CN218244275U - 一种阵列基板、显示面板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本公开涉及一种阵列基板、显示面板及显示装置。该阵列基板包括衬底；所述衬底上设置有像素定义层、显示像素以及第一反射层；所述像素定义层包括多个凹槽；所述凹槽内设置有所述显示像素和所述第一反射层；所述第一反射层设置在所述像素定义层与所述显示像素之间。本公开实施例提供的技术方案，在像素定义层与显示像素之间设置有第一反射层，可以经过第一反射层将照射至像素定义层的光线反射至阵列基板的显示区域，因而可以增加显示区域的出光强度，且结构简单容易实现。

Description

一种阵列基板、显示面板及显示装置

技术领域

本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板、显示面板及显示装置。

背景技术

有机电致发光二极管(Organic Electroluminescence Display，OLED)显示面板基于其高亮度、高效率、宽视角、自主发光等优良特性，得到了广泛应用。

OLED显示面板的阵列基板上包括显示区域和非显示区域，显示区域内设有多个显示像素。现有的显示像素包括红绿蓝三色子像素，显示像素位于阵列基板的显示区域，而像素定义层围设在显示像素的周围并位于阵列基板的非显示区域。现有的显示像素在发光时，光线从显示像素发出并射向四周，由于像素定义层围设在显示像素的周围，像素定义层与显示像素相邻的侧壁会吸收一部分显示像素发出的光线，因此只有在垂直于阵列基板方向上的光线可以射出，而其余方向上的光线会被像素定义层吸收而无法射出，这样造成阵列基板的出光强度较低。

因此，如何有效增强显示面板的出光强度，成为了目前亟待解决的技术问题。

实用新型内容

为了解决上述技术问题上述技术问题，本公开提供了一种阵列基板、显示面板及显示装置。

本公开提供了一种阵列基板，包括衬底；

所述衬底上设置有像素定义层、显示像素以及第一反射层；

所述像素定义层包括多个凹槽；

所述凹槽内设置有所述显示像素和所述第一反射层；

所述第一反射层设置在所述像素定义层与所述显示像素之间。

在一些实施例中，沿着阵列基板高度增加的方向上，所述凹槽的宽度逐渐增大。

在一些实施例中，在垂直于所述衬底的方向上，所述第一反射层与所述衬底所在平面之间的夹角的角度范围为110度～150度。

在一些实施例中，所述显示像素包括第一子像素以及第二子像素；

设置在所述第一子像素与所述像素定义层之间的所述第一反射层的厚度大于等于设置在所述第二子像素与所述像素定义层之间的所述第一反射层的厚度。

在一些实施例中，所述第一反射层的厚度范围为1nm～1μm。

在一些实施例中，还包括第二反射层，所述第二反射层设置在至少部分所述显示像素与所述衬底之间。

本公开还提供一种显示面板，包括如上所述的阵列基板。

在一些实施例中，还包括盖板，所述盖板与所述阵列基板相对设置；

所述盖板朝向所述阵列基板的一侧设置有第三反射层；

所述第三反射层在所述阵列基板上的投影位于所述像素定义层内。

在一些实施例中，所述第三反射层的结构包括朝向所述阵列基板凸出的结构、朝向所述阵列基板凹陷的结构以及表面为弧形的结构中的至少一种。

本公开还提供一种显示装置，包括如上所述的显示面板。

本公开实施例提供的技术方案与现有技术相比具有如下优点：

本公开实施例提供的技术方案，在像素定义层与显示像素之间设置有第一反射层，这样使得显示像素在进行发光时，显示像素中的发光元件发射的光线照射至像素定义层后，可以经过第一反射层进行反射，将照射至像素定义层的光线反射至阵列基板的显示区域，避免像素定义层对显示像素发出的光线进行吸收，因而可以增加显示区域的出光强度，且整个阵列基板的结构简单容易实现。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。

为了更清楚地说明本公开实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本公开实施例提供的一种阵列基板的结构示意图；

图2为图1沿着A1-A2方向的剖视图；

图3为本公开实施例提供的一种显示面板的结构示意图；

图4为本公开实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；

图5为本公开实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；

图6为本公开实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；

图7为本公开实施例提供的又一种显示面板的结构示意图。

具体实施方式

为了能够更清楚地理解本公开的上述目的、特征和优点，下面将对本公开的方案进行进一步描述。需要说明的是，在不冲突的情况下，本公开的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本公开，但本公开还可以采用其他不同于在此描述的方式来实施；显然，说明书中的实施例只是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。

相关技术中，在照明和显示领域中，由于有机发光二极管本身轻薄、自发光等特点，被广泛研究用于开发面板显示及照明产品行业中。目前通常采用喷黑打印的方法制备红绿蓝三色子像素，并采用像素定义层对红绿蓝三色子像素进行隔离区分，以更好的使红绿蓝像素墨水进行固化。例如通常在像素定义层制备完成后，直接进行红绿蓝墨水打印，然后对红绿蓝像素墨水进行干燥处理。现有的显示像素在发光时，光线从显示像素发出并射向四周，由于像素定义层围设在显示像素的周围，像素定义层与显示像素相邻的侧壁会吸收一部分显示像素发出的光线，因此只有在垂直于阵列基板方向上的光线可以射出，而其余方向上的光线会被像素定义层吸收而无法射出，这样造成阵列基板的出光强度较低。

为解决上述技术问题，本公开实施例提供了一种阵列基板，图1为本公开实施例提供的一种阵列基板的结构示意图，图2为图1沿着A1-A2方向的剖视图，如图1和图2所示，该阵列基板包括衬底1。衬底1上设置有像素定义层2、显示像素3以及第一反射层4。像素定义层2包括多个凹槽21。如图2所示，X方向为平行与衬底1的方向，Y方向是垂直于衬底1的方向。像素定义层2沿着平行与衬底1的方向X方向上设置有多个行列排布的凹槽21。凹槽21内设置有显示像素3和第一反射层4。第一反射层4设置在像素定义层2与显示像素3之间。

通常阵列基板包括显示区域和非显示区域，显示区域可以将显示像素发出的光线射出，而非显示区域中的光线无法射出。现有的OLED阵列基板上显示像素位于阵列基板的显示区域，而像素定义层位于阵列基板的非显示区域。现有的显示像素在发光时，像素定义层会吸收一部分显示像素发出的光线，因此只有在垂直于基板方向上的光线可以射出，而其余方向上的光线无法射出，造成阵列基板的出光强度较低。而本公开实施例提供的技术方案，在像素定义层与显示像素之间设置有第一反射层，这样使得显示像素在进行发光时，显示像素中的发光层发射的光线照射至像素定义层后，可以经过第一反射层进行反射，将照射至像素定义层的光线反射至阵列基板的显示区域，避免像素定义层对显示像素发出的光线进行吸收，从而可以增加显示区域的出光强度，进而可以使显示面板所显示画面的亮度、颜色、对比度等方面均实现了优化，提高了显示面板的显示性能。且整个阵列基板的结构简单容易实现。

在一些实施例中，OLED(Organic Light Emitting Display，中文名有机发光显示器)是指有机半导体材料和发光材料在电场驱动下，通过载流子注入和复合导致发光的现象。显示像素包括发光层和像素电极。像素电极包括阳极和阴极，在一定电压驱动下，电子和空穴分别从阴极和阳极注入到电子和空穴传输层，电子和空穴分别经过电子和空穴传输层迁移到发光层，并在发光层中相遇，形成激子并使发光分子激发，后者经过辐射弛豫而发出可见光。

在一些实施例中，沿着阵列基板高度增加的方向上，凹槽的宽度逐渐增大。

如图2所示，垂直于衬底1的方向Y方向即为阵列基板的高度方向，沿着阵列基板高度增加的方向上，即沿着Y方向，随着阵列基板高度的增加，凹槽21的宽度逐渐增大，其中，凹槽21的宽度即为沿着X方向上凹槽21的宽度。

本公开实施例提供的技术方案，在沿着阵列基板高度增加的方向上，通过将凹槽的宽度设置为逐渐增大。这样可以便于不同方向的光线从凹槽的开口处射出，继而可以增大阵列基板上显示像素所在的显示区域的出光强度。

在一些实施例中，在垂直于衬底的方向上，第一反射层与衬底所在平面之间的夹角的角度范围为110度～150度。

如图2所示，在垂直与衬底1的方向Y方向上，第一反射层4与衬底1所在平面之间的夹角θ的角度范围为110度～150度。

其中，优选地，第一反射层4与衬底1所在平面之间的夹角θ的角度范围为110度～135度。这样的角度范围设计可以使得阵列基板的制备工艺更为简单。

本公开实施例提供的技术方案，将第一反射层与衬底之间的夹角的角度范围设置为110度～150度。这样不仅可以对显示像素照射至第一反射层的光线进行有效的反射，以增强显示像素所在的显示区域的出光强度，进而提高显示效果。同时还不会增加第一反射层制作的工艺难度，使得整个阵列基板的结构更加简单，且容易实现。

在一些实施例中，显示像素包括第一子像素以及第二子像素。设置在第一子像素与像素定义层之间的第一反射层的厚度大于等于设置在第二子像素与像素定义层之间的第一反射层的厚度。

其中，第一子像素和第二子像素的颜色不同。通常蓝色子像素的发光强度小于红色子像素和绿色子像素的发光强度，因此第一子像素可以为蓝色子像素，第二子像素可以为红色子像素或者绿色子像素。即蓝色子像素与像素定义层之间的第一反射层的厚度大于红色子像素或者绿色子像素与像素定义层之间的第一反射层的厚度，这样使得蓝色子像素照射至像素定义层的光线，能够被设置在蓝色子像素与像素定义层之间的第一反射层进行有效的反射，确保蓝色子像素照射至像素定义层的光线均能够被反射至显示区域，因而可以增加蓝色子像素的出光强度，以使得RGB三个子像素的发光强度相同，使得整个显示面板的显示更为均匀，以增强显示面板的显示效果。

在一些实施例中，第一反射层的厚度范围为1nm～1μm。

本公开实施例提供的技术方案，将第一反射层的厚度设置为1nm～1μm，这样不仅可以对显示像素照射至第一反射层的光线进行有效的反射，以增强显示像素所在的显示区域的出光强度，进而提高显示效果。同时还不会增加第一反射层厚度，使得整个阵列基板的结构更加简单，且容易实现。

在一些实施例中，如图2所示，该阵列基板例如还包括第二反射层5，第二反射层5设置在至少部分显示像素3与衬底1之间。

本公开实施例提供的技术方案，例如可以在所有显示像素与衬底之间设置第二反射层，这样可以进一步的对显示像素发射至衬底的光线进行反射，使得显示像素发出的光线能够有效的反射至显示像素的出光区域，以增强显示像素所在的显示区域的出光强度，进而提高显示效果。同时使得整个阵列基板的结构更加简单，且容易实现。

在一些实施例中，例如第二反射层可以设置在部分显示像素与衬底之间。例如显示像素包括第一子像素和第二子像素，第二反射层可以设置在第一子像素与衬底之间。在第二子像素与衬底之间不设置第二反射层。继而可以通过第二反射层达到对不同样颜色子像素的出光强度进行调节的目的，以使不同颜色的子像素的出光强度更为均匀。

示例性地，通常蓝色子像素的发光强度小于红色子像素和绿色子像素的发光强度，因此第一子像素可以为蓝色子像素，第二子像素可以为红色子像素或者绿色子像素。即蓝色子像素与衬底之间设置有第二反射层，红色子像素或者绿色子像素与衬底之间没有设置第二反射层，这样使得蓝色子像素照射至衬底的光线，能够有效的反射至蓝色子像素的出光区域，以增强蓝色子像素所在的显示区域的出光强度。因而通过在蓝色子像素与衬底之间设置第二反射层，可以增加蓝色子像素的出光强度，以使得RGB三个子像素的发光强度相同，使得整个显示面板的显示更为均匀，以增强显示面板的显示效果。

在一些实施例中，第一反射层或者第二反射层例如可以为包括银、镁、铝等的高反射性金属材料层或高反射性金属氧化物材料层。

本公开实施例还提供一种显示面板，包括本公开实施例提供的阵列基板。

图3为本公开实施例提供的一种显示面板的结构示意图，如图3所示，该显示面板还包括盖板6，盖板6与阵列基板相对设置。即盖板6与阵列基板的衬底1相对设置。盖板6朝向阵列基板的一侧设置有第三反射层7。第三反射层7在阵列基板上的投影位于像素定义层2内。

如图3所示，虚线箭头为阵列基板上的显示像素3向第三反射层7发出的光线以及经第三反射层7反射的光线。通常盖板6与像素定义层2对应设置的位置为该显示面板的非显示区域，显示像素3发出的光线射入非显示区域的第三反射层7后，经过第三反射层7的反射，将光线反射入显示面板的显示区域，可以直接透过显示像素所在的出光区域射出，或者照射至显示像素与衬底之间设置的第二反射层，经由第二反射层反射出去，继而可以增加显示面板显示区域的出光强度。

本公开实施例提供的技术方案，通过在盖板朝向阵列基板的一侧设置有第三反射层，第三反射层在阵列基板上的投影位于像素定义层内。可以利用第三反射层对显示像素所发出的大角度光线进行反射，反射后的光线射入阵列基板的显示区域内，可以直接透过显示像素所在的出光区域射出，或者照射至显示像素与衬底之间设置的第二反射层，经由第二反射层反射出去，从而使得原本照射至非显示区域的光线射出面板，有效的提高了显示面板的出光强度，进而使显示面板所显示画面的亮度、颜色、对比度等方面均实现了优化，提高了显示面板的显示性能。

在一些实施例中，第三反射层的结构包括朝向阵列基板凸出的结构、朝向阵列基板凹陷的结构以及表面为弧形的结构中的至少一种。

在一种实施例中，第三反射层7为朝向阵列基板凸出的斜面反射结构。图4为本公开实施例提供的又一种显示面板的结构示意图，如图4所示，垂直于衬底1的方向Y方向即为显示面板的出光方向，沿着Y方向，第三反射层7朝向阵列基板的表面与衬底1所在平面之间的夹角大于零。这样相较于将第三反射层7设置为平面反射结构，第三反射层7为斜面反射结构时对光的光路的调控程度更大，被第三反射层7反射的光线的传输角度范围也更大，相应的就会有更多数量的反射光最终能够射出面板，进一步提高了显示面板的出光强度。

在一种实施例中，第三反射层7为朝向阵列基板凹陷的斜面反射结构。图5为本公开实施例提供的又一种显示面板的结构示意图，如图5所示，垂直于衬底1的方向Y方向即为显示面板的出光方向，沿着Y方向，第三反射层7朝向阵列基板的表面与衬底1所在平面之间的夹角大于零。这样相较于将第三反射层7设置为平面反射结构，第三反射层7为斜面反射结构时对光的光路的调控程度更大，被第三反射层7反射的光线的传输角度范围也更大，相应的就会有更多数量的反射光最终能够射出面板，进一步提高了显示面板的出光强度。

在一种实施例中，第三反射层7的表面为朝向阵列基板凹陷的弧形结构。图6为本公开实施例提供的又一种显示面板的结构示意图，如图6所示，第三反射层7的表面为朝向阵列基板凹陷的弧形结构，如此设置，被第三反射层7反射的光线的传输角度范围更大，使得第三反射层7对光线的散射作用更强，反射效果更优。且反射光的传输更为发散，显示像素所发出的光的亮度均匀性更高。

在一种实施例中，第三反射层7的表面为朝向阵列基板凸出的弧形结构。图7为本公开实施例提供的又一种显示面板的结构示意图。如图7所示，第三反射层7的表面为朝向阵列基板凸出的弧形结构，如此设置，被第三反射层7反射的光线的传输角度范围更大，使得第三反射层7对光线的散射作用更强，反射效果更优。且反射光的传输更为发散，显示像素所发出的光的亮度均匀性更高。

示例性地，例如可以利用array制程方法制作阵列基板，array制程包括对衬底进行清洗、涂附、曝光、显影、刻蚀、剥离及检查。例如可以利用黄光工艺制作像素定义层。例如可以利用蒸镀、溅射或PVD工艺等制作第一反射层、第二反射层或者第三反射层。例如可以利用喷墨打印工艺制作显示像素的其他功能层以及发光层。例如可以采用框胶对OLED显示面板进行封装。

本公开实施例提供的显示面板与本公开实施例提供的阵列基板具有相同或相应的有益效果，为避免重复，在此不再赘述。

本公开实施例还提供了一种显示装置，包括本公开实施例提供的显示面板。且具有相同或相应的有益效果，为避免重复，在此不再赘述。

需要说明的是，在本文中，诸如“第一”和“第二”等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

以上所述仅是本公开的具体实施方式，使本领域技术人员能够理解或实现本公开。对这些实施例的多种修改对本领域的技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本公开的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本公开将不会被限制于本文所述的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (10)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括衬底；

所述衬底上设置有像素定义层、显示像素以及第一反射层；

所述像素定义层包括多个凹槽；

所述凹槽内设置有所述显示像素和所述第一反射层；

所述第一反射层设置在所述像素定义层与所述显示像素之间。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，沿着阵列基板高度增加的方向上，所述凹槽的宽度逐渐增大。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，在垂直于所述衬底的方向上，所述第一反射层与所述衬底所在平面之间的夹角的角度范围为110度～150度。

4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，

所述显示像素包括第一子像素以及第二子像素；

设置在所述第一子像素与所述像素定义层之间的所述第一反射层的厚度大于等于设置在所述第二子像素与所述像素定义层之间的所述第一反射层的厚度。

5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一反射层的厚度范围为1nm～1μm。

6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括第二反射层，所述第二反射层设置在至少部分所述显示像素与所述衬底之间。

7.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-6任一项所述的阵列基板。

8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，还包括盖板，所述盖板与所述阵列基板相对设置；

所述盖板朝向所述阵列基板的一侧设置有第三反射层；

所述第三反射层在所述阵列基板上的投影位于所述像素定义层内。

9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述第三反射层的结构包括朝向所述阵列基板凸出的结构、朝向所述阵列基板凹陷的结构以及表面为弧形的结构中的至少一种。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求9所述的显示面板。

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