CN218447862U - 晶圆承载装置及匀胶显影设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种晶圆承载装置及匀胶显影设备，晶圆承载装置包括基座、承载圆台、多个夹持件以及清洗结构，基座形成有朝上开口的涂覆腔，涂覆腔的底壁开设有排液口，承载圆台具有安装顶面，安装顶面设置有多个弹性件，多个弹性件的上端构成用以供晶圆放置的承载面，多个弹性件可上下伸缩设置，承载圆台沿上下向可活动地安装于涂覆腔的底壁，以具有自上向下依次分布的上料位置和工作位置，清洗结构包括形成于承载圆台的内部的清洗通道，清洗通道的一端贯穿承载圆台的侧壁形成喷水口。在该晶圆承载装置的使用过程中，显影液残液被水冲走，减少了在涂覆腔内壁的附着，保证了晶圆承载装置后续的正常运行，从而提高了显影质量。

Description

晶圆承载装置及匀胶显影设备

技术领域

本实用新型涉及涂胶显影术领域，具体涉及一种晶圆承载装置及匀胶显影设备。

背景技术

在目前的匀胶显影设备中，一般将晶圆传送至晶圆承载装置的承载台上然后进行涂覆显影液，涂覆后的显影液残液会经承载台下方的排液口排出，但显影液残液难免会有部分附着在晶圆承载装置内部无法有效排出，而附着的残液不断累积会影响晶圆承载装置内的机械零部件的正常运行，从而降低显影质量。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提出一种晶圆承载装置及匀胶显影设备，旨在解决现有技术中显影液残液难免会有部分附着在晶圆承载装置内部无法有效排出，而附着的残液不断累积会影响晶圆承载装置内的机械零部件的正常运行，从而降低显影质量的问题。

为了实现上述目的，本实用新型提出的一种晶圆承载装置，包括：

基座，所述基座形成有朝上开口的涂覆腔，所述涂覆腔的底壁开设有排液口；

承载圆台，具有安装顶面，所述安装顶面设置有多个弹性件，多个所述弹性件的上端构成用以供晶圆放置的承载面，多个所述弹性件可上下伸缩设置，所述承载圆台沿上下向可活动地安装于所述涂覆腔的底壁，以具有自上向下依次分布的上料位置和工作位置，在所述上料位置时，所述承载面伸出所述涂覆腔的上开口，在所述工作位置，所述承载圆台的下端抵接所述涂覆腔的底壁；

多个夹持件，沿所述承载圆台的周向分设于所述涂覆腔的底壁，用以在所述承载圆台处于所述工作位置时共同夹持所述承载面上的晶圆；以及，

清洗结构，包括形成于所述承载圆台的内部的清洗通道，所述清洗通道的一端贯穿所述承载圆台的侧壁形成喷水口，所述清洗结构用以通过所述喷水口向所述涂覆腔内喷水，以清洗所述涂覆腔。

可选地，多个所述弹性件沿所述承载圆台轴线的周向间隔设置在所述安装顶面。

可选地，每一所述弹性件位于所述安装顶面的圆心和外圈的中部。

可选地，所述清洗结构还包括水箱，所述水箱设于所述基座，所述水箱与所述清洗通道的另一端连通，用以所述清洗通道内供水。

可选地，所述喷水口在朝向所述承载圆台侧壁的外侧的方向上呈渐扩设置。

可选地，所述清洗通道包括与所述喷水口连接的出水段，所述出水段在沿远离所述喷水口的方向上呈朝上倾斜延伸设置。

可选地，所述涂覆腔的底壁设有自下向上延伸的多个安装支座，多个所述安装支座沿所述承载圆台的周向分布；

多个所述夹持件一一对应安装于多个所述安装支座的上端，每一所述夹持件具有相对所述承载圆台设置的抵接侧壁，所述抵接侧壁凹陷形成有抵接凹槽，每一所述夹持件沿所述承载圆台的径向可活动设置，以在所述承载圆台处于所述工作位置时，每一所述夹持件能够沿所述承载圆台的径向靠近所述承载圆台活动而使所述承载面上的晶圆的周壁容置于所述抵接凹槽，使得所述承载面上的晶圆被夹持，或者，能够沿所述承载圆台的径向远离所述承载圆台活动而使所述承载面上的晶圆的周壁脱离所述抵接凹槽，使得所述承载面上的晶圆被松开；

所述晶圆承载装置还包括多个驱动件，多个所述驱动件用以驱使对应的所述夹持件沿所述承载圆台的径向活动。

可选地，每一所述夹持件具有与所述抵接侧壁邻接的导液侧壁，所述导液侧壁设有与所述抵接凹槽连接的导液凹槽，所述导液凹槽在远离所述抵接侧壁的方向上呈向下倾斜延伸设置。

可选地，所述涂覆腔的底壁设置有安装孔；

所述晶圆承载装置还包括驱动气缸，所述驱动气缸设于所述基座，所述驱动气缸的输出轴设有连接座，所述连接座上安装有驱动电机，所述驱动电机的输出轴自下穿过所述安装孔而伸入所述涂覆腔内，所述承载圆台设置在所述驱动电机的输出轴；

其中，所述驱动气缸用以驱使所述连接座上下活动，以带动所述承载圆台上下活动，所述驱动电机用以驱使所述承载圆台绕沿上下延伸的轴线转动。

本实用新型还提出的一种匀胶显影设备，包括如上所述的晶圆承载装置。

本实用新型提供的技术方案中，在使用该晶圆承载装置对晶圆进行涂覆显影液时，首先，所述承载圆台朝上活动至所述上料位置，机械手将晶圆拾取至所述承载面，然后所述承载圆台朝下活动至所述工作位置，并用多个夹持件夹持晶圆，接着自所述上开口向晶圆喷涂显影液，涂覆好后，所述承载圆台再次朝上活动至所述上料位置，机械手取走晶圆，所述承载圆台继续朝下活动，并在抵达所述工作位置前，所述清洗结构通过所述喷水口向所述涂覆腔内喷水，冲走显影液残液，实现对所述涂覆腔的清洗。在该晶圆承载装置的使用过程中，显影液残液被水冲走，减少了在涂覆腔内壁的附着，保证了晶圆承载装置后续的正常运行，从而提高了显影质量；此外，多个所述弹性件可上下伸缩设置，使得晶圆被运送至所述承载面后，多个所述弹性件会因晶圆重力而出现一定的弹性伸缩变形，使得晶圆趋向于平稳，避免多个夹持件夹持晶圆时晶圆出现歪斜而损伤晶圆；并且所述弹性件与晶圆底面的接触为点接触，减少了对晶圆表面的损伤。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本实用新型提供的晶圆承载装置的一实施例的结构示意图；

图2为图1中晶圆承载装置局部A的放大示意图。

附图标号说明：

标号	名称	标号	名称
				100	晶圆承载装置	31	抵接侧壁
1	基座	311	抵接凹槽
				11	涂覆腔	32	导液侧壁
111	排液口	321	导液凹槽
				112	安装支座	4	清洗结构
113	安装孔	41	清洗通道
				2	承载圆台	411	出水段
21	安装顶面	42	喷水口
				22	弹性件	5	驱动件
3	夹持件	200	晶圆

本实用新型目的的实现、功能特点及优异效果，下面将结合具体实施例以及附图做进一步的说明。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

需要说明，若本实用新型实施例中有涉及方向性指示，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

另外，若本实用新型实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。

在目前的匀胶显影设备中，一般将晶圆传送至晶圆承载装置的承载台上然后进行涂覆显影液，涂覆后的显影液残液会经承载台下方的排液口排出，但显影液残液难免会有部分附着在晶圆承载装置内部无法有效排出，而附着的残液不断累积会影响晶圆承载装置内的机械零部件的正常运行，从而降低显影质量。

鉴于此，本实用新型提供一种晶圆承载装置，图1至图2为本实用新型提供的晶圆承载装置的实施例。

如图1和图2所示，所述晶圆承载装置100包括基座1、承载圆台2、多个夹持件3以及清洗结构4，所述基座1形成有朝上开口的涂覆腔11，所述涂覆腔11的底壁开设有排液口111，所述承载圆台2具有安装顶面21，所述安装顶面21设置有多个弹性件22，多个所述弹性件22的上端构成用以供晶圆200放置的承载面，多个所述弹性件22可上下伸缩设置，所述承载圆台2沿上下向可活动地安装于所述涂覆腔11的底壁，以具有自上向下依次分布的上料位置和工作位置，在所述上料位置时，所述承载面伸出所述涂覆腔11的上开口，在所述工作位置，所述承载圆台2的下端抵接所述涂覆腔11的底壁，多个所述夹持件3沿所述承载圆台2的周向分设于所述涂覆腔11的底壁，用以在所述承载圆台2处于所述工作位置时共同夹持所述承载面上的晶圆200，所述清洗结构4包括形成于所述承载圆台2的内部的清洗通道41，所述清洗通道41的一端贯穿所述承载圆台2的侧壁形成喷水口42，所述清洗结构4用以通过所述喷水口42向所述涂覆腔11内喷水，以清洗所述涂覆腔11。

本实用新型提供的技术方案中，在使用该晶圆承载装置100对晶圆200进行涂覆显影液时，首先，所述承载圆台2朝上活动至所述上料位置，机械手将晶圆200拾取至所述承载面，然后所述承载圆台2朝下活动至所述工作位置，并用多个夹持件3夹持晶圆200，接着自所述上开口向晶圆200喷涂显影液，涂覆好后，所述承载圆台2再次朝上活动至所述上料位置，机械手取走晶圆200，所述承载圆台2继续朝下活动，并在抵达所述工作位置前，所述清洗结构4通过所述喷水口42向所述涂覆腔11内喷水，冲走显影液残液，实现对所述涂覆腔11的清洗。在该晶圆承载装置100的使用过程中，显影液残液被水冲走，减少了在涂覆腔11内壁的附着，保证了晶圆承载装置100后续的正常运行，从而提高了显影质量；此外，多个所述弹性件22可上下伸缩设置，使得晶圆200被运送至所述承载面后，多个所述弹性件22会因晶圆200重力而出现一定的弹性伸缩变形，使得晶圆200趋向于平稳，避免多个夹持件3夹持晶圆200时晶圆200出现歪斜而损伤晶圆200；并且所述弹性件22与晶圆200底面的接触为点接触，减少了对晶圆200表面的损伤。

进一步地，多个所述弹性件22沿所述承载圆台2轴线的周向间隔设置在所述安装顶面21，这样，多个所述弹性件22对晶圆200底面形成的支撑点分布较均匀，晶圆200放置较平稳。

更进一步地，每一所述弹性件22位于所述安装顶面21的圆心和外圈的中部，如此，进一步提高晶圆200放置的平稳性。

需要说明的是，所述弹性件22的上端呈球面，如此，所述弹性件22对晶圆200表面的损伤更少。

此外，所述清洗结构4还包括水箱(附图未示出)，所述水箱设于所述基座1，所述水箱与所述清洗通道41的另一端连通，用以所述清洗通道41内供水。利用水箱对清洗通道41内持续供水，保证对显影液残液的清洗效果。对于所述水箱与所述清洗通道41的另一端连通的具体方式，本实用新型不做限制，可以是通过所述水箱的出水口连接水管，该水管通过开设在涂覆腔11底壁的孔(如下述的安装孔113)连接至所述清洗通道41的另一端。

进一步地，所述喷水口42在朝向所述承载圆台2侧壁的外侧的方向上呈渐扩设置，这样一来，从喷水口42喷向所述涂覆腔11的水会呈现一个逐渐扩大的喷射流，喷射覆盖面积更广，进一步提升对显影液残液的清洗效果。

更进一步地，所述清洗通道41包括与所述喷水口42连接的出水段411，所述出水段411在沿远离所述喷水口42的方向上呈朝上倾斜延伸设置，避免从喷水口42喷出的水回流。

所述涂覆腔11的底壁设有自下向上延伸的多个安装支座112，多个所述安装支座112沿所述承载圆台2的周向分布；多个所述夹持件3一一对应安装于多个所述安装支座112的上端，每一所述夹持件3具有相对所述承载圆台2设置的抵接侧壁31，所述抵接侧壁31凹陷形成有抵接凹槽311，每一所述夹持件3沿所述承载圆台2的径向可活动设置，以在所述承载圆台2处于所述工作位置时，每一所述夹持件3能够沿所述承载圆台2的径向靠近所述承载圆台2活动而使所述承载面上的晶圆200的周壁容置于所述抵接凹槽311，使得所述承载面上的晶圆200被夹持，或者，能够沿所述承载圆台2的径向远离所述承载圆台2活动而使所述承载面上的晶圆200的周壁脱离所述抵接凹槽311，使得所述承载面上的晶圆200被松开；所述晶圆承载装置100还包括多个驱动件5，多个所述驱动件5用以驱使对应的所述夹持件3沿所述承载圆台2的径向活动。如此，在所述驱动件5的驱使下，多个所述夹持件3能够实现对晶圆200的周壁的夹持和松开，夹持时夹持牢靠，松开时松开方便。

每一所述夹持件3具有与所述抵接侧壁31邻接的导液侧壁32，所述导液侧壁32设有与所述抵接凹槽311连接的导液凹槽321，所述导液凹槽321在远离所述抵接侧壁31的方向上呈向下倾斜延伸设置。在向晶圆200喷涂显影液后，显影液会有部分流到抵接凹槽311内且停留其中，而不易流向排液口111，本实用新型通过设置导液凹槽321，使得该部分停留的显影液能够经所述导液凹槽321顺利流走。

在本实用新型实施例中，所述涂覆腔11的底壁设置有安装孔113；所述晶圆承载装置100还包括驱动气缸(附图未示出)，所述驱动气缸设于所述基座1，所述驱动气缸的输出轴设有连接座(附图未示出)，所述连接座上安装有驱动电机(附图未示出)，所述驱动电机的输出轴自下穿过所述安装孔113而伸入所述涂覆腔11内，所述承载圆台2设置在所述驱动电机的输出轴；其中，所述驱动气缸用以驱使所述连接座上下活动，以带动所述承载圆台2上下活动，所述驱动电机用以驱使所述承载圆台2绕沿上下延伸的轴线转动。所述驱动电机能够驱使所述承载圆台2绕沿上下延伸的轴线转动，承载圆台2在转动过程会产生离心力，使得向晶圆200喷涂显影液时，显影液在涂覆完晶圆200后，残液能被离心力顺利甩走。

本实用新型还提出一种匀胶显影设备，包括如上所述的晶圆承载装置100。由于该匀胶显影设备采用了上述所有实施例的全部技术方案，因此至少具有上述实施例的技术方案所带来的所有有益效果，在此不再一一赘述。

以上所述仅为本实用新型的可选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种晶圆承载装置，其特征在于，包括：

基座，所述基座形成有朝上开口的涂覆腔，所述涂覆腔的底壁开设有排液口；

承载圆台，具有安装顶面，所述安装顶面设置有多个弹性件，多个所述弹性件的上端构成用以供晶圆放置的承载面，多个所述弹性件可上下伸缩设置，所述承载圆台沿上下向可活动地安装于所述涂覆腔的底壁，以具有自上向下依次分布的上料位置和工作位置，在所述上料位置时，所述承载面伸出所述涂覆腔的上开口，在所述工作位置，所述承载圆台的下端抵接所述涂覆腔的底壁；

多个夹持件，沿所述承载圆台的周向分设于所述涂覆腔的底壁，用以在所述承载圆台处于所述工作位置时共同夹持所述承载面上的晶圆；以及，

清洗结构，包括形成于所述承载圆台的内部的清洗通道，所述清洗通道的一端贯穿所述承载圆台的侧壁形成喷水口，所述清洗结构用以通过所述喷水口向所述涂覆腔内喷水，以清洗所述涂覆腔。

2.如权利要求1所述的晶圆承载装置，其特征在于，多个所述弹性件沿所述承载圆台轴线的周向间隔设置在所述安装顶面。

3.如权利要求2所述的晶圆承载装置，其特征在于，每一所述弹性件位于所述安装顶面的圆心和外圈的中部。

4.如权利要求1所述的晶圆承载装置，其特征在于，所述清洗结构还包括水箱，所述水箱设于所述基座，所述水箱与所述清洗通道的另一端连通，用以所述清洗通道内供水。

5.如权利要求1所述的晶圆承载装置，其特征在于，所述喷水口在朝向所述承载圆台侧壁的外侧的方向上呈渐扩设置。

6.如权利要求1所述的晶圆承载装置，其特征在于，所述清洗通道包括与所述喷水口连接的出水段，所述出水段在沿远离所述喷水口的方向上呈朝上倾斜延伸设置。

7.如权利要求1所述的晶圆承载装置，其特征在于，所述涂覆腔的底壁设有自下向上延伸的多个安装支座，多个所述安装支座沿所述承载圆台的周向分布；

多个所述夹持件一一对应安装于多个所述安装支座的上端，每一所述夹持件具有相对所述承载圆台设置的抵接侧壁，所述抵接侧壁凹陷形成有抵接凹槽，每一所述夹持件沿所述承载圆台的径向可活动设置，以在所述承载圆台处于所述工作位置时，每一所述夹持件能够沿所述承载圆台的径向靠近所述承载圆台活动而使所述承载面上的晶圆的周壁容置于所述抵接凹槽，使得所述承载面上的晶圆被夹持，或者，能够沿所述承载圆台的径向远离所述承载圆台活动而使所述承载面上的晶圆的周壁脱离所述抵接凹槽，使得所述承载面上的晶圆被松开；

所述晶圆承载装置还包括多个驱动件，多个所述驱动件用以驱使对应的所述夹持件沿所述承载圆台的径向活动。

8.如权利要求7所述的晶圆承载装置，其特征在于，每一所述夹持件具有与所述抵接侧壁邻接的导液侧壁，所述导液侧壁设有与所述抵接凹槽连接的导液凹槽，所述导液凹槽在远离所述抵接侧壁的方向上呈向下倾斜延伸设置。

9.如权利要求1所述的晶圆承载装置，其特征在于，所述涂覆腔的底壁设置有安装孔；

所述晶圆承载装置还包括驱动气缸，所述驱动气缸设于所述基座，所述驱动气缸的输出轴设有连接座，所述连接座上安装有驱动电机，所述驱动电机的输出轴自下穿过所述安装孔而伸入所述涂覆腔内，所述承载圆台设置在所述驱动电机的输出轴；

其中，所述驱动气缸用以驱使所述连接座上下活动，以带动所述承载圆台上下活动，所述驱动电机用以驱使所述承载圆台绕沿上下延伸的轴线转动。

10.一种匀胶显影设备，其特征在于，包括如权利要求1至9任意一项所述的晶圆承载装置。

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