CN219147482U - 清洁装置和智能清洁系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一清洁装置和智能清洁系统，其中所述清洁装置包括设备主机，所述设备主机包括底盘；识别系统，所述识别系统被设置于所述底盘，所述识别系统至少包括一光谱模组和一光源模组，所述光源模组发出的光线经待测物反射后被所述光谱模组接收，得到测量信号；以及参照标板，所述光源模组发出的光经所述参照标板反射后被所述光谱模组接收得到参考信号，所述参考信号校准所述测量信号以得到待测物的光谱信息。

Description

清洁装置和智能清洁系统

技术领域

本实用新型涉及智能清洁领域，尤其涉及清洁装置和智能清洁系统。

背景技术

随着智能清洁技术的发展，智能清洁系统走进越来越多的家庭，如扫地机器人很大程度上减轻了人们房屋清扫的负担。

家庭中的地板材质多样，例如既有木板、瓷砖等硬质地板，也有地毯、地垫等软质地板。同时，地板上也会存在干污渍、湿污渍等污渍。现有技术中，通常对于地板污渍多和污渍少的地方、对硬质地板和软质地板的清洁方式是相同的，这样不仅导致清洁效果不理想，而且不利于清洁效率的提高。因此需优化智能清洁系统使其具有不同的清理模式的前提，就是要准确对待测物进行识别。

随着人工智能技术的迅猛发展，以及光学材料和芯片技术的快速发展，光谱传感器的成本显著降低，光谱作为信息感知技术的重要信息载体由科研和工业领域逐步走进大众消费领域。其中可见、近红外光谱成本较低，能量穿透性适中，而且可以使用漫反射的测量方式，非常适合于大众消费使用。通常该波段光谱反映基团3～4级倍频信息，谱带重叠严重，光谱稳定性的优劣是模型稳定性和能够长期使用的关键，此时可以结合机器学习技术或者化学计量学方法建立定量或者模式识别模型，同时，随着设备使用时间的延长，光源和电子元器件以及周围温度、湿度的变化都有可能引起光谱的稳定性变差。

鉴于此，如何精确识别不同类型的地板和污渍，从而使得清洁装置和智能清洁系统更加专业的工作成为了亟需解决的问题。

实用新型内容

本实用新型的一个主要优势在于提供一清洁装置和智能清洁系统，其中所述清洁装置根据光与物质发生相互作用而产生特定光谱，从而可以实现精准的物质识别，有利于提高待测物识别准确度。

本实用新型的另一个优势在于提供一清洁装置和智能清洁系统，其中所述清洁装置或者智能清洁系统具有参照标板，所述光源模组发出的光经所述参照标板反射后被所述光谱模组接收得到参考信号，所述参考信号校准所述测量信号以得到待测物的光谱信息，从而提高了获取到的待测物光谱的稳定性。

本实用新型的另一个优势在于提供一清洁装置和智能清洁系统，光源模组发出的光经所述参照标板反射后被所述光谱模组接收得到参考信号，所述参考信号校准所述测量信号以得到待测物的光谱信息，从而有利于提高识别的精确度。

本实用新型的另一个优势在于提供一清洁装置和智能清洁系统，其中所述清洁装置或者智能清洁系统，采用参照标版对光谱信号进行校准，能够实时校正光谱信号自身的波动而不影响对材质和污渍的区分，有利于解决外部坏境改变和内部器件老化等带来的误差问题。

本实用新型的另一个优势在于提供一清洁装置和智能清洁系统，其中所述清洁装置或者智能清洁系统，采用Kubelka-Munk方程对光谱信息进一步优化，从而有利于提高识别的精确度。

本实用新型的另一个优势在于提供一清洁装置和智能清洁系统，其中所述清洁装置或者智能清洁系统，所述底盘至少部分为透光元件，所述透光元件与所述主机主体形成密闭空间，所述光源模组和所述光谱模组设置于所述密闭空间，不仅可以防水防尘，而且也不会影响光线传播。

本实用新型的另一个优势在于提供一清洁装置和智能清洁系统，其中所述智能清洁系统具有基站，所述参照标板设置于所述基站，有利于在实际应用中根据需要灵活设置所述参照标板的位置。

本实用新型的另一个优势在于提供一清洁装置和智能清洁系统，其中所述识别系统被设置于所述设备主机的底部，通过所述识别系统进行地板类型、污渍类型识别后，采取不同的清洁模式进行清洁，例如从地板进入到地毯，需要增加吸力。

依本实用新型的第一个方面，能够实现前述目的和其他目的和优势的本实用新型的一种地面清洁装置，包括：

设备主机，所述设备主机包括底盘；

识别系统，所述识别系统被设置于所述底盘，所述识别系统至少包括一光谱模组和一光源模组，所述光源模组发出的光线经待测物反射后被所述光谱模组接收，得到测量信号；以及

参照标板，所述光源模组发出的光经所述参照标板反射后被所述光谱模组接收得到参考信号，所述参考信号校准所述测量信号以得到待测物的光谱信息。

根据本实用新型的优选实施例，其中所述参照标板被设置于所述设备主机。

根据本实用新型的优选实施例，所述清洁装置进一步包括一制动器，其中所述制动器与所述参照标板相连接，通过所述制动器可驱动所述参照标板沿特定方向移动；当所述测量信号需要校准时，所述参照标板被所述制动器驱动至所述识别系统的感光路径上。

根据本实用新型的优选实施例，所述参照标板构造为反射率大于90％，且在所述光谱模组工作波段无吸收的反射件。

根据本实用新型的优选实施例，所述参照标板为陶瓷制品、PTFE制品或镀金膜物。

根据本实用新型的优选实施例，所述光源模组至少包括一发光元件和一光源线路板，其中所述发光元件被固定于所述光源线路板并电导通。

根据本实用新型的优选实施例，所述光源模组进一步包括一匀光件，其中所述匀光件被设置于所述发光元件的出光侧。

根据本实用新型的优选实施例，所述光谱模组至少包括一光谱芯片和一光谱线路板，所述光谱芯片被电连接于所述光谱线路板。

根据本实用新型的优选实施例，所述光谱模组进一步包括光学组件，所述光学组件被设置于所述光谱芯片的感光路径上。

根据本实用新型的优选实施例，其中所述设备主机进一步包括透光元件，其中所述透光元件被设置于所述底盘，且所述透光元件与所述识别系统相对应。

根据本实用新型的优选实施例，所述透光元件为防水玻璃。

依本实用新型的第二个方面，提供一种智能清洁系统，包括：基站；和

如前述的清洁装置，其中所述基站与所述清洁装置电气连接，所述基站用于为所述清洁装置提供电能。

依本实用新型的第三个方面，提供一种智能清洁系统，所述智能清洁系统包括基站和清洁装置，其中，所述清洁装置包括：

设备主机，所述设备主机包括底盘；和

识别系统，所述识别系统被设置于所述底盘，所述识别系统至少包括一光谱模组和一光源模组，所述光源模组发出的光线经待测物反射后被所述光谱模组接收，得到测量信号；

所述基站包括参照标板，所述光源模组发出的光经所述参照标板反射后被所述光谱模组接收得到参考信号，所述参考信号校准所述测量信号以得到待测物的光谱信息。

通过对随后的描述和附图的理解，本实用新型进一步的目的和优势将得以充分体现。

本实用新型的这些和其它目的、特点和优势，通过下述的详细说明和附图得以充分体现。

附图说明

在附图中示出了本实用新型的示例性实施例。本文所公开的实施例和附图应被视作说明性的，而非限制性的。另外值得注意的是，为了图示清楚起见，在附图中对于部分结构细节并不是按照实际比例绘制的。

图1是本实用新型清洁装置的光谱信息校准原理的示意图。

图2是根据本实用新型的所述识别系统的结构示意图。

图3是根据本实用新型的所述识别系统的一种具体实施方式的结构示意图。

图4是根据本实用新型的所述光谱芯片的结构示意图。

图5A至图5B是本实用新型的所述清洁装置的具体实施方式的结构示意图。

图6是本实用新型的所述智能清洁系统中所述参照标板在所述识别系统中的结构示意图。

图7A和图7B是本实用新型的所述智能清洁系统中所述参照标板的工作示意图。

图8是本实用新型的所述智能清洁系统中所述参照标板在所述基站的结构示意图。

图9是本实用新型的所述智能清洁系统的整体示意图。

具体实施方式

下面将结合附图，对本实用新型实施例的技术方案进行描述。显然，所描述的实施例仅涉及本实用新型的一部分实施形式，而非全部的实施形式。基于本实用新型公开的实施例，本领域普通技术人员在无需做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。本申请的说明书和权利要求书中的术语“包括”和“具有”以及它们的任何变换措辞，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、产品或设备并不局限于已列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有具体列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其他步骤或单元。

本领域技术人员应理解的是，在本申请说明书和权利要求书的描述当中，某些术语所指示的方位或位置关系是基于附图所示的方位或位置关系而言的，其仅仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而非表示或暗示所指的装置、机构、结构或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此上述术语不能理解为对本实用新型的限制。

在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本实用新型的至少一个实施形式中。在说明书中的各个位置出现该措辞并不一定均是指相同的实施例，也不是与其他实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其他实施例相结合。

除非另有限定，否则本文中使用的所有用语(包括技术用语和科学用语)，均具有与本领域普通技术人员通常理解相同的含义，并可依据它们在相关技术描述上下文中的语境作具体解释。

参照本实用新型说明书附图之图1至图9所示，依照本实用新型的清洁装置和智能清洁系统在接下来的描述中被阐明，其中所述清洁装置包括设备主机10和被设置于所述设备主机10的至少一识别系统20，所述设备主机10包括底盘11和连接于所述底盘的主机主体12；所述识别系统20被设置于所述底盘11，所述识别系统20至少包括至少一光谱模组21和至少一光源模组22，所述光源模组22发出的光线经待测物25反射后被所述光谱模组21接收，得到测量信号I_sample；所述待测物25可以为地板、亦可以为污渍等。其中，所述清洁装置进一步包括参照标板24，所述光源模组22发出的光经所述参照标板24反射后被所述光谱模组21接收，并获取参考信号I_reference。值得一提的是，在本申请的该优选实施例中，所述清洁装置根据所述参考信号I_reference和所述测量信号I_sample精确识别所述待测物25。图1是本实用新型清洁装置的光谱信息校准原理的示意图。

由于物质的光谱可从分子水平上反映物质的组成与结构信息，因此是识别该物质独一无二的理想信号，从而可依此精准的识别出该物质。尤其在智能清洁领域，由于不同的地板、污渍对不同波段的光的吸收率、反射率不同，因此可以通过测量信号I_reference判断地板类型和地面污渍类型。但是由于光谱模组21、光源模组22等可能会存在误差，例如器件老化、组装精度等造成误差。因此，简单的测量信号较难精确判断地板类型，地面污渍类型等，基于此，本实用新型提出了一种光谱检测与化学计量学方法结合的识别方法，能够实时校正光谱信号自身的波动而不影响对材质和污渍的区分。因此，在本实用新型的优选实施例中，所述清洁装置的所述识别系统20基于待测地面的光谱特性得到光谱信息，又通过设置校正部件来实时校准光谱信息，从而得到稳定的待测物的光谱信息，使得地板类型和污渍类型被精确识别。

根据本实用新型的一个优选实施例，所述测量信号I_sample经过参考信号I_reference校准后得到待测物的光谱信息，再根据Kubelka-Munk(K-M)修正方程对光谱信息进一步修正：

其中，c为样品浓度，K为样品摩尔吸收率，k为吸收系数，s为散射系数，R_∞为漫反射率。实际上s对于特定的样品为常数，而对于不同待测物(地板和污渍)，则带有相关分类信息。

考虑到在智能清洁系统中，待测物通常为材质范围有限的地面或污渍，因此公式可以简化为：

利用

结合机器学习实现清洁装置对地板或污渍的精确识别后而进一步进行的模式切换。

根据本实用新型的一个优选实施例，所述识别系统20的所述光谱模组21和所述光源模组22作为一个整体被安装在所述设备主机10的所述底盘11上。可选地，在本申请的另一可选实施方式中，所述识别系统20的所述光源模组22和所述光谱模组21被相互独立地和相互间隔地安装在所述底盘11上。

图2是根据本实用新型的所述识别系统的结构示意图，其中所述光源模组22邻近于所述光谱模组21，并且所述光谱模组21和所述光源模组22被设置于所述底盘11。所述光源模组22自所述设备主机10的底部朝地面的方向投射特定的光，光经所述地面或地板反射后形成的反射光被所述光谱模组21接收，其中所述光谱模组21通过所述光谱模组获取测量信号I_sample。

有利的是，光源模组22照射到参照标板24上的光和照射到待测物上的光是完全相同的，有利于参照标板的参考信号对待测物的测量信号进行精确的校准。

如图3所示，所述光谱模组21包括一光谱芯片211和一线路板212，所述光谱芯片211被设置于所述线路板212，并电导通于所述线路板212。所述光谱芯片211用以接收所述光源模组22投射光被待识别物质反射后的光，获取对应的测量信号I_sample。进一步，所述光谱模组21进一步包括光学组件213，其中所述光学组件213位于所述光谱芯片211的光学路径上，对被入射的光进行调整，所述光学组件213可以实施为镜头和/或匀光件等，例如可以实施为镜头和匀光件的组合，镜头对反射光进行调整，匀光件对至少部分反射光进行匀化。所述光谱模组21进一步包括支架214，其中所述支架214被设置于所述线路板212，并且所述光学组件213被所述支架214固定并保持在所述光谱芯片211的所述感光路径。

根据本实用新型的一个优选实施例，所述光学组件214可以为匀光件、透镜组、滤光片等中的一种或者多种组合。

图4是根据本实用新型的所述光谱芯片的结构示意图。所述光谱芯片211包括一滤光结构2111和一图像传感器2112，其中所述滤光结构2111位于所述图像传感器2112的感光路径上，所述滤光结构2111优选地为频域或者波长域上的宽带调制的滤光结构2111。各处滤光结构2111不同波长的透过率不完全相同。需要说明的是，滤光结构2111优选为宽谱调制的滤光结构2111，但也可以为窄带滤光结构2111；进一步，所述滤光结构2111可以是超表面、光子晶体、纳米柱、多层膜、染料、量子点、MEMS(微机电系统)、FP etalon(FP标准具)、cavity layer(谐振腔层)、waveguide layer(波导层)、衍射元件等具有滤光特性的结构或者材料。例如，在本申请实施例中，所述滤光结构2111可以是中国专利CN201921223201.2中的调制单元，即所述滤光结构2111由调制孔构成。图像传感器2112可以是CMOS图像传感器(CIS)、CCD、阵列光探测器等。所述光谱模组211进一步包括数据处理单元2113，所述数据处理单元2113可以是MCU、CPU、GPU、FPGA、NPU、ASIC等处理单元，其可以将图像传感器生成的数据导出到外部进行处理亦可以集成于所述图像传感器2112对光谱信息直接进行处理。

优选地，在本申请的一个较佳实施例中，所述光源模组22关于所述光谱模组21呈对称分布，可以沿圆环、方形环、或者左右多点对称分布，即在本实用新型中可以具有一个或多个发光元件，分布于所述光谱模组21的周围。

所述光谱模组21和所述光源模组22被设置于所述设备主机10的底部，尤其设置在所述透光元件13与所述主机主体12形成的密闭空间中，由于密闭空间的底部为透光元件，因此不仅可以防水防尘，而且也不会影响光源模组22和光谱模组21之间的光线传播。

进一步地，工作时，一方面，所述光源模组22自所述底盘11的透明组件朝地面的方向投射特定的光，光经所述待检测物(地板或者污渍)反射后形成的反射光经过透明组件被所述光谱模组21接收得到测量信号I_sample，另一方面，所述光源模组22发出的光经参照标板24反射后形成的反射光被所述光谱模组21接收得到参考信号I_reference，使用参考信号I_reference对测量信号I_sample校准和优化后，得到更加准确的光谱信息，依此光谱信息推断出地板类型或物质类别，如图1所示。

根据本实用新型的一个优选实施例，所述清洁系统的所述设备主机10设有多种清洁模式，当所述识别系统20识别出所述待测物的污渍类型或地面类型后，由所述设备主机10根据所述识别系统20识别出的信息设定或调整清洁模式。例如液体清洁模式和颗粒物清洁模式，其中所述设备主机10的所述液体清洁模式和颗粒物清洁模式具有不同的清洁力度或方式，比如吸力不同、清扫力度不同或者工作程序不同，以适应不同的清洁场景。

图5A是本实用新型的所述清洁装置的一种具体实施方式的结构示意图。所述光源模组22包括至少一发光元件221和一光源线路板222，所述发光元件221被固定于所述光源线路板222并电导通，所述发光元件可选用LED，其中所述发光元件为白光LED，或者特定波长的单色LED，例如红绿蓝+NIR的光学组合。需要说明的是，由于存在待识别的地板或物质对不同波段的光谱吸收/反射程度不同。因此，如果知道待识别物质的敏感波段(亦可以叫做特征峰所在波段范围)，可以有针对性的选择发射对应波段的发光元件。所述光源模组22进一步还可以包括一匀光件223，其中所述匀光件223位于所述发光元件221的出光侧，并对发光元件221投射出的光进行匀化，如图3。优选地，所述光源模组22可以实施为一个或多个，并且当所述光源模组22的数量为多个时，所述光源模组22以等间隔地和环绕地排布于所述光谱模组21的周边。

如图5B所示，在本申请的另一可选实施方式中，所述识别系统20为一体式结构，其中所述光源模组22被设置于所述光谱模组21的所述线路板212，且所述光源模组22与所述光谱模组21的所述线路板212相电连接。所述光源模组22包括至少一发光元件221，其中所述至少一发光元件221被设置于所述光谱模组21的所述线路板212，且所述至少一发光元件221与所述线路板212相电连接，如图3。简言之，在本申请的该优选实施例中，所述识别系统20作为一个整体的模组器件被整体地安装在所述设备主机10的所述底盘11。

作为示例的，在本实用新型的该优选实施例中，所述光谱模组21和所述光源模组22被嵌入到所述底盘11，可有效避免所述清洁装置在运行过程中所述识别系统20收到损伤。

根据本实用新型的一个优选实施例，所述清洁装置的所述设备主机10进一步包括透光元件13，其中所述透光元件13被设置在所述底盘11，且所述识别系统20位于所述透光元件13的上方，如图5A至图7所示。所述透光元件13允许光通过，其中所述识别系统20的所述光源模组22通过所述透光元件13将光向外投射，地面的反射光可通过所述透光元件13并被所述光谱模组21接收。值得一提的是，在本申请的该优选实施例中，所述设备主机10的所述底盘11、所述主机主体12以及所述透光元件13形成一个密封的壳体结构，所述识别系统20被保持在所述设备主机10内部。作为优选地，在本申请的该优选实施例中，所述透光元件13为防水玻璃。

可选地，在本申请的另一可选实施例中，所述清洁装置具有防水性能，并且所述底盘11的部分构造为所述透光元件，例如将所述底盘部分或者全部设置为防水玻璃，不仅可以防水防尘，而且也不会影响光源模组22和光谱模组21之间的光线传播。

根据本实用新型的一个优选实施例，所述参照标板24被构造为反射率大于90％，在光谱模组工作波段无吸收的反射件。例如紫外、可见光、近红外波段中的至少一个波段具有无吸收。

优选地，所述参照标板24构造为所述参照标板为陶瓷制品、PTFE制品或镀金膜物。

有利的是，所述参照标板24在所述清洁系统中的位置设置相对灵活，既可以设置在清洁装置内的光谱芯片的感光路径上，还可以设置于清洁装置外的固定设备上。据此，本实用新型提出一种智能清洁系统，所述智能清洁系统包括基站30和如上所述的清洁装置，其中所述参照标板24可被设置于所述基站30，通过所述基站30为所述清洁装置的所述设备主机10充电。

针对参照标板24灵活设置的特性，本实用新型提出了两个实施例加以说明。

实施例一：

本实用新型提出一种智能清洁系统，包括：基站；和前述的清洁装置，其中所述基站与所述清洁装置电气连接，所述基站用于为所述清洁装置提供电能。

图6是本实用新型的所述智能清洁系统中所述参照标板在所述识别系统中的结构示意图，特别是所述参照标板24设置在所述识别系统20内部。此外，所述清洁装置进一步包括一制动器40，其中所述制动器40与所述参照标板24相连接，通过所述制动器40可驱动所述参照标板24沿特定方向移动。当所述清洁装置需要标定或校准时，所述参照标板24可被所述制动器40驱动至所述识别系统20的感光路径上，所述光源模组22发出的光投射至所述参照标板24，并且所述光谱模组21接收来自所述参照标板24的反射光，以获取所述参考信号I_reference。当所述清洁装置在清洁工作时，由所述制动器40驱动所述参照标板24回复至初始位置，其中所述光源模组22发出的光投射至待测地面，并且所述光谱模组21接收来自所述待测地面的反射光，以获取所述测量信号I_sample。

作为优选地，图7A和图7B是本实用新型的所述智能清洁系统中所述参照标板的工作示意图。图7A中参照标板24使用电机或者快门控制，采集参考信号I_reference时，参照标板24被弹出并对待测物形成遮挡，光谱模组21收集参照信号I_reference；当采集待测物信号时，参照标板24被收起，光源模组22的光照射到待测物上，光谱模组21收集待测物测量信号I_sample，如图7B所示。

作为优选地，所述参照标板24被可往复驱动地设置在所述位于所述透光元件13和所述光谱模组21之间，所述参照标板24与所述制动器40相连接，由所述制动器40驱动所述参照标板24可往复地移动。在标定或校准时，由所述制动器40驱动所述参照标板24移动至所述光谱模组21的感光路径上；当在工作时，由所述制动器40驱动所述参照标板24回到初始位置，从而使得光源模组22发射光可以到达地面，再经过反射回到光谱模组21。一方面可以使得参照标板24不暴露在大气中，另一方面可以确保光源模组22投射至所述参照标板24，产生的反射光被所述光谱模组21接收。

可选地，在本申请的另一可选实施例中，所述参照标板24被固定在所述设备主机10。

优选地，所述制动器40可以根据需求设置为shutter(活动百叶)、电机等，例如参照标板需要快速切换则可以实施为shutter，如果需要稳定切换则可以实施为电机。

由于本实施例所述参照标板24被设置于所述清洁装置内部，因此可以随时根据需要进行校准。

实施例二：

本实用新型提出一种智能清洁系统，所述智能清洁系统包括基站和清洁装置，其中，所述清洁装置包括：

设备主机，所述设备主机包括底盘；和

识别系统，所述识别系统被设置于所述底盘，所述识别系统至少包括一光谱模组和一光源模组，所述光源模组发出的光线经待测物反射后被所述光谱模组接收，得到测量信号；

所述基站包括参照标板，所述光源模组发出的光经所述参照标板反射后被所述光谱模组接收得到参考信号，所述参考信号校准所述测量信号以得到待测物的光谱信息。

图7是本实用新型的所述智能清洁系统中所述参照标板在所述基站的结构示意图。本实施例中，所述清洁系统包括基站30，所述参照标板24设置于所述基站30而非清洁装置中，同时所述设备主机中具有存储单元和处理单元，在每次设备主机进入工作状态前，所述光源模组22投射光至所述参照标板24，再产生反射光，所述光谱模组21接收反射光，获得参考信号I_reference，将所述参考信号储存于设备主机的存储单元，在需要校对和优化的时候直接使用，即每次清洁装置在工作前都获取一次参考信号，清洁装置在清洁过程中，所述光源模组22投射光至待测物，产生反射光，所述反射光进入所述光谱模组21被所述光谱芯片接收，获取测量信号I_sample，通过处理单元对测量信号I_sample和参考信号I_reference进行处理，从而识别地板类型或污渍类型。

根据本实用新型的一个优选实施例，所述存储单元和处理单元均设置为所述光谱芯片211的数据处理单元2113的子单元。

根据本实用新型的一个优选实施例，所述清洁系统所包含的基站30除了具有所述参照标板24外，所述基站还可以为所述清洁装置充电、停靠清洁装置等功能。

根据本实用新型的一个优选实施例，由于本实施例所述参照标板24被设置于所述清洁装置外部的基站30，因此可以设置所述清洁装置与所述基站通信，根据需要进行校准，有利于解决外部坏境改变和内部器件老化等带来的误差，提高整体识别精度。根据需要可以多次取得参考信号I_reference，而不限定仅在启动清洁装置时取得参考信号I_reference。

图8是本实用新型的所述智能清洁系统的整体示意图。其中，所述清洁装置方便快速地获取待测物(如地板材质、污渍等)的光谱信号，并由所述识别系统20传输至所述设备主机10，以便所述设备主机10根据所述识别系统20识别出的所述地板和所述污渍的信息制定相应的清洁策略，以快速实现地板、地毯、地砖材质的识别以及油料污渍、水溶性污渍和干污渍的快速区分。

以上描述仅为本申请的较佳实施方式以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解，本申请中所涉及的实用新型范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离所述实用新型构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。

Claims (13)

1.一种清洁装置，其特征在于，包括：

设备主机，所述设备主机包括底盘；

识别系统，所述识别系统被设置于所述底盘，所述识别系统至少包括一光谱模组和一光源模组，所述光源模组发出的光线经待测物反射后被所述光谱模组接收，得到测量信号；以及

参照标板，所述光源模组发出的光经所述参照标板反射后被所述光谱模组接收得到参考信号，所述参考信号校准所述测量信号以得到待测物的光谱信息。

2.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，其中所述参照标板被设置于所述设备主机。

3.根据权利要求2所述的清洁装置，其特征在于，所述清洁装置进一步包括一制动器，其中所述制动器与所述参照标板相连接，通过所述制动器可驱动所述参照标板沿特定方向移动；当所述测量信号需要校准时，所述参照标板被所述制动器驱动至所述识别系统的感光路径上。

4.根据权利要求3所述的清洁装置，其特征在于，所述参照标板构造为反射率大于90％，且在所述光谱模组工作波段无吸收的反射件。

5.根据权利要求4所述的清洁装置，其特征在于，所述参照标板为陶瓷制品、PTFE制品或镀金膜物。

6.根据权利要求3所述的清洁装置，其特征在于，所述光源模组至少包括一发光元件和一光源线路板，其中所述发光元件被固定于所述光源线路板并电导通。

7.根据权利要求6所述的清洁装置，其特征在于，所述光源模组进一步包括一匀光件，其中所述匀光件被设置于所述发光元件的出光侧。

8.根据权利要求3所述的清洁装置，其特征在于，所述光谱模组至少包括一光谱芯片和一光谱线路板，所述光谱芯片被电连接于所述光谱线路板。

9.根据权利要求8所述的清洁装置，其特征在于，所述光谱模组进一步包括光学组件，所述光学组件被设置于所述光谱芯片的感光路径上。

10.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，其中所述设备主机进一步包括透光元件，其中所述透光元件被设置于所述底盘，且所述透光元件与所述识别系统相对应。

11.根据权利要求10所述的清洁装置，其特征在于，所述透光元件为防水玻璃。

12.一种智能清洁系统，其特征在于，包括：

基站；和

如权利要求1至11任一项所述的清洁装置，其中所述基站与所述清洁装置电气连接，所述基站用于为所述清洁装置提供电能。

13.一种智能清洁系统，其特征在于，所述智能清洁系统包括基站和清洁装置，其中，所述清洁装置包括：

设备主机，所述设备主机包括底盘；和

识别系统，所述识别系统被设置于所述底盘，所述识别系统至少包括一光谱模组和一光源模组，所述光源模组发出的光线经待测物反射后被所述光谱模组接收，得到测量信号；

所述基站包括参照标板，所述光源模组发出的光经所述参照标板反射后被所述光谱模组接收得到参考信号，所述参考信号校准所述测量信号以得到待测物的光谱信息。

Images