CN216681681U - 氧化铍陶瓷基片多方向研磨抛光机 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了氧化铍陶瓷基片多方向研磨抛光机,包括底座,所述底座的上表面固定连接有支杆,所述底座的上表面且位于支杆的右侧设置有放置槽,所述支杆远离底座的一端固定连接有支撑板,所述支撑板的上表面固定连接有液压缸,所述液压缸的输出端设置有打磨机构,所述底座的内部固定连接有风机,所述风机的输入端固定连接有三通管,所述三通管远离风机的一端固定连接有软管。本实用新型,通过设置三通管、软管,能够将打磨时产生的废屑进行吸收,使其不会发飞溅的现象,保证该装置的清洁度,通过设置打磨机构,能够保证打磨片在转动时稳定高,同时在打磨片进行升降时,不会发生位置偏移的现象,保证陶瓷基片的打磨效果。
Description
技术领域
本实用新型涉及氧化铍陶瓷基片抛光技术领域,尤其涉及氧化铍陶瓷基片多方向研磨抛光机。
背景技术
CT,即电子计算机断层扫描,它是利用精确准直的X线束、γ射线、超声波等,与灵敏度极高的探测器一同围绕人体的某一部位作一个接一个地断面扫描,具有扫描时间快,图像清晰等特点,可用于多种疾病的检查;根据所采用的射线不同可分为:X射线、超声CT以及γ射线CT等。
目前氧化铍陶瓷基片在生产的过程中,需要对其表面进行抛光,但是现有的一些多方向研磨抛光机,在长时间的使用后,打磨片在升降时的位置会发生倾斜的变化,但是这些变化会影响到氧化铍陶瓷基片的抛光效果,而且氧化铍陶瓷基片在抛光时会有废屑飞溅,这些废屑后期人员在清理时较为不便。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的氧化铍陶瓷基片多方向研磨抛光机。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:氧化铍陶瓷基片多方向研磨抛光机,包括底座,所述底座的上表面固定连接有支杆,所述底座的上表面且位于支杆的右侧设置有放置槽,所述支杆远离底座的一端固定连接有支撑板,所述支撑板的上表面固定连接有液压缸,所述液压缸的输出端设置有打磨机构;
所述底座的内部固定连接有风机,所述风机的输入端固定连接有三通管,所述三通管远离风机的一端固定连接有软管,所述软管远离三通管的一端固定连接有连接管,所述连接管远离软管的一端固定连接有吸头,所述底座的内部且位于风机的下方设置有收集腔,所述收集腔的内部活动连接有安装板,所述安装板的上表面固定连接有吸附板,所述风机的输出端固定连接有出料管。
作为上述技术方案的进一步描述:
所述打磨机构包括安装架,所述安装架的内部固定连接有电机,所述电机的输出端固定连接有转轴,所述转轴远离电机的一端固定连接有打磨片,所述转轴的侧表面固定连接有稳固杆,所述安装架的内部活动连接有限位杆,所述打磨片的位置位于放置槽的正上方。
作为上述技术方案的进一步描述:
所述稳固杆的形状为L性,所述稳固杆远离转轴的一端与安装架的下表面活动连接。
作为上述技术方案的进一步描述:
所述限位杆的一端延伸至安装架的上方,且与底座的下表面固定连接,所述限位杆远离底座的一端延伸至安装架的下方,且与底座的上表面固定连接。
作为上述技术方案的进一步描述:
所述出料管远离风机的一端延伸至收集腔的内部。
作为上述技术方案的进一步描述:
所述三通管远离风机的一端延伸至底座的外部。
作为上述技术方案的进一步描述:
所述连接管与安装架的内底部相连接,所述吸头的位置位于安装架的下方。
作为上述技术方案的进一步描述:
所述底座的前表面设置有箱门,且箱门的位置位于收集腔的前方。
本实用新型具有如下有益效果:
1、与现有技术相比,该氧化铍陶瓷基片多方向研磨抛光机,通过设置三通管、软管,能够将打磨时产生的废屑进行吸收,使其不会发飞溅的现象,保证该装置的清洁度。
2、与现有技术相比,该氧化铍陶瓷基片多方向研磨抛光机,通过设置打磨机构,能够保证打磨片在转动时稳定高,同时在打磨片进行升降时,不会发生位置偏移的现象,保证陶瓷基片的打磨效果。
3、与现有技术相比,该氧化铍陶瓷基片多方向研磨抛光机,通过在收集腔内设置吸附板,能够将吸收的废屑进行吸附,在对废屑进行处理时较为方便。
附图说明
图1为本实用新型提出的氧化铍陶瓷基片多方向研磨抛光机的整体结构示意图;
图2为本实用新型提出的氧化铍陶瓷基片多方向研磨抛光机的内部结构示意图;
图3为本实用新型提出的氧化铍陶瓷基片多方向研磨抛光机的正视图;
图4为图2中A处放大图。
图例说明:
1、底座;2、支杆;3、支撑板;4、液压缸;5、打磨机构;51、安装架;52、电机;53、转轴;54、打磨片;55、稳固杆;56、限位杆;6、收集腔;7、风机;8、三通管;9、软管;10、连接管;11、吸头;12、放置槽;13、出料管;14、安装板;15、吸附板;16、箱门。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制;术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性,此外,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
参照图1-4,本实用新型提供的氧化铍陶瓷基片多方向研磨抛光机:包括底座1,底座1的前表面设置有箱门16,且箱门16的位置位于收集腔6的前方,便于将收集腔6内的废屑进行处理,底座1的上表面固定连接有支杆2,底座1的上表面且位于支杆2的右侧设置有放置槽12,支杆2远离底座1的一端固定连接有支撑板3,支撑板3的上表面固定连接有液压缸4,作为安装架51升降的动力源。
液压缸4的输出端设置有打磨机构5,打磨机构5包括安装架51,安装架51的内部固定连接有电机52,电机52的输出端固定连接有转轴53,转轴53远离电机52的一端固定连接有打磨片54,转轴53的侧表面固定连接有稳固杆55,稳固杆55的形状为L性,便于个安装架51连接稳固杆55远离转轴53的一端与安装架51的下表面活动连接,安装架51的内部活动连接有限位杆56,保证安装架51在升降时不会发生位置偏移的现象,限位杆56的一端延伸至安装架51的上方,且与底座1的下表面固定连接,限位杆56远离底座1的一端延伸至安装架51的下方,且与底座1的上表面固定连接,打磨片54的位置位于放置槽12的正上方。
通过设置此结构,通过打磨机构5,能够保证打磨片54在转动时稳定高,同时在打磨片54进行升降时,不会发生位置偏移的现象,保证陶瓷基片的打磨效果。
底座1的内部固定连接有风机7,风机7的输入端固定连接有三通管8,三通管8远离风机7的一端延伸至底座1的外部,三通管8远离风机7的一端固定连接有软管9,软管9远离三通管8的一端固定连接有连接管10,连接管10与安装架51的内底部相连接,连接管10远离软管9的一端固定连接有吸头11,便于将打磨时产生的废屑进行收集,吸头11的位置位于安装架51的下方,底座1的内部且位于风机7的下方设置有收集腔6,收集腔6的内部活动连接有安装板14,安装板14的上表面固定连接有吸附板15,便于对废屑进行吸附,风机7的输出端固定连接有出料管13,出料管13远离风机7的一端延伸至收集腔6的内部。
通过设置此结构,通过三通管8、软管9,能够将打磨时产生的废屑进行吸收,使其不会发飞溅的现象,保证该装置的清洁度,通过在收集腔6内设置吸附板15,能够将吸收的废屑进行吸附,在对废屑进行处理时较为方便。
工作原理:在使用时,将需要打磨的氧化铍陶瓷基片放在放置槽12内,启动电机52带动打磨片54进行转动,通过稳固杆55可以保证打磨片54在转动时的稳定性,再启动液压缸4带动安装架51向下移动,使打磨片54与基片接触,在安装架51向下移动时通过限位杆56可以保证安装架51在向下移动时不会发生位置偏移的现象,启动风机7通过吸头11将打磨时产生的废屑吸收,通过连接管10、软管9、三通管8、出料管13将废屑排放到收集腔6内,再通过吸附板15将收集腔6内的废屑吸附,在后期进行处理时也更加的方便。
最后应说明的是:以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (8)
1.氧化铍陶瓷基片多方向研磨抛光机,包括底座(1),其特征在于:所述底座(1)的上表面固定连接有支杆(2),所述底座(1)的上表面且位于支杆(2)的右侧设置有放置槽(12),所述支杆(2)远离底座(1)的一端固定连接有支撑板(3),所述支撑板(3)的上表面固定连接有液压缸(4),所述液压缸(4)的输出端设置有打磨机构(5);
所述底座(1)的内部固定连接有风机(7),所述风机(7)的输入端固定连接有三通管(8),所述三通管(8)远离风机(7)的一端固定连接有软管(9),所述软管(9)远离三通管(8)的一端固定连接有连接管(10),所述连接管(10)远离软管(9)的一端固定连接有吸头(11),所述底座(1)的内部且位于风机(7)的下方设置有收集腔(6),所述收集腔(6)的内部活动连接有安装板(14),所述安装板(14)的上表面固定连接有吸附板(15),所述风机(7)的输出端固定连接有出料管(13)。
2.根据权利要求1所述的氧化铍陶瓷基片多方向研磨抛光机,其特征在于:所述打磨机构(5)包括安装架(51),所述安装架(51)的内部固定连接有电机(52),所述电机(52)的输出端固定连接有转轴(53),所述转轴(53)远离电机(52)的一端固定连接有打磨片(54),所述转轴(53)的侧表面固定连接有稳固杆(55),所述安装架(51)的内部活动连接有限位杆(56),所述打磨片(54)的位置位于放置槽(12)的正上方。
3.根据权利要求2所述的氧化铍陶瓷基片多方向研磨抛光机,其特征在于:所述稳固杆(55)的形状为L性,所述稳固杆(55)远离转轴(53)的一端与安装架(51)的下表面活动连接。
4.根据权利要求2所述的氧化铍陶瓷基片多方向研磨抛光机,其特征在于:所述限位杆(56)的一端延伸至安装架(51)的上方,且与底座(1)的下表面固定连接,所述限位杆(56)远离底座(1)的一端延伸至安装架(51)的下方,且与底座(1)的上表面固定连接。
5.根据权利要求1所述的氧化铍陶瓷基片多方向研磨抛光机,其特征在于:所述出料管(13)远离风机(7)的一端延伸至收集腔(6)的内部。
6.根据权利要求1所述的氧化铍陶瓷基片多方向研磨抛光机,其特征在于:所述三通管(8)远离风机(7)的一端延伸至底座(1)的外部。
7.根据权利要求1所述的氧化铍陶瓷基片多方向研磨抛光机,其特征在于:所述连接管(10)与安装架(51)的内底部相连接,所述吸头(11)的位置位于安装架(51)的下方。
8.根据权利要求1所述的氧化铍陶瓷基片多方向研磨抛光机,其特征在于:所述底座(1)的前表面设置有箱门(16),且箱门(16)的位置位于收集腔(6)的前方。
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