CN217288740U - 一种抛光粉砂磨机的π型分散盘结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种抛光粉砂磨机的π型分散盘结构，属于抛光粉砂磨机技术领域，其技术方案要点包括底板，所述研磨箱的上端面固定连接有粉碎箱，抛光粉原料在研磨盘的研磨以及和研磨球之间的碰撞下进行粉碎研磨，研磨效果好，经过初步粉碎后的原料进入研磨箱的内部，启动第二电机，第二电机带动丝杆转动，丝杆带动外壁的活动块进行左右直线运动，从而通过底部连接杆带动底部研磨辊进行滚动，研磨辊对原料进行进一步的深度研磨，提高研磨效果，解决了现有的抛光粉砂磨机大多为单一的圆盘式或偏心盘式研磨结构，而单一的圆盘式或偏心盘式砂磨机的作用方式使研磨介质作相对运动的效果不理想，研磨效率不佳的问题。

Description

一种抛光粉砂磨机的π型分散盘结构

技术领域

本实用新型涉及抛光粉砂磨机技术领域，特别涉及一种抛光粉砂磨机的π型分散盘结构。

背景技术

抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅、氧化铁、氧化锆、氧化铬等组份组成。不同的材料的硬度不同，在水中的化学性质也不同，因此使用场合各不相同。通常，氧化铈抛光粉用于玻璃和含硅材料的抛光，氧化铝抛光粉用于不锈钢的抛光，氧化铁也可用于玻璃，但速度较慢，常用于软性材料的抛光。石材的抛光常使用氧化锡，瓷砖的抛光常使用氧化铬，经过砂磨工艺将富铈氧化物粉研磨成颗粒很小的粉末状抛光粉。

现有的抛光粉砂磨机大多为单一的圆盘式或偏心盘式研磨结构，而单一的圆盘式或偏心盘式砂磨机的作用方式使研磨介质作相对运动的效果并不是很理想，研磨效率不佳。

实用新型内容

本实用新型针对以上问题，提出一种抛光粉砂磨机的π型分散盘结构来解决上述问题。

本实用新型是这样实现的，一种抛光粉砂磨机的π型分散盘结构，包括：

底板，所述底板的上端面固定连接有研磨箱，所述研磨箱的上端面固定连接有粉碎箱，所述粉碎箱的内部转动连接有转轴，所述粉碎箱的外壁左侧安装有第一电机，所述第一电机的输出端贯穿至粉碎箱的内部且与转轴固定连接，所述转轴的外壁固定连接有多个均匀分布的研磨盘，所述粉碎箱的内部设置有多个研磨球；

研磨装置，所述研磨装置位于研磨箱的内部，用于对原料进行深度研磨。

为了便于对抛光粉进行深度研磨，作为本实用新型的一种抛光粉砂磨机的π型分散盘结构优选的，所述研磨装置包括丝杆，所述丝杆转动连接研磨箱的内部，所述研磨箱的外壁左侧安装有第二电机，所述第二电机的输出端延伸至研磨箱的内部且与丝杆固定连接，所述丝杆的外壁活动连接有活动块，所述活动块的底部固定连接有连接杆，所述连接杆的底部固定连接有安装架，所述安装架的底端转动连接有研磨辊，所述研磨辊的外壁底部与研磨箱的上端面抵接。

为了提高研磨效果，作为本实用新型的一种抛光粉砂磨机的π型分散盘结构优选的，所述研磨盘包括基盘，所述基盘的外壁固定连接有多个均匀分布的分散块。

为了便于进料和排料，作为本实用新型的一种抛光粉砂磨机的π型分散盘结构优选的，所述粉碎箱的上端面设置有进料口，所述研磨箱的右侧壁设置有排料口。

为了使原料粉碎合格，作为本实用新型的一种抛光粉砂磨机的π型分散盘结构优选的，所述粉碎箱的底部设置有滤网，所述粉碎箱通过滤网与研磨箱的内部连通。

为了限制活动块，作为本实用新型的一种抛光粉砂磨机的π型分散盘结构优选的，所述研磨箱的内部固定连接有位于丝杆上方的滑杆，所述滑杆的外壁滑动连接有滑块，所述滑块的底部与活动块的上端面固定连接。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

进行研磨时，原料首先通过进料口进入粉碎箱的内部，启动第一电机，第一电机带动转轴转动，转轴带动其外壁的多个研磨盘进行转动，同时搅动内部的多个研磨球进行活动，抛光粉原料在研磨盘的研磨以及和研磨球之间的碰撞下进行粉碎研磨，研磨效果好，经过初步粉碎后的原料进入研磨箱的内部，启动第二电机，第二电机带动丝杆转动，丝杆带动外壁的活动块进行左右直线运动，从而通过底部连接杆带动底部研磨辊进行滚动，研磨辊对原料进行进一步的深度研磨，提高研磨效果；

研磨盘包括基盘，基盘的外壁固定连接有多个均匀分布的分散块，研磨盘整体的截面呈π形状，使得研磨盘在旋转研磨过程中，外径不同的分散盘具有不同的剪切力，改变研磨腔内的研磨球与物料的运动方式，从而提高研磨球与原料粒子之间的相对运动速度和碰撞概率，使物料尽快地达到理想的细度，减少了研磨时间，提高了研磨效率。

附图说明

图1为本实用新型整体内部结构示意图；

图2为本实用新型研磨辊侧视结构图；

图3为本实用新型研磨盘放大结构图；

图4为本实用新型研磨盘侧视结构图；

图中，1、底板；2、研磨箱；3、粉碎箱；4、转轴；5、第一电机；6、研磨盘；7、研磨球；8、丝杆；9、第二电机；10、活动块；11、连接杆；12、安装架；13、研磨辊；14、基盘；15、分散块；16、进料口；17、滤网；18、滑杆；19、滑块；20、排料口。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

请参阅图1-4，一种抛光粉砂磨机的π型分散盘结构，包括：

底板1，底板1的上端面固定连接有研磨箱2，研磨箱2的上端面固定连接有粉碎箱3，粉碎箱3的内部转动连接有转轴4，粉碎箱3的外壁左侧安装有第一电机5，第一电机5的输出端贯穿至粉碎箱3的内部且与转轴4固定连接，转轴4的外壁固定连接有多个均匀分布的研磨盘6，粉碎箱3的内部设置有多个研磨球7；

研磨装置，研磨装置位于研磨箱2的内部，用于对原料进行深度研磨。

本实施例中：进行研磨时，原料首先通过进料口16进入粉碎箱3的内部，启动第一电机5，第一电机5带动转轴4转动，转轴4带动其外壁的多个研磨盘6进行转动，同时搅动内部的多个研磨球7进行活动，抛光粉原料在研磨盘6的研磨以及和研磨球7之间的碰撞下进行粉碎研磨，研磨效果好。

作为本实用新型的一种技术优化方案，研磨装置包括丝杆8，丝杆8转动连接研磨箱2的内部，研磨箱2的外壁左侧安装有第二电机9，第二电机9的输出端延伸至研磨箱2的内部且与丝杆8固定连接，丝杆8的外壁活动连接有活动块10，活动块10的底部固定连接有连接杆11，连接杆11的底部固定连接有安装架12，安装架12的底端转动连接有研磨辊13，研磨辊13的外壁底部与研磨箱2的上端面抵接。

本实施例中：经过初步粉碎后的原料进入研磨箱2的内部，启动第二电机9，第二电机9带动丝杆8转动，丝杆8带动外壁的活动块10进行左右直线运动，从而通过底部连接杆11带动底部研磨辊13进行滚动，研磨辊13对原料进行进一步的深度研磨，提高研磨效果。

作为本实用新型的一种技术优化方案，研磨盘6包括基盘14，基盘14的外壁固定连接有多个均匀分布的分散块15。

本实施例中：研磨盘6包括基盘14，基盘14的外壁固定连接有多个均匀分布的分散块15，研磨盘6整体的截面呈π形状，使得研磨盘6在旋转研磨过程中，外径不同的分散盘具有不同的剪切力，改变研磨腔内的研磨球7与物料的运动方式，从而提高研磨球7与原料粒子之间的相对运动速度和碰撞概率，使物料尽快地达到理想的细度，减少了研磨时间，提高了研磨效率。

作为本实用新型的一种技术优化方案，粉碎箱3的上端面设置有进料口16，研磨箱2的右侧壁设置有排料口20。

本实施例中：原料通过进料口16进入粉碎箱3的内部进行粉碎，粉碎完毕后通过底部滤网17进入研磨箱2内部进行研磨，研磨完毕后通过排料口20排出。

作为本实用新型的一种技术优化方案，粉碎箱3的底部设置有滤网17，粉碎箱3通过滤网17与研磨箱2的内部连通。

本实施例中：通过设置滤网17，粉碎后颗粒小于滤网17滤孔的原料掉落至底部研磨箱2内部，不合格的继续在粉碎箱3内部进行粉碎，直至粉碎合格，提高粉碎效果。

作为本实用新型的一种技术优化方案，研磨箱2的内部固定连接有位于丝杆8上方的滑杆18，滑杆18的外壁滑动连接有滑块19，滑块19的底部与活动块10的上端面固定连接。

本实施例中：活动块10在左右活动时，底部始终通过滑块19滑动于滑杆18的外壁，起到限制活动块10在丝杆8周向方向转动。

本实用新型的工作原理及使用流程：进行研磨时，原料首先通过进料口16进入粉碎箱3的内部，启动第一电机5，第一电机5带动转轴4转动，转轴4带动其外壁的多个研磨盘6进行转动，同时搅动内部的多个研磨球7进行活动，抛光粉原料在研磨盘6的研磨以及和研磨球7之间的碰撞下进行粉碎研磨，研磨效果好，经过初步粉碎后的原料进入研磨箱2的内部，启动第二电机9，第二电机9带动丝杆8转动，丝杆8带动外壁的活动块10进行左右直线运动，从而通过底部连接杆11带动底部研磨辊13进行滚动，研磨辊13对原料进行进一步的深度研磨，提高研磨效果，研磨盘6包括基盘14，基盘14的外壁固定连接有多个均匀分布的分散块15，研磨盘6整体的截面呈π形状，使得研磨盘6在旋转研磨过程中，外径不同的分散盘具有不同的剪切力，改变研磨腔内的研磨球7与物料的运动方式，从而提高研磨球7与原料粒子之间的相对运动速度和碰撞概率，使物料尽快地达到理想的细度，减少了研磨时间，提高了研磨效率。

以上仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种抛光粉砂磨机的π型分散盘结构，其特征在于：包括：

底板（1），所述底板（1）的上端面固定连接有研磨箱（2），所述研磨箱（2）的上端面固定连接有粉碎箱（3），所述粉碎箱（3）的内部转动连接有转轴（4），所述粉碎箱（3）的外壁左侧安装有第一电机（5），所述第一电机（5）的输出端贯穿至粉碎箱（3）的内部且与转轴（4）固定连接，所述转轴（4）的外壁固定连接有多个均匀分布的研磨盘（6），所述粉碎箱（3）的内部设置有多个研磨球（7）；

研磨装置，所述研磨装置位于研磨箱（2）的内部，用于对原料进行深度研磨。

2.根据权利要求1所述的一种抛光粉砂磨机的π型分散盘结构，其特征在于：所述研磨装置包括丝杆（8），所述丝杆（8）转动连接研磨箱（2）的内部，所述研磨箱（2）的外壁左侧安装有第二电机（9），所述第二电机（9）的输出端延伸至研磨箱（2）的内部且与丝杆（8）固定连接，所述丝杆（8）的外壁活动连接有活动块（10），所述活动块（10）的底部固定连接有连接杆（11），所述连接杆（11）的底部固定连接有安装架（12），所述安装架（12）的底端转动连接有研磨辊（13），所述研磨辊（13）的外壁底部与研磨箱（2）的上端面抵接。

3.根据权利要求1所述的一种抛光粉砂磨机的π型分散盘结构，其特征在于：所述研磨盘（6）包括基盘（14），所述基盘（14）的外壁固定连接有多个均匀分布的分散块（15）。

4.根据权利要求1所述的一种抛光粉砂磨机的π型分散盘结构，其特征在于：所述粉碎箱（3）的上端面设置有进料口（16），所述研磨箱（2）的右侧壁设置有排料口（20）。

5.根据权利要求1所述的一种抛光粉砂磨机的π型分散盘结构，其特征在于：所述粉碎箱（3）的底部设置有滤网（17），所述粉碎箱（3）通过滤网（17）与研磨箱（2）的内部连通。

6.根据权利要求2所述的一种抛光粉砂磨机的π型分散盘结构，其特征在于：所述研磨箱（2）的内部固定连接有位于丝杆（8）上方的滑杆（18），所述滑杆（18）的外壁滑动连接有滑块（19），所述滑块（19）的底部与活动块（10）的上端面固定连接。

Images