CN218262821U - 一种可降低单晶氧含量的热场 - Google Patents

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吴超慧
许堃
李安君
陈伟
朱厚军
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Abstract

本实用新型涉及一种可降低单晶氧含量的热场,属于单晶炉热场技术领域。包括石英坩埚、底座、上部保温筒、中部保温筒、下部保温筒,所述的底座上设有石英坩埚,石英坩埚侧方从上到下依次包裹有上部保温筒、中部保温筒、下部保温筒,所述的上部保温筒和石英坩埚之间设有加热器,上部保温筒和中部保温筒之间设有隔热筒。本实用新型通过在上部保温筒和中部保温筒之间增加隔热筒,在拉晶过程中,石英坩埚底部拐角被隔热筒阻挡,加热器发热区热量无法直接烘烤石英坩埚底部拐角,降低石英坩埚底部拐角位置温度,提高硅熔体的纵向对流,降低径向对流,使得硅熔体内的溶解氧进入晶体生长界面的概率大大降低,从而达到降低单晶头部氧含量的目的。

Description

一种可降低单晶氧含量的热场
技术领域
本实用新型属于单晶炉热场技术领域,具体的说,涉及一种可降低单晶氧含量的热场。
背景技术
随着单晶热场尺寸的不断增大及N型市场的不断扩大,降低单晶的头部氧含量,从而得到的低氧单晶将逐步成为新的技术路线及产品标准。
目前单晶热场主要以32寸或36寸为主,其中,32寸热场通过近几年技术的不断开发,目前氧含量已控制在12-12.5ppma范围左右,该氧含量下,单晶硅片在电池端表现良好。
36寸热场下,由于硅液和坩埚的接触面积增加,导致坩埚中的氧进入熔硅中更多。同时,由于热场的增大,等径功率的增加,高温加速了坩埚中的氧进入熔硅中的速度。石英坩埚为单晶氧含量的主要来源,高温下,石英坩埚中的氧进入硅熔体中,随着硅熔体的对流进入单晶生长界面,形成间隙氧,目前36寸热场的平均氧含量在14ppma左右,拉制N型产品时,此氧含量下,硅片在电池端表现较差,制成电池后,同心圆明显,对效率有较大影响。为了解决高氧硅片在电池端的不良表现,拉晶端对36寸的单晶降氧具有重要的意义。
发明内容
为了解决上述问题,本实用新型提出了一种可降低单晶氧含量的热场。有效降低单晶的头部氧含量,提高单晶硅片在电池端的表现。
为达到上述目的,本实用新型按如下技术方案实施的:
一种可降低单晶氧含量的热场,包括石英坩埚1、底座2、上部保温筒3、中部保温筒4、下部保温筒5,所述的底座2上设有石英坩埚1,石英坩埚1侧方从上到下依次包裹有上部保温筒3、中部保温筒4、下部保温筒5,所述的上部保温筒3和石英坩埚1之间设有加热器6,上部保温筒3和中部保温筒4之间设有隔热筒7。
优选的,所述的隔热筒7包括主筒体7-1、上平面7-2;所述的主筒体7-1为中空式,主筒体7-1顶部可拆卸安装有上平面7-2,主筒体7-1内装填有保温毡。
优选的,所述的隔热筒7总高度为50-150mm。
优选的,所述的隔热筒7为碳碳材质隔热筒,各侧壁厚度为7-15mm。
优选的,所述的隔热筒7与加热器6之间的距离至少为30mm。
优选的,所述上部保温筒3的底部设置有向下延伸的卡块,隔热筒7上设有与卡块相匹配的卡槽。
本实用新型的有益效果:
本实用新型通过在上部保温筒和中部保温筒之间增加隔热筒,在拉晶过程中,石英坩埚底部拐角被隔热筒阻挡,加热器发热区热量无法直接烘烤石英坩埚底部拐角,降低石英坩埚底部拐角位置温度,提高硅熔体的纵向对流,降低径向对流,使得硅熔体内的溶解氧进入晶体生长界面的概率大大降低,从而达到降低单晶头部氧含量的目的。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单的介绍,显而易见,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本实用新型保温筒安装示意图;
图2是本实用新型保温筒剖视示意图;
图中,1-石英坩埚、2-底座、3-上部保温筒、4-中部保温筒、5-下部保温筒、6-加热器、7-隔热筒、7-1-主筒体、7-2上平面。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案和有益效果更加清楚,下面将结合附图,对本实用新型的优选实施例进行详细的说明,以方便技术人员理解。
由图所示,一种可降低单晶氧含量的热场,包括石英坩埚1、底座2、上部保温筒3、中部保温筒4、下部保温筒5,所述的底座2上设有石英坩埚1,石英坩埚1上方设置有导流筒,石英坩埚1侧方从上到下依次包裹有上部保温筒3、中部保温筒4、下部保温筒5,上部保温筒3包裹住石英坩埚1的上半部及其上方的导流筒,中部保温筒4包裹住石英坩埚1的下半部,下部保温筒5包裹住底座2。上部保温筒3和石英坩埚1之间设有加热器6,加热器6与外部电源连接,用于对石英坩埚1及其内部的物料,在石英坩埚1中形成硅熔体,上部保温筒3和中部保温筒4之间设有隔热筒7,阻隔加热器6中热量的向下传递,使得加热器6产生的热量无法直接辐射到石英坩埚底部拐角(R角)位置,降低石英坩埚1转角部位的温度,使得石英坩埚1内的硅熔体内部上下温度梯度增加,进而增加硅熔体纵向对流,减弱硅熔体的径向对流,减少硅熔体中的氧进入生长界面的概率,从而降低单晶的氧含量。
本技术方案中,所述的隔热筒7包括主筒体7-1、上平面7-2;主筒体7-1形状与石英坩埚1相匹配,保证其能够紧密的包裹住石英坩埚1,同时,主筒体7-1上设置有用于规避和加热器6脚板的装配干涉的预留空缺,主筒体7-1为中空式,有效降低主筒体7-1的整体质量,提高主筒体7-1的隔热效果,主筒体7-1顶部可拆卸安装有上平面7-2,使隔热筒7总高度为50-150mm,主筒体7-1内装填有保温毡,通过填充保温毡,进一步提高隔热筒7的隔热效果。
作为优选,隔热筒7为碳碳材质隔热筒7,各侧壁厚度为7-15mm,既能保证隔热筒7在使用过程中不会出现变形,又能满足隔热筒7内具有足够的空间装填保温毡。
作为优选,隔热筒7上顶面与加热器6下底面之间的距离至少为30mm,有效避免加热器6和隔热筒7的安全距离过小而出现打火异常问题,保证热场的正常使用。
作为优选,上部保温筒3的底部设置有向下延伸的卡块,隔热筒7上设有与卡块相匹配的卡槽(示意图中未画出),通过将卡块插入隔热筒7的卡槽中,有效确保隔热筒7安装的稳定性。
最后说明的是,以上优选实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非限制,尽管通过上述优选实施例已经对本实用新型进行了详细的描述,但本领域技术人员应当理解,可以在形式上和细节上对其做出各种各样的改变,而不偏离本实用新型权利要求书所限定的范围;附图尺寸与具体实物无关,实物尺寸可任意变换。

Claims (6)

1.一种可降低单晶氧含量的热场,包括石英坩埚(1)、底座(2)、上部保温筒(3)、中部保温筒(4)、下部保温筒(5),所述的底座(2)上设有石英坩埚(1),石英坩埚(1)侧方从上到下依次包裹有上部保温筒(3)、中部保温筒(4)、下部保温筒(5),其特征在于:所述的上部保温筒(3)和石英坩埚(1)之间设有加热器(6),上部保温筒(3)和中部保温筒(4)之间设有隔热筒(7)。
2.根据权利要求1所述的一种可降低单晶氧含量的热场,其特征在于:所述的隔热筒(7)包括主筒体(7-1)、上平面(7-2);所述的主筒体(7-1)为中空式,主筒体(7-1)顶部可拆卸安装有上平面(7-2),主筒体(7-1)内装填有保温毡。
3.根据权利要求2所述的一种可降低单晶氧含量的热场,其特征在于:所述的隔热筒(7)总高度为50-150mm。
4.根据权利要求2所述的一种可降低单晶氧含量的热场,其特征在于:所述的隔热筒(7)为碳碳材质隔热筒,各侧壁厚度为7-15mm。
5.根据权利要求1、2、3或4任一项所述的一种可降低单晶氧含量的热场,其特征在于:所述的隔热筒(7)与加热器(6)之间的距离至少为30mm。
6.根据权利要求1所述的一种可降低单晶氧含量的热场,其特征在于:所述上部保温筒(3)的底部设置有向下延伸的卡块,隔热筒(7)上设有与卡块相匹配的卡槽。
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