CN216414645U - 一种半导体加工用静电消除设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及半导体技术领域，具体揭示了一种半导体加工用静电消除设备，包括底箱，所述底箱底部的两侧均固定连接有支座，所述底箱的顶部固定连接有顶箱，所述顶箱前侧的两侧均活动连接有箱门，所述顶箱内腔的底部安装有半导体工件本体，所述底箱前侧的底部固定连接有伺服电机，伺服电机的输出端固定连接有转轴。本实用新型通过伺服电机带动转轴转动，通过转轴带动主动齿轮转动，通过主动齿轮带动齿圈转动，通过齿圈的转动带动支撑杆转动，通过支撑杆的转动带动光杆在底箱的内壁转动，同时齿圈的转动带动静电消除器转动，达到了静电消除范围广的优点，解决了现有的半导体加工用静电消除设备在使用时静电消除范围小的问题。

Description

一种半导体加工用静电消除设备

技术领域

本实用新型涉及半导体技术领域，具体为一种半导体加工用静电消除设备。

背景技术

半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料，半导体在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明、大功率电源转换等领域都有应用，如二极管就是采用半导体制作的器件，而现有的半导体加工用静电消除设备在使用时静电消除范围小，通常静电消除只能够对半导体的表面进行消除，这样静电消除范围存在局限性，因此不便于人们使用。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供一种半导体加工用静电消除设备，具备静电消除范围广的优点，解决了现有的半导体加工用静电消除设备在使用时静电消除范围小，通常静电消除只能够对半导体的表面进行消除，这样静电消除范围存在局限性，因此不便于人们使用的问题。

本实用新型的一种半导体加工用静电消除设备，包括底箱，所述底箱底部的两侧均固定连接有支座，所述底箱的顶部固定连接有顶箱，所述顶箱前侧的两侧均活动连接有箱门，所述顶箱内腔的底部安装有半导体工件本体，所述底箱前侧的底部固定连接有伺服电机，所述伺服电机的输出端固定连接有转轴，所述转轴的背侧贯穿至底箱的内腔，所述转轴的表面固定连接有主动齿轮，所述主动齿轮的顶部啮合有齿圈，所述齿圈内腔的顶部安装有静电消除器。

本实用新型的一种半导体加工用静电消除设备，其中所述静电消除器包括消除壳，所述消除壳内腔的背侧固定连接有拦网，所述消除壳的内腔固定连接有离子发生器，所述消除壳内腔的前侧固定连接有离子风扇。

本实用新型的一种半导体加工用静电消除设备，其中所述齿圈内腔的底部固定连接有支撑杆，所述支撑杆内腔的顶部固定连接有光杆，所述光杆的前侧和背侧均与底箱的内壁活动连接。

本实用新型的一种半导体加工用静电消除设备，其中所述顶箱内壁底部的中心处固定连接有连接块，所述连接块的顶部固定连接有承载板，所述承载板的顶部与半导体工件本体的底部接触。

本实用新型的一种半导体加工用静电消除设备，其中所述顶箱内壁底部的两侧均开设有通槽，所述通槽的内壁与齿圈的表面活动连接。

本实用新型的一种半导体加工用静电消除设备，其中所述齿圈内腔的顶部固定连接有顶杆，所述顶杆背侧的底部固定连接有连接座，所述连接座的背侧与静电消除器的前侧固定连接。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：

1、本实用新型通过伺服电机带动转轴转动，通过转轴带动主动齿轮转动，通过主动齿轮带动齿圈转动，通过齿圈的转动带动支撑杆转动，通过支撑杆的转动带动光杆在底箱的内壁转动，同时齿圈的转动带动静电消除器转动，达到了静电消除范围广的优点，解决了现有的半导体加工用静电消除设备在使用时静电消除范围小，通常静电消除只能够对半导体的表面进行消除，这样静电消除范围存在局限性，因此不便于人们使用的问题。

2、本实用新型通过顶杆和连接座的设置，提高了静电消除器与齿圈连接时的稳定性，防止静电消除器在工作过程中会掉落，通过支撑杆和光杆的设置，对齿圈起到支撑的效果，从而使齿圈在转动过程中更加稳定。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。在附图中：

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型底箱和顶箱结构的剖视图；

图3为本实用新型静电消除器结构的连接示意图。

图中：1、底箱；2、伺服电机；3、支座；4、顶箱；5、箱门；6、转轴；7、主动齿轮；8、齿圈；9、通槽；10、静电消除器；1001、消除壳；1002、拦网；1003、离子发生器；1004、离子风扇；11、顶杆；12、半导体工件本体；13、承载板；14、连接块；15、光杆；16、支撑杆；17、连接座。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-3，本实用新型的一种半导体加工用静电消除设备，包括底箱1，底箱1底部的两侧均固定连接有支座3，底箱1的顶部固定连接有顶箱4，顶箱4前侧的两侧均活动连接有箱门5，顶箱4内腔的底部安装有半导体工件本体12，底箱1前侧的底部固定连接有伺服电机2，伺服电机2的输出端固定连接有转轴6，转轴6的背侧贯穿至底箱1的内腔，转轴6的表面固定连接有主动齿轮7，主动齿轮7的顶部啮合有齿圈8，齿圈8内腔的顶部安装有静电消除器10。

静电消除器10包括消除壳1001，消除壳1001内腔的背侧固定连接有拦网1002，消除壳1001的内腔固定连接有离子发生器1003，消除壳1001内腔的前侧固定连接有离子风扇1004。

齿圈8内腔的底部固定连接有支撑杆16，支撑杆16内腔的顶部固定连接有光杆15，光杆15的前侧和背侧均与底箱1的内壁活动连接，通过支撑杆16和光杆15的设置，对齿圈8起到支撑的效果，从而使齿圈8在转动过程中更加稳定。

顶箱4内壁底部的中心处固定连接有连接块14，连接块14的顶部固定连接有承载板13，承载板13的顶部与半导体工件本体12的底部接触。

顶箱4内壁底部的两侧均开设有通槽9，通槽9的内壁与齿圈8的表面活动连接。

齿圈8内腔的顶部固定连接有顶杆11，顶杆11背侧的底部固定连接有连接座17，连接座17的背侧与静电消除器10的前侧固定连接，通过顶杆11和连接座17的设置，提高了静电消除器10与齿圈8连接时的稳定性，防止静电消除器10在工作过程中会掉落。

在使用本实用新型时：首先将半导体工件本体12安装于承载板13的顶部，随后通过伺服电机2带动转轴6转动，通过转轴6带动主动齿轮7转动，通过主动齿轮7带动齿圈8转动，通过齿圈8的转动带动支撑杆16转动，通过支撑杆16的转动带动光杆15在底箱1的内壁转动，同时齿圈8的转动带动顶杆11转动，通过顶杆11的转动带动连接座17转动，通过连接座17的转动带动静电消除器10转动，通过静电消除器10的转动对半导体工件本体12表面的静电进行消除(本文中出现的电器元件均与外界的主控器以220V市电电连接，并且主控器可为计算机等起到控制的常规已知设备)。

综上仅为本实用新型的实施方式而已，并不用于限制本实用新型。对于本领域技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原理的内所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包括在本实用新型的权利要求范围之内。

Claims (6)

1.一种半导体加工用静电消除设备，包括底箱(1)，其特征在于：所述底箱(1)底部的两侧均固定连接有支座(3)，所述底箱(1)的顶部固定连接有顶箱(4)，所述顶箱(4)前侧的两侧均活动连接有箱门(5)，所述顶箱(4)内腔的底部安装有半导体工件本体(12)，所述底箱(1)前侧的底部固定连接有伺服电机(2)，所述伺服电机(2)的输出端固定连接有转轴(6)，所述转轴(6)的背侧贯穿至底箱(1)的内腔，所述转轴(6)的表面固定连接有主动齿轮(7)，所述主动齿轮(7)的顶部啮合有齿圈(8)，所述齿圈(8)内腔的顶部安装有静电消除器(10)。

2.根据权利要求1所述的一种半导体加工用静电消除设备，其特征在于：所述静电消除器(10)包括消除壳(1001)，所述消除壳(1001)内腔的背侧固定连接有拦网(1002)，所述消除壳(1001)的内腔固定连接有离子发生器(1003)，所述消除壳(1001)内腔的前侧固定连接有离子风扇(1004)。

3.根据权利要求1所述的一种半导体加工用静电消除设备，其特征在于：所述齿圈(8)内腔的底部固定连接有支撑杆(16)，所述支撑杆(16)内腔的顶部固定连接有光杆(15)，所述光杆(15)的前侧和背侧均与底箱(1)的内壁活动连接。

4.根据权利要求1所述的一种半导体加工用静电消除设备，其特征在于：所述顶箱(4)内壁底部的中心处固定连接有连接块(14)，所述连接块(14)的顶部固定连接有承载板(13)，所述承载板(13)的顶部与半导体工件本体(12)的底部接触。

5.根据权利要求1所述的一种半导体加工用静电消除设备，其特征在于：所述顶箱(4)内壁底部的两侧均开设有通槽(9)，所述通槽(9)的内壁与齿圈(8)的表面活动连接。

6.根据权利要求1所述的一种半导体加工用静电消除设备，其特征在于：所述齿圈(8)内腔的顶部固定连接有顶杆(11)，所述顶杆(11)背侧的底部固定连接有连接座(17)，所述连接座(17)的背侧与静电消除器(10)的前侧固定连接。

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