CN218580092U - 晶圆电镀设备电镀槽 - Google Patents

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孙永胜
李松松
祁志明
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Jimsi Semiconductor Technology (Wuxi) Co.,Ltd.
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Abstract

本实用新型是晶圆电镀设备电镀槽,其结构包括外槽体和安装在外槽体内的内槽体,内槽体顶部高度低于外槽体顶部高度,内槽体内放置阳极板和阴极挂具,阳极板和阴极挂具之间设有紧贴阴极挂具表面的百叶板,百叶板上均匀间隔开有若干贯通的长槽孔,百叶板顶部连接平移杆,平移杆穿过两侧外槽体上对应位置的限位块上的开孔,平移杆一端外接平移驱动机构。本实用新型的优点:结构设计合理,通过紧贴阴极挂具的百叶板左右滑动可消除阴极挂具表面气泡,另一方面,溢流出内槽体的化学药剂进入储液槽时会经过S形管,也可消除化学药剂内的气泡,双重消气泡结构可有效消除电镀过程中的气泡,改善电镀效果。

Description

晶圆电镀设备电镀槽
技术领域
本实用新型涉及的是晶圆电镀设备电镀槽。
背景技术
晶圆生产中,需要浸入化学药剂中进行电镀,电镀槽(TSV槽)是该步骤使用的装置。
现有技术中电镀槽在工作中会产生大量气泡,附着在表面上导致电镀效果较差,无法有效满足使用需要。
实用新型内容
本实用新型提出的是晶圆电镀设备电镀槽,其目的旨在克服现有技术存在的上述不足,通过设置可平移的百叶板和新型液体循环系统实现对挂具表面和液体本身消除气泡。
本实用新型的技术解决方案:晶圆电镀设备电镀槽,其结构包括外槽体和安装在外槽体内的内槽体,内槽体顶部高度低于外槽体顶部高度,内槽体内放置阳极板和阴极挂具,阳极板和阴极挂具之间设有紧贴阴极挂具表面的百叶板,百叶板上均匀间隔开有若干贯通的长槽孔,百叶板顶部连接平移杆,平移杆穿过两侧外槽体上对应位置的限位块上的开孔,平移杆一端外接平移驱动机构。
优选的,所述的阳极板和百叶板之间还设有均匀开有微通孔的遮蔽板,遮蔽板设置在阳极板上。
优选的,还包括液体循环系统,液体循环系统包括与外槽体底部相通的出液管和与内槽体底部相通的送液管,出液管连接储液槽,储液槽内设S形管,S形管一端连通储液槽内部、另一端连通出液管,储液槽连通送液管,送液管上由靠近储液槽处向靠近内槽体处依次设有手阀、循环泵和过滤器。
本实用新型的优点:结构设计合理,通过紧贴阴极挂具的百叶板左右滑动可消除阴极挂具表面气泡,另一方面,溢流出内槽体的化学药剂进入储液槽时会经过S形管,也可消除化学药剂内的气泡,双重消气泡结构可有效消除电镀过程中的气泡,改善电镀效果。
附图说明
图1是本实用新型晶圆电镀设备电镀槽的结构示意图。
图2是本实用新型晶圆电镀设备电镀槽的液体循环系统的结构示意图。
图中的1是外槽体、2是内槽体、3是阳极板、4是阴极挂具、5是百叶板、6是限位块、7是出液管、8是储液槽、9是S形管、10是送液管、11是手阀、12是循环泵、13是过滤器、14是平移杆。
具体实施方式
下面结合实施例和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
如图1、2所示,晶圆电镀设备电镀槽,其结构包括外槽体1和安装在外槽体1内的内槽体2,内槽体2顶部高度低于外槽体1顶部高度,内槽体2内放置阳极板3和阴极挂具4,阳极板3和阴极挂具4之间设有紧贴阴极挂具4表面的百叶板5,百叶板5上均匀间隔开有若干贯通的长槽孔,百叶板5顶部连接平移杆14,平移杆14穿过两侧外槽体1上对应位置的限位块6上的开孔,平移杆14一端外接平移驱动机构(未图示)。
平移驱动机构可根据现有技术选择,可满足带动平移杆14沿限位块6上开孔左右滑动即可,比如可选择电机及丝杆螺母副或平移驱动缸。
阳极板3和百叶板5之间还优选设有均匀开有微通孔的遮蔽板,遮蔽板设置在阳极板3上,用来调整镀层的均匀性。
还包括液体循环系统,液体循环系统包括与外槽体1底部相通的出液管7和与内槽体2底部相通的送液管10,出液管7连接储液槽8,储液槽8内设S形管9,S形管9一端连通储液槽8内部、另一端连通出液管7,储液槽8连通送液管10,送液管10上由靠近储液槽8处向靠近内槽体2处依次设有手阀11、循环泵12和过滤器13。
根据以上结构,工作时,电镀进行时平移杆14带动紧贴阴极挂具4的百叶板5左右滑动,可通过长槽孔消除阴极挂具4表面气泡,另一方面,溢流出内槽体2进入外槽体1的化学药剂通过出液管7进入储液槽8,进入时会经过S形管9,也可消除化学药剂内的气泡,储液槽8内的药剂循环经过循环泵12和过滤器13进入槽体2。
以上所述各部件均为现有技术,本领域技术人员可使用任意可实现其对应功能的型号和现有设计。
以上所述的仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。

Claims (3)

1.晶圆电镀设备电镀槽,其结构包括外槽体(1)和安装在外槽体(1)内的内槽体(2),内槽体(2)顶部高度低于外槽体(1)顶部高度,内槽体(2)内放置阳极板(3)和阴极挂具(4),其特征在于,所述的阳极板(3)和阴极挂具(4)之间设有紧贴阴极挂具(4)表面的百叶板(5),百叶板(5)上均匀间隔开有若干贯通的长槽孔,百叶板(5)顶部连接平移杆(14),平移杆(14)穿过两侧外槽体(1)上对应位置的限位块(6)上的开孔,平移杆(14)一端外接平移驱动机构。
2.如权利要求1所述的晶圆电镀设备电镀槽,其特征在于,所述的阳极板(3)和百叶板(5)之间还设有均匀开有微通孔的遮蔽板,遮蔽板设置在阳极板(3)上。
3.如权利要求1或2所述的晶圆电镀设备电镀槽,其特征在于,还包括液体循环系统,液体循环系统包括与外槽体(1)底部相通的出液管(7)和与内槽体(2)底部相通的送液管(10),出液管(7)连接储液槽(8),储液槽(8)内设S形管(9),S形管(9)一端连通储液槽(8)内部、另一端连通出液管(7),储液槽(8)连通送液管(10),送液管(10)上由靠近储液槽(8)处向靠近内槽体(2)处依次设有手阀(11)、循环泵(12)和过滤器(13)。
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CN116377548A (zh) * 2023-06-02 2023-07-04 苏州尊恒半导体科技有限公司 一种晶圆均匀电镀设备

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116377548A (zh) * 2023-06-02 2023-07-04 苏州尊恒半导体科技有限公司 一种晶圆均匀电镀设备
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