CN218797790U - 一种块状晶体清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及清洗装置技术领域，具体的公开了一种块状晶体清洗装置，包括超声波清洗设备主体，超声波清洗设备主体上端的一侧为加工区，并在加工区内设有放置盒，放置盒内设有若干容纳槽，且放置盒的上侧表面设有盒盖，放置盒的两端通过转轴与加工区的内壁转动连接。本实用新型中放置盒以转轴为圆心进行翻转，使得晶体在容纳槽内随着放置盒的翻转而进行翻动，即使得晶体与容纳槽内壁之间接触时，其晶体的各个面均能不定时的与容纳槽内壁相互接触或脱离，即晶体的某一个面并非始终与容纳槽内底面相接触，从而则避免了晶体与容纳槽内底面相接触的一面无法翻动，而导致此面与清洗液无法充分接触的缺陷。

Description

一种块状晶体清洗装置

技术领域

本实用新型涉及清洗装置技术领域，尤其涉及一种块状晶体清洗装置。

背景技术

晶体生产过程需要对晶体进行切割打磨等操作，在切割打磨过程中会产生很多杂质和油污并粘附在晶体的表面。现有的清洗技术是将晶体整齐排列放在清洗网板上，然后放入超声波清洗机的清洗槽内浸泡清洗。

现有技术公开了申请号为：202123455508.5的一种晶体超声波清洗装置，包括超声波清洗机，超声波清洗机的台面上设有清洗槽，所述清洗槽的一侧设有安装架，安装架竖直设置于超声波清洗机的台面上，安装架上竖直设有导杆，导杆上滑动连接有移动座，所述安装架上设有带动所述移动座进行竖直方向移动的丝杆机构，所述移动座上竖直开设有安装孔，所述安装孔内竖直设置有可拆卸的把手杆，所述把手杆的下端位于靠近清洗槽底部的位置，所述把手杆的下端设有清洗底板，所述清洗底板的上端两侧均设有层架，所述层架上插设有数量若干的水平设置的置物网板，所述置物网板上开设有规则排列设置的置物槽。

上述的清洗装置在使用时虽然达到了置物网板放入清洗槽时更加平稳，置物板上的晶体不易发生位置偏移的效果，但由于晶体在置物板上并不进行翻动，从而导致晶体与置物板相接触的一面并无法充分的受到清洗处理，从而导致晶体清洗处理不够完善；因此，为了解决上述技术问题，我们提出了一种块状晶体清洗装置。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种块状晶体清洗装置。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种块状晶体清洗装置，包括超声波清洗设备主体，所述超声波清洗设备主体上端的一侧为加工区，并在加工区内设有放置盒，放置盒内设有若干容纳槽，且放置盒的上侧表面设有盒盖，放置盒的两端通过转轴与加工区的内壁转动连接，且超声波清洗设备主体远离加工区一端的内部对应转轴设有相配合的转动组件，加工区远离转动组件的一端设有抽液管，抽液管的另一端延伸至超声波清洗设备主体的外部并连接有排液组件。

优选的，所述转动组件包括电机以及减速器，电机设置在超声波清洗设备主体的内部，且电机的输出端通过减速器与相邻的转轴端部相连接。

优选的，所述排液组件包括水泵以及收集箱，收集箱固定在超声波清洗设备主体的后侧表面，水泵安装在收集箱的上表面，且抽液管的端部与水泵的进液端相连接，水泵的出液端通过出水管与收集箱相连接。

优选的，所述收集箱的内部设有过滤板，过滤板位于出水管的下方。

优选的，所述收集箱上侧表面的中部设有检修盖，且收集箱为透明箱体，收集箱内底面的一端设有排液管。

优选的，所述超声波清洗设备主体加工区内部远离转动组件的一端固定有分隔板，放置盒端部的转轴与分隔板转动连接，且抽液管的端部位于分隔板与加工区内壁之间。

优选的，所述放置盒内部的容纳槽以及盒盖的内侧表面均安装有弹性的缓冲垫，且放置盒、盒盖以及缓冲垫均设有若干通孔。

本实用新型提出的一种块状晶体清洗装置，有益效果在于：

1：本实用新型中把若干晶体一一放置在容纳槽中，且各容纳槽中仅可放置一个晶体，随后便可服盒盖进行复位，此时人员向加工区内注入适量的清洗液，并启动超声波清洗设备主体，从而使得加工区内部的清洗液在超声波的作用下进行震动，并并对容纳槽中的晶体进行冲刷；进一步的启动电机，使得放置盒以转轴为圆心进行翻转，使得晶体在容纳槽内随着放置盒的翻转而进行翻动，即使得晶体与容纳槽内壁之间接触时，其晶体的各个面均能不定时的与容纳槽内壁相互接触或脱离，即晶体的某一个面并非始终与容纳槽内底面相接触，从而则避免了晶体与容纳槽内底面相接触的一面无法翻动，而导致此面与清洗液无法充分接触的缺陷。

2：本实用新型中水泵通过抽液管对加工区内部的废液进行抽吸，并泵送至收集箱内，即在水泵的作用下，可较为快速的对加工区内部的废液进行抽吸，从而提升了废液排出速度，即缩短了人员更换废液的时间，由此提升了清洗的效率；同时由于收集箱的内部设有过滤板，即水泵从出水管处喷出的废液堆积在收集箱内的上半部，直至废液中的杂质等被过滤板滤出后，其较为干净的液体才能流到收集箱的下半部，由此在过滤板的设置下，使得本方案不仅可便捷的对废液进行抽吸，还可对废液进行过滤，即有利于对废液进行二次利用，提升了资源的有效利用。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种块状晶体清洗装置的轴测图；

图2为本实用新型提出的一种块状晶体清洗装置的轴测图；

图3为本实用新型提出的一种块状晶体清洗装置的结构示意图；

图4为本实用新型提出的一种块状晶体清洗装置的结构示意图；

图5为本实用新型提出的一种块状晶体清洗装置的结构示意图；

图6为本实用新型提出的一种块状晶体清洗装置的缓冲垫与放置盒拆分示意图。

图中：1、超声波清洗设备主体；2、放置盒；3、盒盖；4、抽液管；5、电机；6、减速器；7、水泵；8、收集箱；9、过滤板；10、检修盖；11、排液管；12、分隔板；13、缓冲垫。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、 “外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

参照图1-6，一种块状晶体清洗装置，包括超声波清洗设备主体1，超声波清洗设备主体1上端的一侧为加工区，并在加工区内设有放置盒2，放置盒2内设有若干容纳槽，且放置盒2的上侧表面设有盒盖3，放置盒2的两端通过转轴与加工区的内壁转动连接，且超声波清洗设备主体1远离加工区一端的内部对应转轴设有相配合的转动组件，加工区远离转动组件的一端设有抽液管4，抽液管4的另一端延伸至超声波清洗设备主体1的外部并连接有排液组件。

作为本实用新型的一种技术优化方案，转动组件包括电机5以及减速器6，电机5设置在超声波清洗设备主体1的内部，且电机5的输出端通过减速器6与相邻的转轴端部相连接；转动组件的设置，可便于对放置盒2进行转动控制。

作为本实用新型的一种技术优化方案，排液组件包括水泵7以及收集箱8，收集箱8固定在超声波清洗设备主体1的后侧表面，水泵7安装在收集箱8的上表面，且抽液管4的端部与水泵7的进液端相连接，水泵7的出液端通过出水管与收集箱8相连接；排液组件的设置，便于对加工区内使用后的废液进行清理。

作为本实用新型的一种技术优化方案，收集箱8的内部设有过滤板9，过滤板9位于出水管的下方；过滤板9的设置，可便于对废液进行过滤。

作为本实用新型的一种技术优化方案，收集箱8上侧表面的中部设有检修盖10，且收集箱8为透明箱体，收集箱8内底面的一端设有排液管11；检修盖10的设置，便于对收集箱8内部的过滤板9进行检修。

作为本实用新型的一种技术优化方案，超声波清洗设备主体1加工区内部远离转动组件的一端固定有分隔板12，放置盒2端部的转轴与分隔板12转动连接，且抽液管4的端部位于分隔板12与加工区内壁之间；分隔板12的设置，避免放置盒2转动时对抽液管4造成损坏。

作为本实用新型的一种技术优化方案，放置盒2内部的容纳槽以及盒盖3的内侧表面均安装有弹性的缓冲垫13，且放置盒2、盒盖3以及缓冲垫13均设有若干通孔；缓冲垫13的设置，提升了对晶体的保护效果。

使用原理及优点：本实用新型在使用过程中，当需要对晶体进行清洗时，人员通过卡扣打开盒盖3，并把若干晶体一一放置在容纳槽中，且各容纳槽中仅可放置一个晶体，随后便可服盒盖3进行复位，此时人员向加工区内注入适量的清洗液，并关闭加工区上方的箱盖，即启动超声波清洗设备主体1，从而使得加工区内部的清洗液在超声波的作用下进行震动，并进入到放置盒2的容纳槽中，并对容纳槽中的晶体进行冲刷，从而完成对晶体的清洗。

进一步的启动电机5，电机5的输出端通过减速器6带动相邻的转轴进行转动，而转轴在转动时带动放置盒2进行转动，随着放置盒2以转轴为圆心进行翻转，使得晶体在容纳槽内随着放置盒2的翻转而进行翻动，即使得晶体与容纳槽内壁之间接触时，其晶体的各个面均能不定时的与容纳槽内壁相互接触或脱离，即晶体的某一个面并非始终与容纳槽内底面相接触，从而则避免了晶体与容纳槽内底面相接触的一面无法翻动，而导致此面与清洗液无法充分接触的缺陷。

同时在本方案中，由于容纳槽的内壁以及盒盖3的内侧均设有弹性的缓冲垫13，即当放置盒2翻转而带动晶体在容纳槽同步翻转时，其晶体并不会直接有容纳槽内壁或盒盖3相碰撞，即通过缓冲垫13的设置，可对晶体起到保护效果，以免晶体在翻转时其表面发生划擦而导致划痕产生的现象。

更进一步的在本方案中，由于加工区的一端设有抽液管4，抽液管4的另一端连接有水泵7，即当加工区内部的清洗液使用后变得浑浊需要更换排出时，启动水泵7，水泵7通过抽液管4对加工区内部的废液进行抽吸，并泵送至收集箱8内，即在水泵7的作用下，可较为快速的对加工区内部的废液进行抽吸，从而提升了废液排出速度，即缩短了人员更换废液的时间，由此提升了清洗的效率；同时由于收集箱8的内部设有过滤板9，即水泵7从出水管处喷出的废液堆积在收集箱8内的上半部，直至废液中的杂质等被过滤板9滤出后，其较为干净的液体才能流到收集箱8的下半部，由此在过滤板9的设置下，使得本方案不仅可便捷的对废液进行抽吸，还可对废液进行过滤，即有利于对废液进行二次利用，提升了资源的有效利用。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种块状晶体清洗装置，包括超声波清洗设备主体（1），其特征在于，所述超声波清洗设备主体（1）上端的一侧为加工区，并在加工区内设有放置盒（2），放置盒（2）内设有若干容纳槽，且放置盒（2）的上侧表面设有盒盖（3），放置盒（2）的两端通过转轴与加工区的内壁转动连接，且超声波清洗设备主体（1）远离加工区一端的内部对应转轴设有相配合的转动组件，加工区远离转动组件的一端设有抽液管（4），抽液管（4）的另一端延伸至超声波清洗设备主体（1）的外部并连接有排液组件。

2.根据权利要求1所述的一种块状晶体清洗装置，其特征在于，所述转动组件包括电机（5）以及减速器（6），电机（5）设置在超声波清洗设备主体（1）的内部，且电机（5）的输出端通过减速器（6）与相邻的转轴端部相连接。

3.根据权利要求1所述的一种块状晶体清洗装置，其特征在于，所述排液组件包括水泵（7）以及收集箱（8），收集箱（8）固定在超声波清洗设备主体（1）的后侧表面，水泵（7）安装在收集箱（8）的上表面，且抽液管（4）的端部与水泵（7）的进液端相连接，水泵（7）的出液端通过出水管与收集箱（8）相连接。

4.根据权利要求3所述的一种块状晶体清洗装置，其特征在于，所述收集箱（8）的内部设有过滤板（9），过滤板（9）位于出水管的下方。

5.根据权利要求4所述的一种块状晶体清洗装置，其特征在于，所述收集箱（8）上侧表面的中部设有检修盖（10），且收集箱（8）为透明箱体，收集箱（8）内底面的一端设有排液管（11）。

6.根据权利要求1所述的一种块状晶体清洗装置，其特征在于，所述超声波清洗设备主体（1）加工区内部远离转动组件的一端固定有分隔板（12），放置盒（2）端部的转轴与分隔板（12）转动连接，且抽液管（4）的端部位于分隔板（12）与加工区内壁之间。

7.根据权利要求1所述的一种块状晶体清洗装置，其特征在于，所述放置盒（2）内部的容纳槽以及盒盖（3）的内侧表面均安装有弹性的缓冲垫（13），且放置盒（2）、盒盖（3）以及缓冲垫（13）均设有若干通孔。

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