CN216174801U - 一种化工设备水浴振荡清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及化工清洁技术领域，尤其为一种化工设备水浴振荡清洗装置，包括机壳、设置在机壳上的清洁池、设置在清洁池底板上的震动机构、设置在机壳左侧箱体内的供料室和控制室及分别设置在供料室和控制室内的供料机构和控制机构。本实用新型中，通过使用超声波发生器和换能器组合作为化工设备清洁的震动机构，可实现对化工设备表面污垢的高频震动清洁，设置的供料机构包括供水泵和供料泵，通过在供水泵和供料泵的供水管道上分别设置流量传感器，可实现对供水及供药量的控制，实现对水和清洁剂比例的精确控制，提高化工设备的清洁效果，设置的红外加热器在化工设备清洁完成后，可对化工设备进行加热杀菌，适宜推广使用。

Description

一种化工设备水浴振荡清洗装置

技术领域

本实用新型涉及化工清洁技术领域，具体为一种化工设备水浴振荡清洗装置。

背景技术

目前市场上存在的大部分化工工具及设备的清洁工具大都采用水浴锅进行清洁，现有的水浴锅，清洁效果不佳，对清洁剂和水的比例无法精确控制，且在清洁完成后无法实现对化工工具及设备的干燥，因此，针对上述问题提出一种化工设备水浴振荡清洗装置。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种化工设备水浴振荡清洗装置，通过使用超声波发生器和换能器组合作为化工设备清洁的震动机构，可实现对化工设备表面污垢的高频震动清洁，设置的供料机构包括供水泵和供料泵，通过在供水泵和供料泵的供水管道上分别设置流量传感器，可实现对供水及供药量的控制，实现对水和清洁剂比例的精确控制，提高化工设备的清洁效果，设置的红外加热器在化工设备清洁完成后，可对化工设备进行加热杀菌，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种化工设备水浴振荡清洗装置，包括机壳、设置在机壳上的清洁池、设置在清洁池底板上的震动机构、设置在机壳左侧箱体内的供料室和控制室及分别设置在供料室和控制室内的供料机构和控制机构，清洁池顶部左侧设置有安装架，安装架上设置有左端通过转轴转动设置在安装架上的盖板，安装架前侧设置有动能输出轴连接盖板左端转轴的步进电机。

作为一种优选方案，盖板的底部面板上分别设置有雷达水位传感器和红外加热器。

作为一种优选方案，供料机构包括从左往右依次设置在供料室内部底板上供水泵和供料泵，供水泵和供料泵的抽料管分别伸出机壳外，供水泵和供料泵的供水管道分别从清洁池上方伸入清洁池内，供水泵和供料泵的供水管道上均设置有流量传感器。

作为一种优选方案，震动机构包括设置在清洁池底部面板上的换能器和设置在控制室内部底板上的超声波发生器，换能器通过线路连接超声波发生器。

作为一种优选方案，清洁池内部的内壁上于换能器上方设置有镂空格栅板，清洁池底部右侧设置有伸出机壳外的排水管，排水管上设置有开关阀。

作为一种优选方案，控制机构包括设置在控制室底板上的电机控制器、设置在控制室左侧内壁上的继电器组和设置在控制室右侧内壁上的PLC控制器，电机控制器和继电器组的控制线路分别连接PLC控制器。

作为一种优选方案，步进电机通过线路连接电机控制器。

作为一种优选方案，红外加热器通过线路连接继电器组中对应的继电器，供水泵和供料泵分别通过线路连接继电器组中对应的继电器，开关阀通过线路连接继电器组中对应的继电器，超声波发生器通过线路连接继电器组中对应的继电器。

作为一种优选方案，雷达水位传感器通过线路连接PLC控制器，供水泵和供料泵的供水管道上设置的流量传感器分别通过线路连接 PLC控制器。

由上述本实用新型提供的技术方案可以看出，本实用新型提供的一种化工设备水浴振荡清洗装置，有益效果是：通过使用超声波发生器和换能器组合作为化工设备清洁的震动机构，可实现对化工设备表面污垢的高频震动清洁，设置的供料机构包括供水泵和供料泵，通过在供水泵和供料泵的供水管道上分别设置流量传感器，可实现对供水及供药量的控制，实现对水和清洁剂比例的精确控制，提高化工设备的清洁效果，设置的红外加热器在化工设备清洁完成后，可对化工设备进行加热杀菌，适宜推广使用。

附图说明

图1为本实用新型一种化工设备水浴振荡清洗装置整体结构示意图。

图中：1、机壳；101、供料室；102、控制室；2、清洁池；201、镂空格栅板；202、排水管；203、开关阀；3、换能器；301、超声波发生器；302、流量传感器；303、供水泵；304、供料泵；4、安装架； 401、盖板；402、步进电机；403、红外加热器；404、雷达水位传感器；5、继电器组；501、电机控制器；502、PLC控制器。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

为了更好地理解上述技术方案，下面将结合说明书附图以及具体实施方式对上述技术方案进行详细的说明。

如图1所示，本实用新型实施例提供一种化工设备水浴振荡清洗装置，包括：机壳1、设置在机壳1上的清洁池2、设置在清洁池2 底板上的震动机构、设置在机壳1左侧箱体内的供料室101和控制室 102及分别设置在供料室101和控制室102内的供料机构和控制机构；

上述结构中，清洁池2顶部左侧设置有安装架4，安装架4上设置有左端通过转轴转动设置在安装架4上的盖板401，盖板401的底部面板上分别设置有雷达水位传感器404和红外加热器403，红外加热器403通过线路连接继电器组5中对应的继电器，安装架4前侧设置有动能输出轴连接盖板401左端转轴的步进电机402，步进电机402 通过线路连接电机控制器501；

上述结构中，供料机构包括从左往右依次设置在供料室101内部底板上供水泵303和供料泵304，供水泵303和供料泵304的抽料管分别伸出机壳1外，供水泵303和供料泵304的供水管道分别从清洁池2上方伸入清洁池2内，供水泵303和供料泵304的供水管道上均设置有流量传感器302，供水泵303和供料泵304分别通过线路连接继电器组5中对应的继电器；

上述结构中，震动机构包括设置在清洁池2底部面板上的换能器 3和设置在控制室102内部底板上的超声波发生器301，换能器3通过线路连接超声波发生器301，超声波发生器301通过线路连接继电器组5中对应的继电器；

上述结构中，清洁池2内部的内壁上于换能器3上方设置有镂空格栅板201，清洁池2底部右侧设置有伸出机壳1外的排水管202，排水管202上设置有开关阀203，开关阀203通过线路连接继电器组5中对应的继电器；

上述结构中，控制机构包括设置在控制室102底板上的电机控制器501、设置在控制室102左侧内壁上的继电器组5和设置在控制室 102右侧内壁上的PLC控制器502，电机控制器501和继电器组5的控制线路分别连接PLC控制器502，雷达水位传感器404通过线路连接PLC控制器502，供水泵303和供料泵304的供水管道上设置的流量传感器302分别通过线路连接PLC控制器502。

本实用新型的一种化工设备水浴振荡清洗装置，通过使用超声波发生器和换能器组合作为化工设备清洁的震动机构，可实现对化工设备表面污垢的高频震动清洁，设置的供料机构包括供水泵和供料泵，通过在供水泵和供料泵的供水管道上分别设置流量传感器，可实现对供水及供药量的控制，实现对水和清洁剂比例的精确控制，提高化工设备的清洁效果，设置的红外加热器在化工设备清洁完成后，可对化工设备进行加热杀菌，适宜推广使用。

下面将结合附图对本实用新型实施例作进一步地详细描述：

请参阅图1，包括机壳1，机壳1上设置有清洁池2，机壳1左侧箱体内的供料室101和控制室102，控制室102底板上设置有电机控制器501，控制室102左侧内壁上设置有继电器组5，控制室102 右侧内壁上设置有PLC控制器502，电机控制器501和继电器组5的控制线路分别连接PLC控制器502，清洁池2顶部左侧设置有安装架 4，安装架4上设置有左端通过转轴转动设置在安装架4上的盖板401，盖板401的底部面板上分别设置有雷达水位传感器404和红外加热器 403，红外加热器403通过线路连接继电器组5中对应的继电器，安装架4前侧设置有动能输出轴连接盖板401左端转轴的步进电机402，步进电机402通过线路连接电机控制器501，供料室101内部底板上供水泵303和供料泵304，供水泵303和供料泵304的抽料管分别伸出机壳1外，供水泵303和供料泵304的供水管道分别从清洁池2上方伸入清洁池2内，供水泵303和供料泵304的供水管道上均设置有流量传感器302，供水泵303和供料泵304分别通过线路连接继电器组5中对应的继电器；

其中，清洁池2底部面板上设置有换能器3，控制室102内部底板上设置有超声波发生器301，换能器3通过线路连接超声波发生器 301，超声波发生器301通过线路连接继电器组5中对应的继电器；

其中，清洁池2内部的内壁上于换能器3上方设置有镂空格栅板 201，清洁池2底部右侧设置有伸出机壳1外的排水管202，排水管 202上设置有开关阀203，开关阀203通过线路连接继电器组5中对应的继电器；

其中，雷达水位传感器404通过线路连接PLC控制器502，供水泵303和供料泵304的供水管道上设置的流量传感器302分别通过线路连接PLC控制器502。

本实施例的工作原理：通过使用超声波发生器和换能器组合作为化工设备清洁的震动机构，可实现对化工设备表面污垢的高频震动清洁，设置的供料机构包括供水泵和供料泵，通过在供水泵和供料泵的供水管道上分别设置流量传感器，可实现对供水及供药量的控制，实现对水和清洁剂比例的精确控制，提高化工设备的清洁效果，设置的红外加热器在化工设备清洁完成后，可对化工设备进行加热杀菌。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (9)

1.一种化工设备水浴振荡清洗装置，包括机壳(1)、设置在机壳(1)上的清洁池(2)、设置在清洁池(2)底板上的震动机构、设置在机壳(1)左侧箱体内的供料室(101)和控制室(102)及分别设置在供料室(101)和控制室(102)内的供料机构和控制机构，其特征在于：所述清洁池(2)顶部左侧设置有安装架(4)，所述安装架(4)上设置有左端通过转轴转动设置在安装架(4)上的盖板(401)，所述安装架(4)前侧设置有动能输出轴连接盖板(401)左端转轴的步进电机(402)。

2.根据权利要求1所述的一种化工设备水浴振荡清洗装置，其特征在于：所述盖板(401)的底部面板上分别设置有雷达水位传感器(404)和红外加热器(403)。

3.根据权利要求2所述的一种化工设备水浴振荡清洗装置，其特征在于：所述供料机构包括从左往右依次设置在供料室(101)内部底板上供水泵(303)和供料泵(304)，所述供水泵(303)和供料泵(304)的抽料管分别伸出机壳(1)外，所述供水泵(303)和供料泵(304)的供水管道分别从清洁池(2)上方伸入清洁池(2)内，所述供水泵(303)和供料泵(304)的供水管道上均设置有流量传感器(302)。

4.根据权利要求3所述的一种化工设备水浴振荡清洗装置，其特征在于：所述震动机构包括设置在清洁池(2)底部面板上的换能器(3)和设置在控制室(102)内部底板上的超声波发生器(301)，所述换能器(3)通过线路连接超声波发生器(301)。

5.根据权利要求4所述的一种化工设备水浴振荡清洗装置，其特征在于：所述清洁池(2)内部的内壁上于换能器(3)上方设置有镂空格栅板(201)，所述清洁池(2)底部右侧设置有伸出机壳(1)外的排水管(202)，所述排水管(202)上设置有开关阀(203)。

6.根据权利要求5所述的一种化工设备水浴振荡清洗装置，其特征在于：所述控制机构包括设置在控制室(102)底板上的电机控制器(501)、设置在控制室(102)左侧内壁上的继电器组(5)和设置在控制室(102)右侧内壁上的PLC控制器(502)，所述电机控制器(501)和继电器组(5)的控制线路分别连接PLC控制器(502)。

7.根据权利要求6所述的一种化工设备水浴振荡清洗装置，其特征在于：所述步进电机(402)通过线路连接电机控制器(501)。

8.根据权利要求7所述的一种化工设备水浴振荡清洗装置，其特征在于：所述红外加热器(403)通过线路连接继电器组(5)中对应的继电器，所述供水泵(303)和供料泵(304)分别通过线路连接继电器组(5)中对应的继电器，所述开关阀(203)通过线路连接继电器组(5)中对应的继电器，所述超声波发生器(301)通过线路连接继电器组(5)中对应的继电器。

9.根据权利要求8所述的一种化工设备水浴振荡清洗装置，其特征在于：所述雷达水位传感器(404)通过线路连接PLC控制器(502)，所述供水泵(303)和供料泵(304)的供水管道上设置的流量传感器(302)分别通过线路连接PLC控制器(502)。

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