508固定到ICP刻蚀机底座1侧面,通过连接卡环501与连接卡爪508之间的卡接将DRY ETCH微观原理检测仪401安装到ICP刻蚀机底座1侧面,同时通过连接胶杆505对连接底座504和连接顶座506之间进行隔离,有效的防止了ICP刻蚀机底座1产生的振动传递到DRY ETCH微观原理检测仪401上,使DRY ETCH微观原理检测仪401在使用过程中更加平稳,并通过连接卡环501和连接卡爪508之间的卡接式结构,使DRY ETCH微观原理检测仪401安装调节起来更加便捷;
DRY ETCH微观原理检测仪401正面设置有屏幕防护隔离机构6;
屏幕防护隔离机构6包括安装边槽601、连接胶框602、辅助卡槽603和防护薄膜604;
DRY ETCH微观原理检测仪401正面对应控制屏幕403边部位置处开设有安装边槽601,安装边槽601内部卡接有连接胶框602,连接胶框602外侧两端斜面中部均开设有辅助卡槽603,连接胶框602内侧粘接有防护薄膜604,连接胶框602外侧与安装边槽601内壁之间紧密贴合,防护薄膜604由透明柔性材料制成,通过安装边槽601将连接胶框602卡接到控制屏幕403边部,并通过连接胶框602将防护薄膜604安装到控制屏幕403外侧,同时通过辅助卡槽603在连接胶框602边部设置额外着力点,通过防护薄膜604对控制屏幕403外侧进行防护,有效的提高了DRY ETCH微观原理检测仪401的使用寿命,并通过辅助卡槽603使连接胶框602拆卸起来更加便捷,进而有效的提高了DRY ETCH微观原理检测仪401表面的清洁度。
本实用新型的工作原理及使用流程:本实用新型在实际应用过程中,在通过ICP刻蚀机底座1顶部的控制腔室2对半导体元件进行加工的过程中,为了解控制腔室2内部产品具体的形成过程,通过DRY ETCH微观原理检测仪401顶部的RS232卡接口404与控制腔室2内部的检测探头相连接,通过控制按钮402对DRY ETCH微观原理检测仪401进行控制,进而通过控制腔室2内部的DRY ETCH原理检测探头对离子能量的VDC PV和VPP PV数值进行检测,并通过控制屏幕403对检测的数值进行显示,进而实现了对控制腔室2内部产品具体形成过程的直观显示,同时通过提拉侧带406在DRY ETCH微观原理检测仪401侧面提供额外着力点,并通过防护胶片407增加了DRY ETCH微观原理检测仪401侧面的摩擦力,从而使DRYETCH微观原理检测仪401掌握起来更加便捷,通过DRY ETCH原理检测探头对控制腔室2内部的VDC PV和VPP PV数值进行检测,使操作人员可以实时了解控制腔室2内部的工作情况,进而有效的提高了半导体元件生产的便捷性;
在对DRY ETCH微观原理检测仪401进行安装的过程中,通过安装侧板502将连接侧座503固定到ICP刻蚀机底座1一侧,通过安装侧板502将连接侧座503及其上各组件一同安装到连接卡环501边部,通过连接胶杆505对连接底座504和连接顶座506之间进行连接,进而通过调节顶座507将连接卡爪508固定到ICP刻蚀机底座1侧面,通过连接卡环501与连接卡爪508之间的卡接将DRY ETCH微观原理检测仪401安装到ICP刻蚀机底座1侧面,同时通过连接胶杆505对连接底座504和连接顶座506之间进行隔离,有效的防止了ICP刻蚀机底座1产生的振动传递到DRY ETCH微观原理检测仪401上,使DRY ETCH微观原理检测仪401在使用过程中更加平稳,并通过连接卡环501和连接卡爪508之间的卡接式结构,使DRY ETCH微观原理检测仪401安装调节起来更加便捷;
在DRY ETCH微观原理检测仪401的使用过程中,需要对控制屏幕403进行防护,通过安装边槽601将连接胶框602卡接到控制屏幕403边部,并通过连接胶框602将防护薄膜604安装到控制屏幕403外侧,同时通过辅助卡槽603在连接胶框602边部设置额外着力点,通过防护薄膜604对控制屏幕403外侧进行防护,有效的提高了DRY ETCH微观原理检测仪401的使用寿命,并通过辅助卡槽603使连接胶框602拆卸起来更加便捷,进而有效的提高了DRY ETCH微观原理检测仪401表面的清洁度。
最后应说明的是:以上所述仅为本实用新型的优选实例而已,并不用于限制本实用新型,尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种用于可以直接读取采集匹控制微观原理装置,包括ICP刻蚀机底座(1),其特征在于:所述ICP刻蚀机底座(1)顶端中部设置有控制腔室(2),所述控制腔室(2)顶部一侧设置有气体流量计(3);
所述ICP刻蚀机底座(1)一侧设置有微观原理检测机构(4);
所述微观原理检测机构(4)包括DRY ETCH微观原理检测仪(401)、控制按钮(402)、控制屏幕(403)、RS232卡接口(404)、电源接口(405)、提拉侧带(406)和防护胶片(407);
所述ICP刻蚀机底座(1)一侧设置有DRY ETCH微观原理检测仪(401),所述DRY ETCH微观原理检测仪(401)正面底部等距均匀设置有控制按钮(402),所述DRY ETCH微观原理检测仪(401)正面顶部设置有控制屏幕(403),所述DRY ETCH微观原理检测仪(401)外侧顶部一端等距均匀开设有RS232卡接口(404),所述DRY ETCH微观原理检测仪(401)外侧底面中部开设有电源接口(405),所述DRY ETCH微观原理检测仪(401)两侧中部均连接有提拉侧带(406),所述DRY ETCH微观原理检测仪(401)两侧中部对应提拉侧带(406)内侧位置处粘接有防护胶片(407)。
2.根据权利要求1所述的一种用于可以直接读取采集匹控制微观原理装置,其特征在于,所述ICP刻蚀机底座(1)内部设置有冷水机,所述控制腔室(2)内侧底部设置有加工载台,且冷水机与加工载台之间通过管道相互连接,且控制腔室(2)内部为真空环境,所述控制腔室(2)内侧顶部设置有气体均布结构和释放高压高频能量的匹配器,且控制腔室(2)内部设置有辅助的线圈匹配器;
所述控制腔室(2)内部设置有DRY ETCH原理检测探头,且检测探头通过数据线与RS232卡接口(404)接口相连接,所述电源接口(405)与外部电源接头相连接。
3.根据权利要求1所述的一种用于可以直接读取采集匹控制微观原理装置,其特征在于,所述微观原理检测仪(401)一侧设置有辅助调节安装机构(5);
所述辅助调节安装机构(5)包括连接卡环(501)、安装侧板(502)、连接侧座(503)、连接底座(504)、连接胶杆(505)、连接顶座(506)、调节顶座(507)和连接卡爪(508);
所述微观原理检测仪(401)背面一侧中部固定连接有连接卡环(501),所述ICP刻蚀机底座(1)一侧顶部通过螺钉安装有安装侧板(502),所述安装侧板(502)一侧中部固定连接有连接侧座(503),所述连接侧座(503)一端中部通过连接栓安装有连接底座(504),所述连接底座(504)一端中部粘接有连接胶杆(505),所述连接胶杆(505)一端中部固定连接有连接顶座(506),所述连接顶座(506)一端中部通过调节栓连接有调节顶座(507),所述调节顶座(507)顶端中部固定连接有连接卡爪(508)。
4.根据权利要求3所述的一种用于可以直接读取采集匹控制微观原理装置,其特征在于,所述连接卡爪(508)与连接卡环(501)之间相互扣合,且连接卡爪(508)外侧与连接卡环(501)内壁之间紧密贴合。
5.根据权利要求1所述的一种用于可以直接读取采集匹控制微观原理装置,其特征在于,所述微观原理检测仪(401)正面设置有屏幕防护隔离机构(6);
所述屏幕防护隔离机构(6)包括安装边槽(601)、连接胶框(602)、辅助卡槽(603)和防护薄膜(604);
所述微观原理检测仪(401)正面对应控制屏幕(403)边部位置处开设有安装边槽(601),所述安装边槽(601)内部卡接有连接胶框(602),所述连接胶框(602)外侧两端斜面中部均开设有辅助卡槽(603),所述连接胶框(602)内侧粘接有防护薄膜(604)。
6.根据权利要求5所述的一种用于可以直接读取采集匹控制微观原理装置,其特征在于,所述连接胶框(602)外侧与安装边槽(601)内壁之间紧密贴合,所述防护薄膜(604)由透明柔性材料制成。
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