CN218561598U - 一种金刚石薄膜真空沉积设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种金刚石薄膜真空沉积设备，属于真空沉积设备技术领域，目前在金刚石膜沉积工程中一般需要加入甲烷与氢气进行化学反应，针对独立的沉积设备需要反复进行操作、导致工作效率低下；包括真空沉积设备，所述真空沉积设备的底部安装有支撑底座，所述支撑底座顶部的一侧固定有支撑机构，所述支撑机构包括液压缸和弧形夹持板，所述真空沉积设备顶部的中心位置处密封连接有中心密封盖，所述中心密封盖顶面的中心位置处密封设有分流连接管，所述分流连接管的向上延伸端固定有气体分流导管，所述气体分流导管的一侧呈一体结构固定有弯折连接管，所述弯折连接管的输入端安装有抽气泵。

Description

一种金刚石薄膜真空沉积设备

技术领域

本实用新型涉及真空沉积设备技术领域，具体为一种金刚石薄膜真空沉积设备。

背景技术

金刚石膜是指用低压或常压化学气相沉积(CVD)方法人工合成的金刚石膜。金刚石膜的制备方法有热化学气相沉积(TCVD)和等离子体化学气相沉积(PCVD)两大类。化学气相沉积(CVD)金刚石薄膜是利用在高温条件下甲烷与氢气的化学反应，通过控制反应条件，在衬底上生长出一层致密的金刚石薄膜的沉积过程。

目前在金刚石膜沉积工程中一般需要加入甲烷与氢气进行化学反应，针对独立的沉积设备需要反复进行操作、导致工作效率低下，且由于要保障金刚石薄膜真空沉积设备内的密封性，密封盖一般密封结构多较为沉重，人工搬运耗费体力；为此我们提出一种金刚石薄膜真空沉积设备用于解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种金刚石薄膜真空沉积设备，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种金刚石薄膜真空沉积设备，包括真空沉积设备，所述真空沉积设备的底部安装有支撑底座，所述支撑底座顶部的一侧固定有支撑机构，所述支撑机构包括液压缸和弧形夹持板；

所述真空沉积设备顶部的中心位置处密封连接有中心密封盖，所述中心密封盖顶面的中心位置处密封设有分流连接管，所述分流连接管的向上延伸端固定有气体分流导管，所述气体分流导管的一侧呈一体结构固定有弯折连接管，所述弯折连接管的输入端安装有抽气泵。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述支撑机构的内部固定安装有液压缸，所述液压缸的输出端固定有连接架，所述连接架的一端与弧形夹持板的外壁焊接，所述弧形夹持板的内壁粘贴连接有防滑垫。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述中心密封盖的外部密封连接有密封法兰盖，所述密封法兰盖与真空沉积设备通过连接螺栓连接。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述气体分流导管内部的底端呈等距分布、至少设置有两个导流口，所述分流连接管的顶端延伸并贯穿至导流口的内部。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述分流连接管顶端的外部安装有电磁阀，所述分流连接管底端的外部设有密封垫圈。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述气体分流导管的内部开设有分流室，所述气体分流导管一侧内壁开设有排气口，所述排气口贯穿至弯折连接管的内部。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述分流室的内壁呈上下交错、依次分布有若干个阻流隔板，所述阻流隔板的一端开设有流通口，所述阻流隔板的侧壁对称粘贴连接有蜂窝吸附垫。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：

1.本实用新型通过设有气体分流导管，将其底部的分流连接管分别与每个独立的真空沉积设备进行连接，从而可以对多个真空沉积设备进行气体传递，通过抽气泵工作抽吸外部储气罐内化学气体，向真空沉积设备内通入氢气和甲烷的混合气体，从而方便内部进行金刚石薄膜化学反应，在气体分流导管的内壁错落性设置有多个阻流隔板，在起到缓和气流的同时，还能通过蜂窝吸附垫对气体内的杂质进行吸附，保障了后续反应效果；

2.在反应结束后，可通过对密封法兰盖进行拆卸，由于密封法兰盖较为沉重，弧形夹持板设置为与密封法兰盖外壁贴合，形成夹持空间，此时可以通过液压缸工作提供动力带动连接架向上运动，从而使弧形夹持板夹持密封法兰盖向上脱离真空沉积设备，便于对反应后的原料进行处理。

附图说明

图1为本实用新型一种金刚石薄膜真空沉积设备的主视图。

图2为本实用新型真空沉积设备的结构示意图。

图3为本实用新型气体分流导管的剖视图。

图中：1、真空沉积设备；2、支撑底座；3、气体分流导管；4、分流连接管；5、电磁阀；6、弯折连接管；7、抽气泵；8、密封法兰盖；9、连接螺栓；10、中心密封盖；11、密封垫圈；12、支撑机构；13、液压缸；14、连接架；15、弧形夹持板；16、防滑垫；17、分流室；18、导流口；19、流通口；20、排气口；21、阻流隔板；22、蜂窝吸附垫。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

实施例：如图1-3所示，本实用新型提供了一种金刚石薄膜真空沉积设备，包括真空沉积设备1，真空沉积设备1的底部安装有支撑底座2，支撑底座2顶部的一侧固定有支撑机构12，支撑机构12包括液压缸13和弧形夹持板15；

真空沉积设备1顶部的中心位置处密封连接有中心密封盖10，中心密封盖10顶面的中心位置处密封设有分流连接管4，分流连接管4的向上延伸端固定有气体分流导管3，气体分流导管3的一侧呈一体结构固定有弯折连接管6，弯折连接管6的输入端安装有抽气泵7。

为了对中心密封盖10进行搬运，具体的，支撑机构12的内部固定安装有液压缸13，液压缸13的输出端固定有连接架14，进行支撑连接，连接架14的一端与弧形夹持板15的外壁焊接，由于弧形夹持板15的内径与密封法兰盖8外壁贴合，从而形成夹持空间，弧形夹持板15的内壁粘贴连接有防滑垫16，防脱落效果好。

进一步的，中心密封盖10的外部密封连接有密封法兰盖8，密封法兰盖8与真空沉积设备1通过连接螺栓9连接，连接结构简单，方便装卸。

为了提高工作效率，具体的，气体分流导管3内部的底端呈等距分布、至少设置有两个导流口18，可实现两个或两个以上设备同时使用，分流连接管4的顶端延伸并贯穿至导流口18的内部，分流连接管4顶端的外部安装有电磁阀5，分流连接管4底端的外部设有密封垫圈11，气体分流导管3的内部开设有分流室17，气体分流导管3一侧内壁开设有排气口20，排气口20贯穿至弯折连接管6的内部，形成气体流通腔。

进一步的，分流室17的内壁呈上下交错、依次分布有若干个阻流隔板21，可以有效的缓和气体的流速，避免造成较大噪音，阻流隔板21的一端开设有流通口19，阻流隔板21的侧壁对称粘贴连接有蜂窝吸附垫22，可吸附混合气体内部的杂质，保障了化学反应效果。

工作原理：使用时，通过将气体分流导管3底部的分流连接管4分别与每个独立的真空沉积设备1顶端的中心密封盖10进行连接，密封垫圈11保障了分流连接管4连接的密封性。

通过启动抽气泵7，抽气泵7工作经外部储气罐抽吸氢气和甲烷的混合气体，混合气体通过排气口20排出，由于分流室17内壁呈上下错落设置有多个阻流隔板21，同时在底部开设有流通口19方便气体流通，可以有效的缓和气体的流速，避免造成较大噪音，其外部的蜂窝吸附垫22可以吸附气体内的杂质，保障了后续加工效果，混合气体经导流口18分流通过分流连接管4向真空沉积设备1内通入氢气和甲烷的混合气体，从而方便内部进行金刚石薄膜化学反应，可通过电磁阀5控制气体的流速，方便独立对一个设备或多个设备进行气体分流。

最后工作结束后，可通过拆除密封法兰盖8内部的连接螺栓9，由于弧形夹持板15的内径与密封法兰盖8外壁贴合，从而形成夹持空间，防滑垫16防滑性好，可通过支撑机构12内部的液压缸13工作带动连接架14向上运动，从而使得密封法兰盖8脱离真空沉积设备1的顶端，方便对内部反应好的物料进行后续操作。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (7)

1.一种金刚石薄膜真空沉积设备，包括真空沉积设备(1)，其特征在于：所述真空沉积设备(1)的底部安装有支撑底座(2)，所述支撑底座(2)顶部的一侧固定有支撑机构(12)，所述支撑机构(12)包括液压缸(13)和弧形夹持板(15)；

所述真空沉积设备(1)顶部的中心位置处密封连接有中心密封盖(10)，所述中心密封盖(10)顶面的中心位置处密封设有分流连接管(4)，所述分流连接管(4)的向上延伸端固定有气体分流导管(3)，所述气体分流导管(3)的一侧呈一体结构固定有弯折连接管(6)，所述弯折连接管(6)的输入端安装有抽气泵(7)。

2.根据权利要求1所述的一种金刚石薄膜真空沉积设备，其特征在于：所述支撑机构(12)的内部固定安装有液压缸(13)，所述液压缸(13)的输出端固定有连接架(14)，所述连接架(14)的一端与弧形夹持板(15)的外壁焊接，所述弧形夹持板(15)的内壁粘贴连接有防滑垫(16)。

3.根据权利要求1所述的一种金刚石薄膜真空沉积设备，其特征在于：所述中心密封盖(10)的外部密封连接有密封法兰盖(8)，所述密封法兰盖(8)与真空沉积设备(1)通过连接螺栓(9)连接。

4.根据权利要求1所述的一种金刚石薄膜真空沉积设备，其特征在于：所述气体分流导管(3)内部的底端呈等距分布、至少设置有两个导流口(18)，所述分流连接管(4)的顶端延伸并贯穿至导流口(18)的内部。

5.根据权利要求4所述的一种金刚石薄膜真空沉积设备，其特征在于：所述分流连接管(4)顶端的外部安装有电磁阀(5)，所述分流连接管(4)底端的外部设有密封垫圈(11)。

6.根据权利要求1所述的一种金刚石薄膜真空沉积设备，其特征在于：所述气体分流导管(3)的内部开设有分流室(17)，所述气体分流导管(3)一侧内壁开设有排气口(20)，所述排气口(20)贯穿至弯折连接管(6)的内部。

7.根据权利要求6所述的一种金刚石薄膜真空沉积设备，其特征在于：所述分流室(17)的内壁呈上下交错、依次分布有若干个阻流隔板(21)，所述阻流隔板(21)的一端开设有流通口(19)，所述阻流隔板(21)的侧壁对称粘贴连接有蜂窝吸附垫(22)。

Images