CN218600705U - 用于外延片温降测试的装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种用于外延片温降测试的装置。所述装置包括：真空测试单元，包括第一腔室以及设置在第一腔室内的第一固定支架、均温板，所述第一腔室能够与真空发生机构配合形成真空环境，所述第一固定支架用于可分离地固定外延片，所述均温板用于将加热单元提供的热量均匀地传递至外延片；加热单元，包括第一腔室以及设置在第二腔室内的加热热源，所述加热热源用于加热所述均温板；温度监测单元，用于采集位于所述第一腔室内的外延片的温度信息。本实用新型实施例提供的一种用于外延片温降测试的装置，利用均温板温度的均匀性对外延片进行加热，可以有效解决了发热热源直接加热物体存在的加热不均匀的问题。

Description

用于外延片温降测试的装置

技术领域

本实用新型涉及一种测试装置，特别涉及一种用于外延片温降测试的装置，属于温降测试技术领域。

背景技术

碘钨灯作为加热热源，大功率碘钨灯阵列热源利用效率低下。碘钨灯作为加热热源，其加热目标物体(在此加热的目标物体为径向尺寸远远大于厚度的外延片)温度的均匀性暂无相关数据。目前尚未找到单独测试外延片在真空中温降数据试验台。

利用碘钨灯作为热源是较为常见的一种加热方式，碘钨灯延灯管直径方向辐射近红外光，加装传统的反辐射装置散射较为严重，导致碘钨灯热效功率利用率低；并且，碘钨灯作为热源直接加热物体，会导致加热不均匀现象，温度的不均匀性可能会导致外延片因温差效应导致应力集中而产生缺陷。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种用于外延片温降测试的装置，从而克服现有技术中的不足。

为实现前述实用新型目的，本实用新型采用的技术方案包括：

本实用新型实施例提供了一种用于外延片温降测试的装置，包括：

真空测试单元，包括第一腔室以及设置在第一腔室内的第一固定支架，所述第一腔室能够与真空发生机构配合形成真空环境，所述第一固定支架用于可分离地固定外延片；

加热单元，包括第二腔室、设置在第二腔室内的加热热源以及设置在第一腔室内的均温板，所述加热热源用于加热所述均温板，所述均温板用于将加热单元提供的热量均匀地传递至外延片；

温度监测单元，用于采集位于所述第一腔室内的外延片的温度信息。

与现有技术相比，本实用新型的优点包括：

1)本实用新型实施例提供的一种用于外延片温降测试的装置，利用均温板温度的均匀性对外延片进行加热，可以有效解决了发热热源直接加热物体存在的加热不均匀的问题；

2)本实用新型实施例提供的一种用于外延片温降测试的装置，能够有效解决大功率碘钨灯阵列热源利用效率低下的问题；

3)本实用新型实施例提供的一种用于外延片温降测试的装置，可以对目标外延片加热不均匀性试验测试获取一手数据资料，同时，固定发热热源的固定基座与冷却机构导热配合，能够保证安装槽的槽壁作为光反射结构基本无形变，保证大功率发热热源持续进行加热；

4)本实用新型实施例提供的一种用于外延片温降测试的装置，加热单元的分立腔室设计有效避免了发热热源直接暴露在真空环境中，有效降低了使用过程中的安全风险。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型一典型实施案例中提供的一种用于外延片温降测试的装置的主体部分的结构示意图；

图2是本实用新型一典型实施案例中提供的一种用于外延片温降测试的装置的整体结构示意图；

图3是本实用新型一典型实施案例中提供的一种用于外延片温降测试的装置的加热单元的结构示意图。

具体实施方式

鉴于现有技术中的不足，本案发明人经长期研究和大量实践，得以提出本实用新型的技术方案。如下将对该技术方案、其实施过程及原理等作进一步的解释说明。

本实用新型实施例提供了一种用于外延片温降测试的装置，包括：

真空测试单元，包括第一腔室以及设置在第一腔室内的第一固定支架，所述第一腔室能够与真空发生机构配合形成真空环境，所述第一固定支架用于可分离地固定外延片；

加热单元，包括第二腔室、设置在第二腔室内的加热热源以及设置在第一腔室内的均温板，所述加热热源用于加热所述均温板，所述均温板用于将加热单元提供的热量均匀地传递至外延片；

温度监测单元，用于采集位于所述第一腔室内的外延片的温度信息。

在一具体实施方式中，所述第一固定支架于所述第一腔室内的位置可以调节。

在一具体实施方式中，所述真空测试单元还包括第一驱动机构，所述第一驱动机构与所述第一固定支架传动连接，并用于驱使所述第一固定支架于所述第一腔室内活动。

在一具体实施方式中，所述第一驱动机构设置在所述第一腔室外部。

在一具体实施方式中，所述加热单元还包括第二固定支架，所述第二固定支架固定设置在第一腔室内，所述均温板设置在所述第二固定支架上。

在一具体实施方式中，所述加热单元还包括第一温度监测机构，所述第一温度监测机构设置在所述第一腔室内，并用于监测、采集均温板的温度信息。

在一具体实施方式中，所述第一温度监测机构包括设置在所述均温板表面上的多个温度传感器。

在一具体实施方式中，所述加热单元还包括隔热板，所述隔热板设置在所述第一腔室内，且所述隔热板于第一腔室内的位置可以调节，所述隔热板能够活动至均温板和外延片之间，并阻断或减弱均温板与外延片之间的热传递。

在一具体实施方式中，所述加热单元还包括第二驱动机构，所述第二驱动机构与隔热板传动连接，并用于驱使所述隔热板于所述第一腔室内活动。

在一具体实施方式中，所述第二驱动机构设置在所述第一腔室外部。

在一具体实施方式中，所述加热热源包括发光光源，所述发光光源能够提供光照辐射加热所述均温板。

在一具体实施方式中，所述第一腔室和第二腔室是经一隔板相互隔离形成的，所述隔板上设置有可供发光光源提供的光透过的透光结构，所述均温板对应设置在所述透光结构处。

在一具体实施方式中，所述隔板整体为透光结构。

在一具体实施方式中，所述均温板与所述隔板之间具有间隙。

在一具体实施方式中，所述加热热源还包括固定基座，以及，所述固定基座上还具有光反射结构，所述发光光源发出的光的一部分能够直接照射在均温板上，一部分经所述光反射结构反射后照射在所述均温板上。

在一具体实施方式中，所述固定基座具有至少一安装槽，所述发光光源设置在所述安装槽内，所述安装槽的槽壁为能够反射光的光反射结构。

在一具体实施方式中，所述安装槽的截面形状包括U型、V型或抛物线型。

在一具体实施方式中，所述加热热源包括呈阵列分布的多个发光光源，所述固定基座上设置有呈阵列分布的多个安装槽，多个所述发光光源分别对应设置在多个安装槽内。

在一具体实施方式中，所述发光光源包括碘钨灯。

在一具体实施方式中，所述加热热源还包括第一冷却机构，所述第一冷却机构与所述固定基座导热配合，并用于使所述固定基座的温度保持在指定温度。

在一具体实施方式中，所述第一冷却机构包括液冷机构。

在一具体实施方式中，所述的用于外延片温降测试的装置还包括：外壳，所述第一腔室和第二腔室被所述外壳包围，所述温度监测单元设置在所述第一腔室外部，所述外壳上还设置有可供温度监测单元对第一腔室内部的外延片进行温度测量的窗口。

在一具体实施方式中，所述外壳内部具有由外壳围合形成的第三腔室，所述第三腔室被分隔形成所述的第一腔室和第二腔室。

在一具体实施方式中，所述外壳上还设置有与第一腔室对应的观察窗口。

在一具体实施方式中，所述温度监测单元安装在所述外壳上。

在一具体实施方式中，所述的用于外延片温降测试的装置还包括：第二冷却机构，所述第二冷却机构与所述外壳导热配合，并至少用于使所述外壳保持在预定温度。

在一具体实施方式中，所述第二冷却机构包括水冷机构。

在一具体实施方式中，所述温度监测单元包括红外测温机构。

在一具体实施方式中，所述温度监测单元还包括沿指定方向延伸设置的导轨，所述红外测温机构设置在所述导轨上并能够沿所述导轨活动。

在一具体实施方式中，所述温度监测单元还包括第三固定支架，所述第三固定支架可分离地固定在外壳上，所述导轨固定设置在所述第三固定支架上。

如下将结合附图以及具体实施案例对该技术方案、其实施过程及原理等作进一步的解释说明，需要说明的是，本实用新型实施例意在解释和说明该一种用于外延片温降测试的装置的结构构成以及各组成结构之间的配合关系，除非特别说明的之外，本实用新型实施例中所采用的驱动电机/气缸、温度传感器、均温板、隔热板、真空泵、水冷机构、泵、碘钨灯等可以通过市购获得，其中驱动电机/气缸、温度传感器、均温板、隔热板、真空泵、水冷机构、泵、碘钨灯等的型号、结构、尺寸等不会影响一种用于外延片温降测试的装置的功能实现。

实施例1

请参阅图1、图2，一种用于外延片温降测试的装置，主要包括真空测试单元、加热单元和温度监测单元三部分，其中，所述真空测试单元主要用于容置外延片以及提供外延片温降测试所需的真空环境，所述加热单元主要用于对位于真空环境内的外延片进行均匀加热(或者理解为调节温度)以实现温降，所述温度监测单元主要用于实时采集/测量位于真空环境内的所述外延片的温度，以实现对外延片温降信息的采集。

在本实施例中，所述真空测试单元包括第一腔室2以及设置在第一腔室2内的第一固定支架11，所述第一腔室2能够与真空发生机构配合形成真空环境，所述第一固定支架11用于可分离地固定外延片12；需要说明的是，所述第一固定架11能够实现固定放置外延片且不会影响加热单元对外延片12进行加热、温度监测单元采集外延片12的温度的实现即可，示例性的，所述第一固定架11可以是包括一承载环等，可以理解的，所述第一固定架11的具体的形状和结构不会影响其功能的实现，在此不对其具体的结构进行限定。

在本实施例中，所述真空发生机构可以是真空泵等，所述真空泵可以是真空测试单元的一部分，也可以是额外设置的，真空泵的结构和型号等不作具体的限定。

在本实施例中，所述第一腔室2是可以被打开和关闭的，且第一腔室2处于关闭状态下时能够与真空发生机构配合而形成真空环境，可理解的，所述第一腔室2的具体结构不做具体的限定。

在本实施例中，所述第一固定支架11于所述第一腔室2内的位置可以调节，从而改变第一固定支架11上外延片与加热单元的相对位置；其中，具体调节的方式可以是手动调节或自动调节，手动调节主要是通过打开第一腔室2，将第一固定支架11固定在第一腔室2内部的不同位置处，或者，所述第一固定支架11自身的结构可以调节，例如，所述第一固定支架11可以是可伸缩或可变形的结构，需要说明的是，所述第一固定支架与第一腔室2实现固定的结构和方式可以采用本领域技术人员已知的方式实现，所述第一固定支架也可以通过市购获得，因此，在此不对固定支架11的具体结构进行限定，示例性的，所述第一固定支架11可以是石墨支架。

在本实施例中，所述真空测试单元还包括第一驱动机构13，所述第一驱动机构13与所述第一固定支架11传动连接，并用于驱使所述第一固定支架11于所述第一腔室2内活动，具体的，所述第一固定支架11能够在第一驱动机构13的驱使下于所述第一腔室2内作直线运动、旋转运动或摆动等，相应地，所述第一驱动机构13可以是直线驱动机构或旋转驱动机构，示例性的，所述第一驱动机构13可以是驱动电机、直线气缸以及其他能够实现驱动的机构等。

在本实施例中，所述第一驱动机构13设置在所述第一腔室2外部，所述第一驱动机构13可以通过传动轴与第一固定支架11进行传动连接的，所述传动轴可以通过密封连接接头与第一腔室2配合实现运动、密封的，该密封连接接头可以是通过市购获得的，在此不对其具体的结构和型号进行限定。

在本实施例中，为了方便对第一腔室2内部结构和测试过程进行观察，可以在第一腔室内的腔壁上设置有观察窗口24，通过观察窗口可以的外延片12的位置进行观察调整，相应地，为了便于温度监测单元测量、采集位于第一腔室2内部的外延片12的温度，还可以在第一腔室2的腔壁上设置可供温度监测单元对第一腔室2内部的外延片实施温度监测的监测窗口23；需要说明的是，该观察窗口24和监测窗口23并非是孔结构，相应地，所述观察窗口24只需满足可视功能，所述监测窗口23只需满足温度监测单元或外延片的温度信号通过。

在本实施例中，所述加热单元包括第二腔室3、设置在第二腔室3内的加热热源以及设置在第一腔室2内的均温板8，所述加热热源用于加热所述均温板8，所述均温板8用于将加热单元提供的热量均匀地传递至外延片。

在本实施例中，所述第一腔室2和第二腔室3彼此是相互隔离的，但所述加热热源提供的热辐射可以通过第二腔室3进入第一腔室2并对第一腔室2内的均温板8进行加热。

在本实施例中，所述加热单元还包括第二固定支架7，所述第二固定支架7固定设置在第一腔室2内，所述均温板8设置在所述第二固定支架7上，优选的，所述第二固定支架7可以固定在第一腔室2朝向第二腔室3的一侧，所述均温板8与第一腔室2的腔壁之间具有间隙，所述均温板8是通过接收发热热源的热辐射而被加热的，而非直接接触；通过调节所述第一固定支架11在第一腔室2内的位置，主要是改变外延片12与均温板8的相对位置。

在本实施例中，所述加热单元还包括第一温度监测机构，所述第一温度监测机构设置在所述第一腔室2内，并用于监测、采集均温板8的温度信息，具体的，所述第一温度监测机构包括设置在所述均温板8表面上的多个温度传感器，在对外延片12进行加热的过程中，所述第一温度监测机构可测试均温板8朝向外延片的表面的温度的均匀性，示例性的，所述均温板8可以是市购获得的石墨均温板，在第一腔室内，通过更换不同厚度的固态石墨均温板，可以测试得出在距离恒定情况下，不同厚度均温板表面温度均匀性与厚度的关系，以此找到温度均匀、且具有最优厚度的固态石墨均温板。

在本实施例中，外延片及第一固定支架可以放置在均温板上，利用均温板温度的均匀性对外延片进行加热，可以有效解决了发热热源直接加热物体存在的加热不均匀的问题。

在本实施例中，所述加热单元还包括隔热板9，所述隔热板9设置在所述第一腔室2内，且所述隔热板9于第一腔室2内的位置可以调节，具体调节的方式可以是手动调节或自动调节，手动调节主要是通过打开第一腔室2，将隔热板9固定在第一腔室2内部的不同位置处，所述隔热板9能够活动至均温板8和外延片12之间，并阻断或减弱均温板与外延片之间的热传递；需要说明的是，所述隔热板9与第一腔室2实现固定的结构和方式可以采用本领域技术人员已知的方式实现，所述隔热板9可以通过市购获得，因此，在此不对隔热板9的具体结构进行限定。

在本实施例中，所述加热单元还包括第二驱动机构10，所述第二驱动机构10与隔热板9传动连接，并用于驱使所述隔热板9于所述第一腔室2内活动，其中，所述第二驱动机构10可以设置在所述第一腔室2外部，所述第二驱动机构10可以经传动轴与隔热板9进行传动连接，所述传动轴可以通过密封连接接头与第一腔室2配合实现运动、密封的，该密封连接接头可以是通过市购获得的，在此不对其具体的结构和型号进行限定，所述第二驱动机构10可以是直线驱动机构或旋转驱动机构或可实现直线驱动和旋转驱动的复合型驱动机构，示例性的，所述第二驱动机构10可以是驱动电机、气缸以及其他能够实现驱动的机构等。

示例性的，所述隔热板9可以在第一腔室2内的第一位置和第二位置之间活动，当隔热板9处于第一位置时，所述隔热板9位于均温板8和外延片12之间，并阻断均温板8和外延片12之间的热辐射/热传递，从而停止均温板8对外延片12的加热过程，而使外延片12进入降温阶段；当隔热板9处于第二位置时，所述隔热板9的全部或者大部分位于均温板8和外延片12之间以外的区域；可以理解的，所述隔热板9的面积大于所述均温板8和外延片12中至少一者的面积，从而实现阻断热辐射的作用。

在本实施例中，所述加热热源包括发光光源15，所述发光光源15能够提供光照辐射加热所述均温板8，相应的，所述第一腔室2和第二腔室3位于发光光源15与均温板8之间的部分是可以透光的透光结构。

在本实施例中，所述第一腔室2和第二腔室3是经一隔板相互隔离形成的，所述第二固定支架设置在所述隔板上，所述均温板8与所述隔板之间具有间隙，即所述第一腔室2和第二腔室3可以具有共用的腔壁，也可以不共用，所述隔板上设置有可供发光光源15提供的光透过的透光结构16，所述均温板8对应设置在所述透光结构16处，或者，所述隔板整体为透光结构16；示例性的，所述隔板可以是可透红外光的玻璃隔板。

在本实施例中，所述加热热源还包括固定基座21，以及，所述固定基座21上还具有光反射结构，所述发光光源15发出的光的一部分能够直接透过透光结构16照射在均温板8上，一部分经所述光反射结构反射后再透过透光结构16照射在所述均温板8上，具体的，所述光反射机构可以是反射镜面结构。

在本实施例中，所述固定基座21具有至少一安装槽22，所述发光光源15设置在所述安装槽22内，所述安装槽22的槽壁17为能够反射光的光反射结构，示例性的，所述安装槽22的截面形状包括U型、V型或抛物线型，以便更好的从多个方向将发光光源15发出的光反射至均温板8上，同时，安装槽22的槽壁17能够加强对发光光源15的辐射效果，增加热效功率利用率。

在本实施例中，所述加热热源包括呈阵列分布的多个发光光源15，所述固定基座21上设置有呈阵列分布的多个安装槽22，多个所述发光光源15分别对应设置在多个安装槽22内，示例性的，所述发光光源15可以是碘钨灯，所述碘钨灯可以通过安装在灯架14上，所述灯架14设置在安装槽22内，优选的，所述碘钨灯可以选择碘钨灯灯管等形式。

在本实施例中，所述加热热源还包括第一冷却机构6，所述第一冷却机构6与所述固定基座21导热配合，并用于使所述固定基座21的温度保持在指定温度，第一冷却机构6能够将固定基座21维持在相对恒定的温度，避免温度过高，减小安装槽的变形，使加热单元运行持续时间更久。

示例性的，所述第一冷却机构6包括液冷机构，所述液冷结构具体可以是水冷机构等，所述液冷机构可以通过市购获得，例如，所述液冷机构包括可供冷却介质连续流动的导热管和导热管内的冷却介质，所述热热管可以设置在所述固定基座21内部。

在本实施例中，所述的用于外延片温降测试的装置还包括外壳1，所述第一腔室2和第二腔室3被所述外壳1包围，所述温度监测单元设置在所述第一腔室2外部，或者，所述外壳1内部具有由外壳1围合形成的第三腔室，所述第三腔室被隔板分隔形成所述的第一腔室2和第二腔室3，所述监测窗口和观察窗口可以设置在所述外壳1上

在本实施例中，所述的用于外延片温降测试的装置还包括第二冷却机构5，所述第二冷却机构5与所述外壳1导热配合，并至少用于使所述外壳1保持在预定温度，示例性的，所述第二冷却机构5包括水冷机构，所述水冷机构可以通过市购获得，在此不对其具体的结构进行限定。

在本实施例中，所述温度监测单元包括红外测温机构4，所述红外测温机构4对应设置在监测窗口23处，示例性的，所述红外测温机构4可以是红外温度传感器等。

在本实施例中，所述温度监测单元还包括沿指定方向延伸设置的导轨19，所述红外测温机构4设置在所述导轨19上并能够沿所述导轨19活动，具体的，所述红外测温机构4可以设置在第四固定支架18上，所述第四固定支架18设置在所述导轨19上并能够沿所述导轨19活动，从而满足不同的测试要求。

在本实施例中，所述温度监测单元还包括第三固定支架20，所述第三固定支架20可分离地固定在外壳1上，所述导轨19固定设置在所述第三固定支架20上，通过改变第三固定支架20于外壳1上的位置，从而可以满足不同的测试要求。

需要说明的是，一种用于外延片温降测试的装置还可以包括控制单元，所述控制单元分别与真空测试单元、加热单元和温度监测单元三部分连接并用于接收真空测试单元、加热单元和温度监测单元反馈的信息并调节真空测试单元、加热单元和温度监测单元的工作状态，具体的，所述控制单元所包含的控制器、数控程序等均是通过市购获得的，控制单元与真空测试单元、加热单元和温度监测单元的电路连接等也是采用本领域技术人员已知的方式进行实现的，在此不对其具体的连接方式进行限定。

本实用新型实施例提供的一种用于外延片温降测试的装置，实现了在独立真空腔室中对外延片温降随时间的变化的测试，并有效解决大功率碘钨灯阵列热源利用效率低下的问题；以及，本实用新型实施例提供的一种用于外延片温降测试的装置，可以对目标外延片加热不均匀性试验测试获取一手数据资料，同时，固定发热热源的固定基座与冷却机构导热配合，能够保证安装槽的槽壁作为光反射结构基本无形变，保证大功率发热热源持续进行加热；另外，本实用新型实施例提供的一种用于外延片温降测试的装置，加热单元的分立腔室设计有效避免了发热热源直接暴露在真空环境中，有效降低了使用过程中的安全风险。

应当理解，上述实施例仅为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (30)

1.一种用于外延片温降测试的装置，其特征在于，包括：

真空测试单元，包括第一腔室以及设置在第一腔室内的第一固定支架，所述第一腔室能够与真空发生机构配合形成真空环境，所述第一固定支架用于可分离地固定外延片；

加热单元，包括第二腔室、设置在第二腔室内的加热热源以及设置在第一腔室内的均温板，所述加热热源用于加热所述均温板，所述均温板用于将加热单元提供的热量均匀地传递至外延片；

温度监测单元，用于采集位于所述第一腔室内的外延片的温度信息。

2.根据权利要求1所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于：所述第一固定支架于所述第一腔室内的位置可以调节。

3.根据权利要求2所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于：所述真空测试单元还包括第一驱动机构，所述第一驱动机构与所述第一固定支架传动连接，并用于驱使所述第一固定支架于所述第一腔室内活动。

4.根据权利要求3所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于：所述第一驱动机构设置在所述第一腔室外部。

5.根据权利要求1或2所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于：所述加热单元还包括第二固定支架，所述第二固定支架固定设置在第一腔室内，所述均温板设置在所述第二固定支架上。

6.根据权利要求5所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于：所述加热单元还包括第一温度监测机构，所述第一温度监测机构设置在所述第一腔室内，并用于监测均温板的温度信息。

7.根据权利要求6所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于：所述第一温度监测机构包括设置在所述均温板表面上的多个温度传感器。

8.根据权利要求1所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于：所述加热单元还包括隔热板，所述隔热板设置在所述第一腔室内，且所述隔热板于第一腔室内的位置可以调节，所述隔热板能够活动至均温板和外延片之间，并阻断或减弱均温板与外延片之间的热传递。

9.根据权利要求8所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于：所述加热单元还包括第二驱动机构，所述第二驱动机构与隔热板传动连接，并用于驱使所述隔热板于所述第一腔室内活动。

10.根据权利要求9所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于：所述第二驱动机构设置在所述第一腔室外部。

11.根据权利要求1所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于：所述加热热源包括至少一发光光源，所述发光光源能够提供光照辐射加热所述均温板。

12.根据权利要求11所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于：所述第一腔室和第二腔室是经一隔板相互隔离形成的，所述隔板上设置有可供所述发光光源提供的光透过的透光结构，所述均温板对应设置在所述透光结构处。

13.根据权利要求12所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于：所述隔板整体为透光结构。

14.根据权利要求12所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于：所述均温板与所述隔板之间具有间隙。

15.根据权利要求11所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于：所述加热热源还包括固定基座，以及，所述固定基座上还具有光反射结构，所述发光光源发出的光的一部分能够直接照射在均温板上，一部分经所述光反射结构反射后照射在所述均温板上。

16.根据权利要求15所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于：所述固定基座具有至少一安装槽，所述发光光源设置在所述安装槽内，所述安装槽的槽壁为能够反射光的光反射结构。

17.根据权利要求16所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于：所述安装槽的截面形状包括U型、V型或抛物线型。

18.根据权利要求16所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于：所述加热热源包括呈阵列分布的多个发光光源，所述固定基座上设置有呈阵列分布的多个安装槽，多个所述发光光源分别对应设置在多个安装槽内。

19.根据权利要求18所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于：所述发光光源包括碘钨灯。

20.根据权利要求15所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于：所述加热热源还包括第一冷却机构，所述第一冷却机构与所述固定基座导热配合，并用于使所述固定基座的温度保持在指定温度。

21.根据权利要求20所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于：所述第一冷却机构包括液冷机构。

22.根据权利要求1所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于，包括：外壳，所述第一腔室和第二腔室被所述外壳包围，所述温度监测单元设置在所述第一腔室外部，所述外壳上还设置有可供温度监测单元对第一腔室内部的外延片进行温度测量的窗口。

23.根据权利要求22所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于：所述外壳内部具有由外壳围合形成的第三腔室，所述第三腔室被分隔形成所述的第一腔室和第二腔室。

24.根据权利要求23所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于：所述外壳上还设置有与第一腔室对应的观察窗口。

25.根据权利要求24所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于：所述温度监测单元安装在所述外壳上。

26.根据权利要求22所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于，还包括：第二冷却机构，所述第二冷却机构与所述外壳导热配合，并至少用于使所述外壳保持在预定温度。

27.根据权利要求26所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于：所述第二冷却机构包括水冷机构。

28.根据权利要求1或22所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于：所述温度监测单元包括红外测温机构。

29.根据权利要求28所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于：所述温度监测单元还包括沿指定方向延伸设置的导轨，所述红外测温机构设置在所述导轨上并能够沿所述导轨活动。

30.根据权利要求29所述的用于外延片温降测试的装置，其特征在于：所述温度监测单元还包括第三固定支架，所述第三固定支架可分离地固定在外壳上，所述导轨固定设置在所述第三固定支架上。

Images