CN219111956U - 一种高容错的阵列式雾化喷嘴装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种高容错的阵列式雾化喷嘴装置，涉及人造板材净化技术领域，其可至少部分解决现有技术中单排式药剂喷嘴容错率不高的问题。本实用新型实施例一的一种高容错的阵列式雾化喷嘴装置，包括至少两排平行设置的单排式雾化组件，分别为单排式雾化组件A和单排式雾化组件B，单排式雾化组件A包括若干朝向板材设置的雾化喷口A，单排式雾化组件B包括若干朝向板材设置的雾化喷口B，若干雾化喷口A和若干雾化喷口B沿板材移动方向重合设置。

Description

一种高容错的阵列式雾化喷嘴装置

技术领域

本实用新型涉及人造板材净化技术领域，具体涉及一种高容错的阵列式雾化喷嘴装置。

背景技术

人造板材中含有大量的甲醛等挥发性的有害气体，因此，需要对其进行净化处理，目前，人造板材进行净化处理时需要将人造板送入高温舱中，使得甲醛等挥发性的有害气体在高温环境中快速从人造板材中释放出来，在高温净化处理后，还需要对人造板材喷涂药剂，以进一步除醛。

目前，如图1和图2所示，在人造板材的药剂喷洒工艺中，主要通过一排单排式雾化组件的若干雾化喷口向人造板喷洒药剂，人造板在移动的过程中，单排式雾化组件的雾化喷口喷出的雾化药剂即可使得人造板材的整面均被喷涂药剂，但是现有的单排式雾化组件，容错性不高，一旦其中有一个喷口无法喷出雾化药剂，则会直接影响到人造板材中的一个区域无法被喷上药剂，而直接进行维护容易影响到整个人造板材净化的进度，因此，设计出一种容错性更高的喷嘴结构，是本申请所要解决的问题。

有鉴于此，特提出本申请。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种高容错的阵列式雾化喷嘴装置，用于解决现有技术中单排式药剂喷嘴容错率不高的问题。

本实用新型的一种高容错的阵列式雾化喷嘴装置，包括至少两排平行设置的单排式雾化组件，分别为单排式雾化组件A和单排式雾化组件B，单排式雾化组件A包括若干朝向板材设置的雾化喷口A，单排式雾化组件B包括若干朝向板材设置的雾化喷口B，若干雾化喷口A和若干雾化喷口B沿板材移动方向重合设置。

在一些可选的实施例中，所述单排式雾化组件A包括内部设有储液通道A的储液管A，所述若干雾化喷口A均与储液通道A连通，储液通道A的进液口处设有第一电磁阀；

所述单排式雾化组件B包括内部设有储液通道B的储液管B，所述若干雾化喷口B均与储液通道B连通，储液通道B的进液口处设有第二电磁阀。

在一些可选的实施例中，所述储液管A上设有若干用于将药液雾化的雾化模块A，若干雾化喷口A与若干雾化模块A相对应，雾化喷口A通过雾化模块A与所述储液通道A连通；

所述储液管B上设有若干用于将药液雾化的雾化模块B，若干雾化喷口B与若干雾化模块B相对应，雾化喷口B通过雾化模块B与所述储液通道B连通。

在一些可选的实施例中，还包括单排式补偿雾化组件A和单排式补偿雾化组件B；

单排式补偿雾化组件A包括若干朝向板材设置的补偿雾化喷口A，单排式补偿雾化组件B包括若干朝向板材设置的补偿雾化喷口B；

若干补偿雾化喷口A和补偿雾化喷口B均沿板材移动方向与所述若干雾化喷口A交错间隔设置。

在一些可选的实施例中，所述若干补偿雾化喷口A和若干补偿雾化喷口B沿板材移动方向均重合设置，且若干补偿雾化喷口A和若干补偿雾化喷口B均沿板材移动方向位于两个相邻的所述雾化喷口A的中间位置。

在一些可选的实施例中，所述单排式补偿雾化组件A和单排式补偿雾化组件B与所述单排式雾化组件A和单排式雾化组件B交错间隔设置。

在一些可选的实施例中，所述单排式补偿雾化组件A包括内部设有补偿储液通道A的补偿储液管A，补偿储液通道A的进液口与所述储液通道A的进液口连通，且连通处位于第一电磁阀与储液通道A的进液口之间；

所述单排式补偿雾化组件B包括内部设有补偿储液通道B的补偿储液管B，补偿储液通道B的进液口与所述储液通道B的进液口连通，且连通处位于第二电磁阀与储液通道B的进液口之间。

在一些可选的实施例中，所述单排式补偿雾化组件A包括内部设有补偿储液通道A的补偿储液管A，所述单排式补偿雾化组件B包括内部设有补偿储液通道B的补偿储液管B；

还包括设于补偿储液通道A的进液口处的第三电磁阀和设于补偿储液通道B的进液口处的第四电磁阀。

在一些可选的实施例中，还包括用于提供药液的供液管道，所述储液通道A、所述储液通道B、所述补偿储液通道A、所述补偿储液通道B均与同一供液管道连通；所述第一电磁阀设于储液通道A与供液管道之间；

所述第二电磁阀设于储液通道B与供液管道之间；所述第三电磁阀设于补偿储液通道A与供液管道之间；所述第四电磁阀设于补偿储液通道B与供液管道之间。在一些可选的实施例中，所述若干补偿雾化喷口A和若干补偿雾化喷口B的大小相同且均小于所述雾化喷口A和雾化喷口B的尺寸大小。

本实用新型的有益效果：

本实用新型的一种高容错的阵列式雾化喷嘴装置，包括至少两排平行设置的单排式雾化组件，分别为单排式雾化组件A和单排式雾化组件B，单排式雾化组件A包括若干朝向板材设置的雾化喷口A，单排式雾化组件B包括若干朝向板材设置的雾化喷口B，若干雾化喷口A和若干雾化喷口B沿板材移动方向重合设置。

其效果是：本实用新型通过设置至少两排平行设置的单排式雾化组件，且两排平行设置的单排式雾化组件的若干雾化喷口A和若干雾化喷口B沿板材移动方向重合设置的总体构思，使得两排单排式雾化组件中，有雾化喷口无法喷出雾化药剂时，沿板材移动方向与其重合的雾化喷口可以代替其喷出雾化药剂，避免在人造板材上出现没有喷涂上雾化药剂的“空白区域”，从而解决现有技术中单排式雾化组件容错性不高的问题。

附图说明

图1为本实用新型现有技术的主视结构示意图；

图2为本实用新型现有技术中单排式雾化组件的仰视结构示意图；

图3为本实用新型实施例一中的主视结构示意图；

图4为本实用新型实施例一的仰视结构示意图；

图5为本实用新型实施例二中的主视结构示意图；

图6为本实用新型实施例二的仰视结构示意图；

图7为本实用新型实施例三的仰视结构示意图。

附图标记说明：

1-板材，2-雾化组件A，21-储液管A，211-储液通道A，22-雾化模块A，23-雾化喷口A，3-雾化组件B，31-储液管B，311-储液通道B，32-雾化模块B，33-雾化喷口B，41-第一电磁阀，42-第二电磁阀，43-第三电磁阀，44-第四电磁阀，5-补偿雾化组件A，51-补偿储液管A，511-补偿储液通道A，52-补偿储液模块A，53-补偿雾化喷口A，6-补偿雾化组件B，61-补偿储液管B，611-补偿储液通道B，62-补偿储液模块B，63-补偿雾化喷口B，7-供液管道。

具体实施方式

下面结合实施例及附图，对本实用新型作进一步的详细说明，但本实用新型的实施方式不限于此。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖向”、“纵向”、“侧向”、“水平”、“内”、“外”、“前”、“后”、“顶”、“底”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该实用新型产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“开有”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

下面通过参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型：

实施例一：

如图3和图4所示，本实施例提供一种高容错的阵列式雾化喷嘴装置，包括至少两排平行设置的单排式雾化组件，分别为单排式雾化组件A2和单排式雾化组件B3，单排式雾化组件A2包括若干朝向板材1设置的雾化喷口A23，单排式雾化组件B3包括若干朝向板材1设置的雾化喷口B33，若干雾化喷口A23和若干雾化喷口B33沿板材1移动方向重合设置。

本实施例通过设置至少两排平行设置的单排式雾化组件，且如图3和图4所示，本实施例中的单排式雾化组件A2和单排式雾化组件B3的结构相同，单排式雾化组件A2的若干雾化喷口A23和单排式雾化组件B3的若干雾化喷口B33沿板材1移动的方向重合，使得两排单排式雾化组件中，有雾化喷口无法喷出雾化药剂时，沿板材1移动方向与其重合的雾化喷口可以代替损坏的雾化喷口喷出雾化药剂，避免在人造板材1上出现没有喷涂上雾化药剂的“空白区域”，从而解决现有技术中单排式雾化组件容错性不高的问题。在某些实施例中，还可以设置三排或以上的单排式雾化组件，以进一步提高整个装置的容错性。

在一些可选的实施例中，所述单排式雾化组件A2包括内部设有储液通道A211的储液管A21，所述若干雾化喷口A23均与储液通道A211连通，储液通道A211的进液口处设有第一电磁阀41；

所述单排式雾化组件B3包括内部设有储液通道B311的储液管B31，所述若干雾化喷口B33均与储液通道B311连通，储液通道B311的进液口处设有第二电磁阀42。

通过设置第一电磁阀41和第二电磁阀42，使得单排式雾化组件A2和单排式雾化组件B3可以进行单独控制。在正常使用时，可以通过控制第一电磁阀41和第二电磁阀42，使得单排式雾化组件B3内的药液通道被阻断，使得向人造板材1喷涂雾化药剂的只有单排式雾化组件A2，其他的单排式雾化组件作为备用，以提高容错性，同时，通过设置第一电磁阀41和第二电磁阀42可以便于单排式雾化组件A2、单排式雾化组件B3的更换，避免影响到整个人造板材1净化的进度。

在一些可选的实施例中，所述储液管A21上设有若干用于将药液雾化的雾化模块A22，若干雾化喷口A23与若干雾化模块A22相对应，雾化喷口A23通过雾化模块A22与所述储液通道A211连通；

所述储液管B31上设有若干用于将药液雾化的雾化模块B32，若干雾化喷口B33与若干雾化模块B32相对应，雾化喷口B33通过雾化模块B32与所述储液通道B311连通。雾化模块A22和雾化模块B32均包括雾化片和将雾化片固定在储液管A21、储液管B31上的夹持组件，储液通道A211、储液通道B311内的药液通过雾化片雾化后喷出。

如图4所示，本实施例中，若干雾化模块A22和若干雾化模块B32分别均匀的间隔设置于储液管A21和储液管B31上。

实施例二：

如图5和图6所示，在上述实施例一的基础上，本实施例还包括单排式补偿雾化组件A5和单排式补偿雾化组件B6；

单排式补偿雾化组件A5包括若干朝向板材1设置的补偿雾化喷口A53，单排式补偿雾化组件B6包括若干朝向板材1设置的补偿雾化喷口B63；

若干补偿雾化喷口A53和补偿雾化喷口B63均沿板材1移动方向与所述若干雾化喷口A23交错间隔设置。

通过设置单排式补偿雾化组件A5和单排式补偿雾化组件B6，且若干补偿雾化喷口A53和补偿雾化喷口B63均沿板材1移动方向与所述若干雾化喷口A23交错间隔设置，使得若干补偿雾化喷口A53和补偿雾化喷口B63可以对人造板材1上雾化药剂浓度较低的区域进行补偿式喷涂，进而平衡雾化药剂的喷涂浓度，提高人造板材1的净化效果；如图5和图6所示，通过设置一排单排式补偿雾化组件A5和一排单排式补偿雾化组件B6，可以提高单排式补偿雾化组件A5和单排式补偿雾化组件B6的容错性。

在一些可选的实施例中，所述若干补偿雾化喷口A53和若干补偿雾化喷口B63沿板材1移动方向均重合设置，且若干补偿雾化喷口A53和若干补偿雾化喷口B63均沿板材1移动方向位于两个相邻的所述雾化喷口A23的中间位置。通过将若干补偿雾化喷口A53和若干补偿雾化喷口B63沿板材1移动方向设置于所述雾化喷口A23的中间位置，对人造板材1上雾化药剂喷涂浓度最低的区域进行补偿，提高雾化药剂喷涂时的补偿效果。

在一些可选的实施例中，所述单排式补偿雾化组件A5和单排式补偿雾化组件B6与所述单排式雾化组件A2和单排式雾化组件B3交错间隔设置。如图5和图6所示，单排式雾化组件A2、单排式补偿雾化组件A5、单排式雾化组件B3、单排式补偿雾化组件B6沿人造板材1的移动方向依次设置，且单排式补偿雾化组件A5、单排式补偿雾化组件B6与单排式雾化组件A2平行设置。

在一些可选的实施例中，所述单排式补偿雾化组件A5包括内部设有补偿储液通道A511的补偿储液管A51，补偿储液通道A511的进液口与所述储液通道A211的进液口连通，且连通处位于第一电磁阀41与储液通道A211的进液口之间；

所述单排式补偿雾化组件B6包括内部设有补偿储液通道B611的补偿储液管B61，补偿储液通道B611的进液口与所述储液通道B311的进液口连通，且连通处位于第二电磁阀42与储液通道B311的进液口之间。

如图6所示，本实施例中，由于补偿储液通道A511的进液口与所述储液通道A211的进液口连通，且连通处位于第一电磁阀41与储液通道A211的进液口之间，使得第一电磁阀41可以对单排式雾化组件A2、单排式补偿雾化组件A5内的药液进行控制；补偿储液通道B611的进液口与所述储液通道B311的进液口连通，且连通处位于第二电磁阀42与储液通道B311的进液口之间，使得第二电磁阀42可以对单排式雾化组件B3、单排式补偿雾化组件B6内的药液进行控制，在正常使用时，可以通过控制第一电磁阀41和第二电磁阀42，使得单排式雾化组件B3、单排式补偿雾化组件B6内的药液通道被阻断，使得向人造板材1喷涂雾化药剂的只有单排式雾化组件A2、单排式补偿雾化组件A5，当雾化喷口A23或补偿雾化喷口A53无法喷涂药液时，通过控制第一电磁阀41和第二电磁阀42进行药液通道的切换，使得备用的单排式雾化组件B3、单排式补偿雾化组件B6向人造板材1喷涂药剂即可。

实施例三：

如图7所示，本实施中，所述单排式补偿雾化组件A5包括内部设有补偿储液通道A511的补偿储液管A51，所述单排式补偿雾化组件B6包括内部设有补偿储液通道B611的补偿储液管B61；

还包括设于补偿储液通道A511的进液口处的第三电磁阀43和设于补偿储液通道B611的进液口处的第四电磁阀44。

通过设置第三电磁阀43、第四电磁阀44，使得第三电磁阀43、第四电磁阀44可以单独对补偿储液通道A511和补偿储液通道B611进行控制，进而提高控制的灵活性，例如单排式雾化组件A2中的雾化喷口A23、损坏时，可以控制第一电磁阀41将单排式雾化组件A2关闭，控制第二电磁阀42将单排式雾化组件B3关闭即可，避免同时关闭单排式雾化组件A2和单排式补偿雾化组件A5，提高维护养护成本。

在一些可选的实施例中，还包括用于提供药液的供液管道7，所述储液通道A211、所述储液通道B311、所述补偿储液通道A511、所述补偿储液通道B611均与同一供液管道7连通；所述第一电磁阀41设于储液通道A211与供液管道7之间；所述第二电磁阀42设于储液通道B311与供液管道7之间；所述第三电磁阀43设于补偿储液通道A511与供液管道7之间；所述第四电磁阀44设于补偿储液通道B611与供液管道7之间。

在一些可选的实施例中，所述若干补偿雾化喷口A53和若干补偿雾化喷口B63的大小相同且均小于所述雾化喷口A23和雾化喷口B33的尺寸大小。如图7所示，单排式补偿雾化组件A5和单排式补偿雾化组件B6的结构相同，且由于补偿雾化喷口A53和补偿雾化喷口B63沿板材1移动方向位于雾化喷口A23之间，因此，补偿雾化喷口A53、补偿雾化喷口B63的数量少于雾化喷口A23的数量。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本实用新型的原理而采用的示例性实施方式，然而本实用新型并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本实用新型的精神和实质的情况下，可以做出各种变形和改进，这些变形和改进也视为本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种高容错的阵列式雾化喷嘴装置，其特征在于，包括至少两排平行设置的单排式雾化组件，分别为单排式雾化组件A(2)和单排式雾化组件B(3)，单排式雾化组件A(2)包括若干朝向板材(1)设置的雾化喷口A(23)，单排式雾化组件B(3)包括若干朝向板材(1)设置的雾化喷口B(33)，若干雾化喷口A(23)和若干雾化喷口B(33)沿板材(1)移动方向重合设置。

2.根据权利要求1所述的一种高容错的阵列式雾化喷嘴装置，其特征在于，所述单排式雾化组件A(2)包括内部设有储液通道A(211)的储液管A(21)，所述若干雾化喷口A(23)均与储液通道A(211)连通，储液通道A(211)的进液口处设有第一电磁阀(41)；

所述单排式雾化组件B(3)包括内部设有储液通道B(311)的储液管B(31)，所述若干雾化喷口B(33)均与储液通道B(311)连通，储液通道B(311)的进液口处设有第二电磁阀(42)。

3.根据权利要求2所述的一种高容错的阵列式雾化喷嘴装置，其特征在于，所述储液管A(21)上设有若干用于将药液雾化的雾化模块A(22)，若干雾化喷口A(23)与若干雾化模块A(22)相对应，雾化喷口A(23)通过雾化模块A(22)与所述储液通道A(211)连通；

所述储液管B(31)上设有若干用于将药液雾化的雾化模块B(32)，若干雾化喷口B(33)与若干雾化模块B(32)相对应，雾化喷口B(33)通过雾化模块B(32)与所述储液通道B(311)连通。

4.根据权利要求2所述的一种高容错的阵列式雾化喷嘴装置，其特征在于，还包括单排式补偿雾化组件A(5)和单排式补偿雾化组件B(6)；

单排式补偿雾化组件A(5)包括若干朝向板材(1)设置的补偿雾化喷口A(53)，单排式补偿雾化组件B(6)包括若干朝向板材(1)设置的补偿雾化喷口B(63)；

若干补偿雾化喷口A(53)和补偿雾化喷口B(63)均沿板材(1)移动方向与所述若干雾化喷口A(23)交错间隔设置。

5.根据权利要求4所述的一种高容错的阵列式雾化喷嘴装置，其特征在于，所述若干补偿雾化喷口A(53)和若干补偿雾化喷口B(63)沿板材(1)移动方向均重合设置，且若干补偿雾化喷口A(53)和若干补偿雾化喷口B(63)均沿板材(1)移动方向位于两个相邻的所述雾化喷口A(23)的中间位置。

6.根据权利要求4所述的一种高容错的阵列式雾化喷嘴装置，其特征在于，所述单排式补偿雾化组件A(5)和单排式补偿雾化组件B(6)与所述单排式雾化组件A(2)和单排式雾化组件B(3)交错间隔设置。

7.根据权利要求4所述的一种高容错的阵列式雾化喷嘴装置，其特征在于，所述单排式补偿雾化组件A(5)包括内部设有补偿储液通道A(511)的补偿储液管A(51)，补偿储液通道A(511)的进液口与所述储液通道A(211)的进液口连通，且连通处位于第一电磁阀(41)与储液通道A(211)的进液口之间；

所述单排式补偿雾化组件B(6)包括内部设有补偿储液通道B(611)的补偿储液管B(61)，补偿储液通道B(611)的进液口与所述储液通道B(311)的进液口连通，且连通处位于第二电磁阀(42)与储液通道B(311)的进液口之间。

8.根据权利要求4所述的一种高容错的阵列式雾化喷嘴装置，其特征在于，所述单排式补偿雾化组件A(5)包括内部设有补偿储液通道A(511)的补偿储液管A(51)，所述单排式补偿雾化组件B(6)包括内部设有补偿储液通道B(611)的补偿储液管B(61)；

还包括设于补偿储液通道A(511)的进液口处的第三电磁阀(43)和设于补偿储液通道B(611)的进液口处的第四电磁阀(44)。

9.根据权利要求8所述的一种高容错的阵列式雾化喷嘴装置，其特征在于，还包括用于提供药液的供液管道(7)，所述储液通道A(211)、所述储液通道B(311)、所述补偿储液通道A(511)、所述补偿储液通道B(611)均与同一供液管道(7)连通；

所述第一电磁阀(41)设于储液通道A(211)与供液管道(7)之间；

所述第二电磁阀(42)设于储液通道B(311)与供液管道(7)之间；

所述第三电磁阀(43)设于补偿储液通道A(511)与供液管道(7)之间；

所述第四电磁阀(44)设于补偿储液通道B(611)与供液管道(7)之间。

10.根据权利要求4所述的一种高容错的阵列式雾化喷嘴装置，其特征在于，所述若干补偿雾化喷口A(53)和若干补偿雾化喷口B(63)的大小相同且均小于所述雾化喷口A(23)和雾化喷口B(33)的尺寸大小。

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