CN217804103U - 一种石英晶片雕刻用清理装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及石英晶片生产技术领域，且公开了一种石英晶片雕刻用清理装置，包括清洁装置，所述清洁装置包括底座，所述底座的上端固定连接有套筒，所述套筒的上端滑动连接有顶盖，所述底座的上端左侧固定连接有气泵，所述气泵的上端固定连接有喷头一，所述顶盖的上端固定连接有清洗泵，所述清洗泵的下端固定连接有喷头二，所述顶盖的右端转动连接有螺杆，所述螺杆的外表面螺纹连接有滑块，所述滑块的下端固定连接有海绵体。该石英晶片雕刻用清理装置，通过设置有顶盖形成小空间，避免粉尘飞扬，污染环境，通过气泵和清洗泵，对石英晶片进行气体和水清洗，通过海绵体对石英晶片进行擦拭，达到便于对雕刻后的石英晶片进行擦拭的效果。

Description

一种石英晶片雕刻用清理装置

技术领域

本实用新型涉及石英晶片生产技术领域，具体为一种石英晶片雕刻用清理装置。

背景技术

石英晶片主要成分二氧化硅,和玻璃一样。之所以称为晶片,是因为二氧化硅的有序排列,从而形成晶体。

在对石英晶片的生产加工中，会有雕刻的步骤，现有的石英晶片在雕刻时会产生很多粉尘，从而影响雕刻效果。

为此，我们提出了一种石英晶片雕刻用清理装置，来实现雕刻石英晶片过程中产生的粉尘进行清理的效果。

实用新型内容

（一）解决的技术问题

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种石英晶片雕刻用清理装置，具备便于清理的优点，解决了上述背景技术中提到的雕刻石英晶片过程中产生的粉尘影响雕刻的问题。

（二）技术方案

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种石英晶片雕刻用清理装置，包括清洁装置，所述清洁装置的中部设有辅助对位装置；

通过设置有清洁装置，便于对雕刻后的石英晶片进行清洗，通过设置有辅助对位装置，便于转动石英晶体，方便清理和雕刻。

所述清洁装置包括底座，所述底座的上端固定连接有套筒，所述套筒的上端滑动连接有顶盖，所述顶盖的右端固定连接有两个连接块，所述连接块的另一端固定连接有电动伸缩杆一，所述底座的上端左侧固定连接有气泵，所述气泵的上端固定连接有喷头一，所述顶盖的上端固定连接有清洗泵，所述清洗泵的下端固定连接有喷头二，所述顶盖的右端转动连接有螺杆，所述螺杆的外表面螺纹连接有滑块，所述滑块的下端固定连接有海绵体；

底座起到支撑的作用，套筒和顶盖形成小空间，避免粉尘飞扬，污染环境，连接块连接电动伸缩杆一和顶盖，电动伸缩杆一的左端与套筒固定连接，便于通过电动伸缩杆一使顶盖滑动，通过气泵向喷头一传输气体，对石英晶片进行喷气冲刷，通过清洗泵向喷头二输送水，对石英晶片进行喷淋清洗，螺杆用于使滑块左右移动，使海绵体贴近石英晶片进行擦拭，达到便于对雕刻后的石英晶片进行擦拭的效果。

所述辅助对位装置包括伸缩气缸，所述伸缩气缸的输出端固定连接有电机一，所述电机一的输出端固定连接有支撑板，所述支撑板的外侧设有两个对撑分布的限位板，两个所述限位板的相对侧均固定连接有保护盒，所述保护盒的内部固定连接有电机二，所述电机二的输出端固定连接有电动伸缩杆二，所述电动伸缩杆二的另一端固定连接有压板。

伸缩气缸用于带动支撑板伸缩，电机一带动支撑板旋转，支撑板用于支撑石英晶体，限位板起到支撑限位的作用，保护盒启动保护电机二的作用，避免电机二沾染灰尘或水滴，电机二用于带动压板旋转，电动伸缩杆二用于带动压板伸缩，压板对石英晶片起到夹持转动的作用，达到便于转动石英晶片，辅助雕刻和清理的效果。

优选的，所述顶盖的下端右侧设有卡块二，所述套筒的上端右侧设有与卡块二相适配的凹槽。

套筒上端右侧的凹槽是为了方便喷头二和海绵体穿过，卡块二便于在顶盖闭合后不会有粉尘从凹槽处飞出。

优选的，所述电动伸缩杆一的左端与套筒固定连接。

优选的，所述喷头一的右端贯穿套筒并延伸至套筒的内部，所述喷头二贯穿顶盖并延伸至顶盖的下端。

喷头一和喷头二都位于套筒的内部，方便对石英晶片进行清理。

优选的，所述螺杆贯穿顶盖并延伸至顶盖的内部，所述滑块与顶盖滑动连接。

通过螺杆控制海绵体与石英晶片的接触。

优选的，所述伸缩气缸位于底座的内部，所述伸缩气缸的轴杆贯穿底座并延伸至底座的上端，所述底座设有与支撑板相适配的圆槽。

优选的，所述支撑板的上端设有滤网，所述支撑板与底座的上表面均设有水槽，所述底座位于水槽的另一端固定连接有收集盒。

通过设置有滤网，便于对冲洗后的水进行过滤，使过滤后的水进行收集盒，循环利用，支撑板与底座的连接处设有防水圈，避免水从连接处进入损坏电机一。

与现有技术相比，本实用新型提供了一种石英晶片雕刻用清理装置，具备以下有益效果：

1、该石英晶片雕刻用清理装置，通过设置有底座起到支撑的作用，套筒和顶盖形成小空间，避免粉尘飞扬，污染环境，连接块连接电动伸缩杆一和顶盖，电动伸缩杆一的左端与套筒固定连接，便于通过电动伸缩杆一使顶盖滑动，通过气泵向喷头一传输气体，对石英晶片进行喷气冲刷，通过清洗泵向喷头二输送水，对石英晶片进行喷淋清洗，螺杆用于使滑块左右移动，使海绵体贴近石英晶片进行擦拭，达到便于对雕刻后的石英晶片进行擦拭的效果。

2、该石英晶片雕刻用清理装置，通过设置有伸缩气缸用于带动支撑板伸缩，电机一带动支撑板旋转，支撑板用于支撑石英晶体，限位板起到支撑限位的作用，保护盒启动保护电机二的作用，避免电机二沾染灰尘或水滴，电机二用于带动压板旋转，电动伸缩杆二用于带动压板伸缩，压板对石英晶片起到夹持转动的作用，达到便于转动石英晶片，辅助雕刻和清理的效果。

附图说明

图1为本实用新型结构立体示意图；

图2为本实用新型结构剖视示意图；

图3为本实用新型结构底座俯视剖视示意图；

图4为本实用新型结构底座与顶盖滑动关系剖视示意图。

其中：1、清洁装置；101、底座；102、套筒；103、顶盖；1031、卡块二；104、气泵；105、喷头一；106、清洗泵；107、喷头二；108、螺杆；109、滑块；110、连接块；111、电动伸缩杆一；112、海绵体；2、辅助对位装置；201、伸缩气缸；202、电机一；203、支撑板；204、限位板；205、保护盒；206、电机二；207、电动伸缩杆二；208、压板；209、滤网；210、收集盒。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-4，一种石英晶片雕刻用清理装置，包括清洁装置1，清洁装置1的中部设有辅助对位装置2；

通过上述技术方案，通过设置有清洁装置1，便于对雕刻后的石英晶片进行清洗，通过设置有辅助对位装置2，便于转动石英晶体，方便清理和雕刻。

清洁装置1包括底座101，底座101的上端固定连接有套筒102，套筒102的上端滑动连接有顶盖103，顶盖103的右端固定连接有两个连接块110，连接块110的另一端固定连接有电动伸缩杆一111，底座101的上端左侧固定连接有气泵104，气泵104的上端固定连接有喷头一105，顶盖103的上端固定连接有清洗泵106，清洗泵106的下端固定连接有喷头二107，顶盖103的右端转动连接有螺杆108，螺杆108的外表面螺纹连接有滑块109，滑块109的下端固定连接有海绵体112；

通过上述技术方案，底座101起到支撑的作用，套筒102和顶盖103形成小空间，避免粉尘飞扬，污染环境，连接块110连接电动伸缩杆一111和顶盖103，电动伸缩杆一111的左端与套筒102固定连接，便于通过电动伸缩杆一111使顶盖103滑动，通过气泵104向喷头一105传输气体，对石英晶片进行喷气冲刷，通过清洗泵106向喷头二107输送水，对石英晶片进行喷淋清洗，螺杆108用于使滑块109左右移动，使海绵体112贴近石英晶片进行擦拭，达到便于对雕刻后的石英晶片进行擦拭的效果。

辅助对位装置2包括伸缩气缸201，伸缩气缸201的输出端固定连接有电机一202，电机一202的输出端固定连接有支撑板203，支撑板203的外侧设有两个对撑分布的限位板204，两个限位板204的相对侧均固定连接有保护盒205，保护盒205的内部固定连接有电机二206，电机二206的输出端固定连接有电动伸缩杆二207，电动伸缩杆二207的另一端固定连接有压板208。

通过上述技术方案，伸缩气缸201用于带动支撑板203伸缩，电机一202带动支撑板203旋转，支撑板203用于支撑石英晶体，限位板204起到支撑限位的作用，保护盒205启动保护电机二206的作用，避免电机二206沾染灰尘或水滴，电机二206用于带动压板208旋转，电动伸缩杆二207用于带动压板208伸缩，压板208对石英晶片起到夹持转动的作用，达到便于转动石英晶片，辅助雕刻和清理的效果。

顶盖103的下端右侧设有卡块二1031，套筒102的上端右侧设有与卡块二1031相适配的凹槽。套筒102上端右侧的凹槽是为了方便喷头二107和海绵体112穿过，卡块二1031便于在顶盖103闭合后不会有粉尘从凹槽处飞出。

电动伸缩杆一111的左端与套筒102固定连接。

喷头一105的右端贯穿套筒102并延伸至套筒102的内部，喷头二107贯穿顶盖103并延伸至顶盖103的下端。喷头一105和喷头二107都位于套筒102的内部，方便对石英晶片进行清理。

螺杆108贯穿顶盖103并延伸至顶盖103的内部，滑块109与顶盖103滑动连接。通过螺杆108控制海绵体112与石英晶片的接触。

伸缩气缸201位于底座101的内部，伸缩气缸201的轴杆贯穿底座101并延伸至底座101的上端，底座101设有与支撑板203相适配的圆槽。

支撑板203的上端设有滤网209，支撑板203与底座101的上表面均设有水槽，底座101位于水槽的另一端固定连接有收集盒210。通过设置有滤网209，便于对冲洗后的水进行过滤，使过滤后的水进行收集盒210，循环利用，支撑板203与底座101的连接处设有防水圈，避免水从连接处进入损坏电机一202。

在使用时，启动电动伸缩杆一111带动顶盖103向左移动与套筒102卡盒，启动气泵104使喷头一105对石英晶片进行气体冲洗，再启动清洗泵106，使喷头二107对石英晶片进行水冲洗，转动螺杆108，使滑块109带动左移，海绵体112与石英晶片接触擦拭，冲洗后的水经过滤网209进入水槽最终进入收集盒210；

将石英晶片放置在支撑板203上，启动伸缩气缸201，带动石英晶片上移，启动电动伸缩杆二207，使压板208对石英晶片夹紧，伸缩气缸201带动支撑下移，启动电机二206，带动石英晶片转动，使得石英晶片表层的粉尘被清理，再次启动伸缩气缸201，接着启动电机一202，带动石英晶片进行转动，再次重复电动伸缩杆二207以及后面的操作，使清理更全面。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (7)

1.一种石英晶片雕刻用清理装置，包括清洁装置（1），其特征在于：所述清洁装置（1）的中部设有辅助对位装置（2）；

所述清洁装置（1）包括底座（101），所述底座（101）的上端固定连接有套筒（102），所述套筒（102）的上端滑动连接有顶盖（103），所述顶盖（103）的右端固定连接有两个连接块（110），所述连接块（110）的另一端固定连接有电动伸缩杆一（111），所述底座（101）的上端左侧固定连接有气泵（104），所述气泵（104）的上端固定连接有喷头一（105），所述顶盖（103）的上端固定连接有清洗泵（106），所述清洗泵（106）的下端固定连接有喷头二（107），所述顶盖（103）的右端转动连接有螺杆（108），所述螺杆（108）的外表面螺纹连接有滑块（109），所述滑块（109）的下端固定连接有海绵体（112）；

所述辅助对位装置（2）包括伸缩气缸（201），所述伸缩气缸（201）的输出端固定连接有电机一（202），所述电机一（202）的输出端固定连接有支撑板（203），所述支撑板（203）的外侧设有两个对撑分布的限位板（204），两个所述限位板（204）的相对侧均固定连接有保护盒（205），所述保护盒（205）的内部固定连接有电机二（206），所述电机二（206）的输出端固定连接有电动伸缩杆二（207），所述电动伸缩杆二（207）的另一端固定连接有压板（208）。

2.根据权利要求1所述的一种石英晶片雕刻用清理装置，其特征在于：所述顶盖（103）的下端右侧设有卡块二（1031），所述套筒（102）的上端右侧设有与卡块二（1031）相适配的凹槽。

3.根据权利要求1所述的一种石英晶片雕刻用清理装置，其特征在于：所述电动伸缩杆一（111）的左端与套筒（102）固定连接。

4.根据权利要求1所述的一种石英晶片雕刻用清理装置，其特征在于：所述喷头一（105）的右端贯穿套筒（102）并延伸至套筒（102）的内部，所述喷头二（107）贯穿顶盖（103）并延伸至顶盖（103）的下端。

5.根据权利要求1所述的一种石英晶片雕刻用清理装置，其特征在于：所述螺杆（108）贯穿顶盖（103）并延伸至顶盖（103）的内部，所述滑块（109）与顶盖（103）滑动连接。

6.根据权利要求1所述的一种石英晶片雕刻用清理装置，其特征在于：所述伸缩气缸（201）位于底座（101）的内部，所述伸缩气缸（201）的轴杆贯穿底座（101）并延伸至底座（101）的上端，所述底座（101）设有与支撑板（203）相适配的圆槽。

7.根据权利要求1所述的一种石英晶片雕刻用清理装置，其特征在于：所述支撑板（203）的上端设有滤网（209），所述支撑板（203）与底座（101）的上表面均设有水槽，所述底座（101）位于水槽的另一端固定连接有收集盒（210）。

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