CN216415406U - 一种蔬菜种植基质改良结构 - Google Patents

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朱红青
张红艳
李秀梅
朱国寿
张静
朱学鹏
张春丽
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Abstract

本实用新型公开了一种蔬菜种植基质改良结构,种植基质的种植坑位内的底部为保水剂组成的保水底层,保水底层之上为保水剂与底肥混合形成的第一混合层,第一混合层之上为回填基质层,回填基质层的边缘自上而下设有一孔位,孔位内为保水剂与珍珠岩混合形成的第二混合层,在回填基质层表层外围挖设有一圈集水沟,集水沟与第二混合层顶部相对应,集水沟底部以及远离回填基质层的侧壁覆盖有防渗膜。本实用新型通过保水底层、第一混合层、第二混合层、集水沟对种植坑位的种植基质形成保水保肥结构,改良基质结构,在保障蔬菜正常生长的同时,达到节水效果,减少肥料浪费。

Description

一种蔬菜种植基质改良结构
技术领域
本实用新型属于蔬菜种植技术领域,具体涉及一种蔬菜种植基质改良结构。
背景技术
蔬菜生长周期通常较短,数月即可采收。蔬菜生长期间需要定时浇水,需水量比较大,而且还需要定期、及时补充各类营养元素,如根部浇施追肥。蔬菜种植基质虽然具有一定保水保肥性能,但依然存在浇灌水以及肥料易流失问题,尤其是在干旱少雨水资源匮乏地区,只能种植耐旱蔬菜种类,限制了蔬菜种植发展。为此,研发一种蔬菜种植基质改良结构是非常必要的。
发明内容
本实用新型的目的在于提供一种蔬菜种植基质改良结构。
本实用新型的目的是这样实现的,种植基质的种植坑位内的底部为保水剂组成的保水底层,保水底层之上为保水剂与底肥混合形成的第一混合层,第一混合层之上为回填基质层,回填基质层的边缘自上而下设有一孔位,孔位内为保水剂与珍珠岩混合形成的第二混合层,在回填基质层表层外围挖设有一圈集水沟,集水沟与第二混合层顶部相对应,集水沟底部以及远离回填基质层的侧壁覆盖有防渗膜。
本实用新型的有益效果:本实用新型通过保水底层、第一混合层、第二混合层、集水沟对种植坑位的种植基质形成保水保肥结构,改良基质结构,在保障蔬菜正常生长的同时,达到节水效果,减少肥料浪费。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图中:1-种植坑位,2-保水底层,3-第一混合层,4-回填基质层,5-第二混合层,6-集水沟,7-防渗膜,8-滴灌头。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步的说明,但不以任何方式对本实用新型加以限制,基于本实用新型教导所作的任何变换或替换,均属于本实用新型的保护范围。
如附图1所示本实用新型种植基质的种植坑位1内的底部为保水剂组成的保水底层2,保水底层2之上为保水剂与底肥混合形成的第一混合层3,保水剂与底肥可以按质量比1:0.5~1.5配置,第一混合层3之上为回填基质层4,回填基质层4的边缘自上而下设有一孔位,孔位内为保水剂与珍珠岩混合形成的第二混合层5,保水剂与珍珠岩可以按质量比1:1~2配置,在回填基质层4表层外围挖设有一圈集水沟6,集水沟6与第二混合层5顶部相对应,集水沟6底部以及远离回填基质层4的侧壁覆盖有防渗膜7。
还包括滴灌头8,滴灌头8伸入至集水沟6内,滴灌头8通过管道与滴灌设备连接。
所述种植坑位1的底部中央低四周高。
所述第二混合层5下端与第一混合层3顶部相接触,使透过第二混合层5的水直接向第一混合层3渗透。
所述防渗膜7为PVC膜。
本实用新型工作原理和工作过程:种植前先在种植基质上挖设种植坑位1,再铺设保水底层2、第一混合层3;然后栽种蔬菜幼苗并回填基质,形成回填基质层4;然后在回填基质层4边缘开设孔位并在孔位中填入第二混合层5;最后挖设集水沟并在沟内铺设防渗膜7,即可;浇水后一部分水沿回填基质层4向下渗透,渗透水透过底肥形成的肥水液被第一混合层3的保水剂吸收,继续下渗的水被保水底层2吸收;集水沟6起到汇聚水的作用,防渗膜7防止集水沟6内的水向外渗出,而集水沟6的水一部分向回填基质层4下渗,而第二混合层5由珍珠岩将保水剂分散并增大孔隙,利于透水,水沿第二混合层5下渗,部分水被保水剂吸收,其余水继续下渗第一混合层3、保水底层2;第一混合层3起到保水保肥功效,避免水分以及肥料流失;而保水底层2进一步收集下渗水分,对第一混合层3持续缓慢浸润;第二混合层配合集水沟6一方面利于水沿孔位下渗,使水导向第一混合层3、保水底层2,同时第二混合层还有保水功能,对回填基质层4纵向缓慢释放水分,达到节水保水效果。

Claims (5)

1.一种蔬菜种植基质改良结构,其特征在于种植基质的种植坑位(1)内的底部为保水剂组成的保水底层(2),保水底层(2)之上为第一混合层(3),第一混合层(3)之上为回填基质层(4),回填基质层(4)的边缘自上而下设有一孔位,孔位内为第二混合层(5),在回填基质层(4)表层外围挖设有一圈集水沟(6),集水沟(6)与第二混合层(5)顶部相对应,集水沟(6)底部以及远离回填基质层(4)的侧壁覆盖有防渗膜(7)。
2.根据权利要求1所述蔬菜种植基质改良结构,其特征在于还包括滴灌头(8),滴灌头(8)伸入至集水沟(6)内。
3.根据权利要求1所述蔬菜种植基质改良结构,其特征在于所述种植坑位(1)的底部中央低四周高。
4.根据权利要求1所述蔬菜种植基质改良结构,其特征在于所述第二混合层(5)下端与第一混合层(3)顶部相接触。
5.根据权利要求1所述蔬菜种植基质改良结构,其特征在于所述防渗膜(7)为PVC膜。
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CN116114570A (zh) * 2023-03-22 2023-05-16 淮安大华生物科技有限公司 一种番茄种植基质及其基质块的制备方法

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