CN215785293U - 清洗槽槽体结构和清洗设备 - Google Patents

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CN215785293U CN202121664727.1U CN202121664727U CN215785293U CN 215785293 U CN215785293 U CN 215785293U CN 202121664727 U CN202121664727 U CN 202121664727U CN 215785293 U CN215785293 U CN 215785293U
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左国军
柯国英
付正超
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Abstract

本实用新型公开清洗槽槽体结构,该槽体结构包括第一槽体,该第一槽体并排设置有多个依次连通的槽室,且每个槽室各自设有清洗装置的安装部;多个槽室包括相邻的第一槽室和第二槽室,第一槽室和第二槽室之间通过分隔组件间隔;分隔组件的一侧开设有高位溢流口,相对的另一侧开设有低位溢流口,分隔组件内部设有空腔,且高位溢流口和低位溢流口通过空腔连通;第一隔板和第二隔板之间通过连接板固定连接,连接板上开设有用于通过溶液的通孔;本实用新型通过内部设有溢流结构的分隔组件将清洗槽的槽体分隔为多个通过所述溢流结构连通的槽室,实现溶液在单个清洗槽的各槽室间溢流复用;并通过清洗槽间设置的溢流管道实现溶液在多个清洗槽间的溢流复用。

Description

清洗槽槽体结构和清洗设备
技术领域
本实用新型涉及太阳能光伏电池技术领域,具体涉及清洗槽槽体结构和清洗设备。
背景技术
硅片是电池生产中常用的基板材料。在硅片生产过程中,需要对硅片进行多次清洗。
硅片清洗时,将硅片连同载具一起浸入配置好溶液的清洗槽内,通过振动溶液、或是载板和溶液相对运动的方式进行清洗。
现有的硅片的清洗设备包括多个相互独立的清洗槽,每个清洗槽均配有独立的进水口和排废口,清洗使用后的溶液通过排废口直接外排,溶液利用率很低,浪费和污染严重。
另外,溶液中可能会存在杂质,影响清洗效果。
实用新型内容
鉴于上述,本实用新型提出了清洗槽槽体结构,旨在解决现有技术活或相关技术中存在的技术问题之一。
清洗槽槽体结构,包括第一槽体,第一槽体包括相邻设置的第一槽室和第二槽室,第一槽室和第二槽室之间通过分隔组件间隔;
分隔组件的一侧开设有高位溢流口,相对的另一侧开设有低位溢流口,分隔组件内部设有空腔,且高位溢流口和低位溢流口通过空腔连通;
高位溢流口的位置高于低位溢流口的位置,且空腔内设有过滤装置。
优选的,分隔组件包括间隔设置的第一隔板和第二隔板,空腔位于第一隔板和第二隔板之间;
高位溢流口开设于第一隔板上,低位溢流口开设于第二隔板上;
第一隔板和第二隔板之间通过连接板固定连接,连接板上开设有用于通过溶液的通孔。优选的,过滤装置由连接板构成;或者,所述过滤装置为过滤网板,所述过滤网板覆盖所述通孔,过滤网板可以有多种安装方式,例如一种是设置在连接板上,通过螺钉锁紧的方式固定在连接板上;一种为将过滤网板设置有的两侧侧面成楔形,过滤网板卡设在第一隔板和第二隔板之间,位于连接板上方。
连接板横向设置,且开设有多个通孔,多个通孔还用于过滤清洗液中的杂质。
优选的,高位溢流口呈长条形横向延伸,且高位溢流口的底边呈波纹状。
优选的,第一槽体设置有多个槽室,多个槽室包括顺序排列的第一槽室、第二槽室和第三槽室;
第二槽室和第三槽室之间通过另一个分隔组件间隔。
优选的,位于不同分隔组件上的高位溢流口之间具有高度差。
优选的,还包括第二槽体;
第二槽体与第一槽体最末位的槽室通过溢流管连通。
优选的,每个槽室的底部各自设有排废口。
优选的,各槽室的底部设有引流斜面,排废口位于槽室底面的最低点。
清洗槽,内置有清洗液,用于清洗工件,通过设置分隔组件,分隔成两个槽室,即第一槽室和第二槽室,一种情况是:分隔组件将清洗槽均等分,第一槽室和第二槽室均可用于放置工件。
分隔组件上设置有空腔,两个槽室内的溶液通过分隔组件的空腔实现连通,
即第一槽室内的溶液通过第一隔板上的高位溢流口流至空腔,再流经低位溢流口至第二槽室内。
工件先经过第二槽室清洗完成后,再经过第一槽室进行清洗,水流从第一槽室通过分隔组件溢流至第二槽室,即与工件清洗次序方向相反,从第一槽室溢流过来的相对洁净的溶液可以对第二槽室内的溶液实现更替,确保第二槽室内的溶液相对洁净。
当有多个清洗槽时,每个清洗槽之间通过连接管相互连接,实现溶液的流通。
具体地,所述清洗槽为方体结构,所述清洗槽数量为两个时:
一个是第一槽体,包括:第一槽室和第二槽室;一个是第二槽体,包括:第三槽室和第四槽室。
第一槽体内设置两个分隔组件,两个分隔组件平行设置;
一个分隔组件设置在第一槽体的内部,第一隔板和第二隔板与第一槽体的槽侧壁和槽底板连接,第一隔板靠近第二隔板的一侧面、第二隔板靠近第一隔板的一侧面、与第一隔板和第二隔板之间的槽侧壁、槽底板围设的空间即所述空腔;
另一个分隔组件靠近槽体侧壁设置,第一隔板与第一槽体的槽侧壁和槽底板连接,第二隔板设置在槽体侧壁上;同上一个分隔组件中,第一隔板靠近第二隔板的一侧面、第二隔板靠近第一隔板的一侧面、与第一隔板和第二隔板之间的槽侧壁、槽底板围设的空间即所述空腔;与上一个分隔组件不同之处是:在所述空腔上开始有第一连接口,第一连接口具体设置在槽体侧壁上,第一连接口用于连接连接管。
第二槽体内设置的一个位于槽体内部的分隔组件(槽体内部的分隔组件即非靠近槽体侧壁设置的分隔组件)的设置方式同第一槽体,
不同之处在于:第三槽室的侧壁上开设有第二连接口,用于连接所述连接管的另一端。
设置连接管用于连接两个清洗槽,实现两个清洗槽之间溶液的流通,提高溶液的利用率。
需要说明的是:当工件清洗次序的方向为依次经过:第四槽室、第三槽室、第二槽室、第一槽室、则水流溢流流向为:第一槽室、第二槽室、第三槽室、第四槽室,当有多个工件依次进行清洗时,可实现下一个工件在一个槽室进行清洗时相对于上一个工件离开这个槽室时,这个槽室的溶液更洁净,因为有更洁净的水流溢流至这个槽内,更新了溶液,实现了相对洁净的溶液的利用。
此外,沿水流流动方向,第一槽体和第二槽体内的分隔组件中高位溢流口的设置高度依次相同或者依次降低,即位于不同分隔组件上的高位溢流口之间具有高度差。
当设置有多个清洗槽时,第二槽体内设置有两个分隔组件,两个分隔组件的设置方式同第一槽体,多个清洗槽依次排列,相邻的两个清洗槽通过连接管进行连接。
此外,第二隔板远离槽体底部的另一端的设置高估高于第一隔板远离槽体底部的一端,即设置有高位溢流口的一端,以避免溶液不通过空腔直接进入到第二槽室。为了提高第二隔板的强度,避免水流长时间的冲刷,在第二隔板远离槽体底部的一端设置有弯折部,所述弯折部是将板多次弯折,形成一个回型结构。
所述槽体为金属槽体,所述分隔组件也为金属结构。
本实用新型还公开了清洗设备,具有上述任意一项记载的清洗槽槽体结构。为了提高溶液使用率,有些工厂将单个清洗槽分隔为主槽室和副槽室,通过主槽室和副槽室之间设置的溢流结构,实现溶液的重复利用。但溶液只能在单个槽体内循环使用, 本实用新型通过内部设有用于实现溢流的分隔组件将清洗槽的槽体分隔为多个通过所述分隔组件连通的槽室,实现溶液在单个清洗槽内各槽室间的溢流复用;并通过清洗槽间设置的连接管道实现溶液在多个清洗槽间的溢流复用。
附图说明
下面结合实施例和附图对本实用新型进行详细说明,其中:
图1是实施例1的剖视图。
图2是分隔组件低位溢流口一侧视角的立体图。
图3是分隔组件高位溢流口一侧视角的立体图。
图4是连接板的结构图。
图5是安装板的外侧视角的结构图。
图6是安装板的内侧视角的结构图。
图7是实施例2的剖视图。
图8是实施例3的前视图。
附图标记说明:
1-分隔组件,11-高位溢流口,12-低位溢流口,13-空腔,14-第一隔板,15-第二隔板,16-连接板,161-通孔,17-弯折部,2-排废口,3-溶液注入口,4-超声波振板安装孔,5-加热器安装孔,100-第一槽体,110-第一槽室,120-第二槽室,130-第三槽室,140-安装板,151-第一外接高位溢流口,152-第一外接低高位溢流口,200-第二槽体,251-第二外接高位溢流口,252-第二外接低高位溢流口,300-溢流管。
具体实施方式
为了使本实用新型所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
由此,本说明书中所指出的一个特征将用于说明本实用新型的一个实施方式的其中一个特征,而不是暗示本实用新型的每个实施方式必须具有所说明的特征。此外,应当注意的是本说明书描述了许多特征。尽管某些特征可以组合在一起以示出可能的系统设计,但是这些特征也可用于其他的未明确说明的组合。由此,除非另有说明,所说明的组合并非旨在限制。
首先,对于清洗槽设备、槽体与槽室的关系解释如下:
每个清洗槽设备至少包括一个槽体,它可以是单槽体结构,也可以由两个以上的独立的槽体组合构成。槽体至少包含一个槽室,也可以间隔为多间槽室。槽体上或者槽体旁边会安装用于清洗工件的各种清洗组件、温控组件。
下面结合附图及实施例对本实用新型的原理进行详细说明。
实施例1
附图1-6给出了第一种实施例。本实施例中,清洗槽槽体结构包括第一槽体100,第一槽体100包括相邻设置的第一槽室110和第二槽室120,第一槽室110和第二槽室120之间通过分隔组件1间隔;
分隔组件1不仅用于间隔第一槽室110和第二槽室120,分隔组件1还设有连通第一槽室110和第二槽室120的溢流通道。
分隔组件1的一侧开设有高位溢流口11,相对的另一侧开设有低位溢流口12,分隔组件1内部设有空腔13,且高位溢流口11和低位溢流口12通过空腔连通;
高位溢流口11相对低位溢流口12具有高度差,高位溢流口11相对位置更高,因此高位溢流口11位于溢流上游的槽室一侧,低位溢流口12位于溢流下游槽室的一侧,
此外,第二隔板15顶端的高度高于第一隔板14顶端的高度,即低位溢流口一侧的隔板高度,要高于高位溢流口一侧的隔板高度,以避免溶液不通过空腔13直接进入到第二槽室120。为了提高第二隔板15的强度,避免水流长时间的冲刷引起隔板变形,在第二隔板15顶部向第一隔板一侧弯折形成弯折部17,所述弯折部17是将板多次弯折,形成一个回型结构。
本实施例的溢流方向是从第一槽室110流向第二槽室120,因此高位溢流口11位于第一槽室110一侧,低位溢流口12位于第二槽室120一侧。
当第一槽室110的液面高度超过高位溢流口11时,溶液从第一槽室110流向第二槽室120。
本实施例中,分隔组件1包括间隔设置的第一隔板14和第二隔板15,空腔13位于第一隔板14和第二隔板15之间,第一隔板14和第二隔板15的侧边和底部分别设置与槽体100的侧壁和底部固定连接,例如采用焊接的方式,将槽体100分隔成第一槽室110和第二槽室120,两个槽室均可容纳待清洗件或者是可容纳装载有待清洗件的载具;
高位溢流口11开设于第一隔板14上,低位溢流口12开设于第二隔板15上,其中第一隔板14位于第一槽室110一侧,第二隔板15位于第二槽室120一侧;
第一隔板14和第二隔板15之间通过连接板16固定连接,连接板16上开设有用于通过溶液的通孔161。连接板的16起到加固的作用,防止槽内长时间内水流冲刷造成分隔板的变形。
本实施例中,连接板16通过设在第一隔板14和第二隔板15之间的滑槽横向活动安装,或者连接板16采用焊接的方式固定在第一隔板14和第二隔板15之间,板体竖向开设有多个用于通过溶液的通孔161;通孔161的孔径可以根据清洗环境进行设置,可以起到过滤清洗液中的杂质的作用。
或者是在连接板16上设置孔径更小的过滤网板,过滤网板覆盖通孔161,溶液通过过滤网板、再通过通孔161,过滤网板可以有多种安装方式,例如一种是设置在连接板上,通过螺钉锁紧的方式固定在连接,一种为将过滤网板设置有的两侧侧面成楔形,过滤网板卡设在第一隔板和第二隔板之间,位于连接板上方。
第一隔板14和第二隔板15之间也可以设置纵向的连接板进行进一步加固。
本实施例中,高位溢流口11呈长条形横向延伸,具体地,在第一隔板14远离槽体100的一端开设有波纹状的结构,第一槽体110内的溢流口通过波纹状溢流口溢流至空腔13内,溶液溢出时不会集中于某处,液面超过高位溢流口11时溶液会快速溢流;
高位溢流口11的底边呈波纹状,溶液溢出时会沿高位溢流口11底边均匀分布,而不是集中在某一段;
同时,第二隔板15上开设有多个圆孔状的低位溢流口12,多个低位溢流口12在同一高度呈直线排列,这使得溢流的水流非常均匀的呈瀑布状铺开,溢流过程液面非常平静。
本实施例中,每个槽室的底部各自设有排废口2,当某个槽室的溶液已经不适于再次使用时,则通过设在该槽室底部的排废口2将溶液排放出去;
各槽室的底部设有引流斜面,排废口2位于槽室底面的最低点,废液以及沉落于槽底的废渣可以通过引流斜面方便的进入排废口2。
第一槽体100设有前部设有安装板140,分隔组件1竖向安装于第一槽体100内,分隔组件1的前侧边固定安装在前安装板140后部;
前安装板140构成了各槽室的前壁板,前安装板140对应每一个槽室的位置分别设置有溶液注入口3,可以向槽室单独注入溶液以改变槽室内溶液的浓度或洁净度。
本实施例主要通过超声波振板振动溶液对工件进行清洗,槽体结构中预留有超声波振板的安装孔4;
由于有些清洗工序需要控制溶液的温度,每个槽室内还设有温控装置的安装孔5。
实施例2
为了进一步多次复用溶液,本实施例在实施例1的基础上增加了第三槽室130。
如附图7所示,第一槽体100并排设有有第一槽室110、第二槽室120和第三槽室130,其中第二槽室120顺序排列于第一槽室110和第三槽室130之间。
第一槽室110和第二槽室120之间通过一个分隔组件1间隔,
第二槽室120和第三槽室130之间通过另一个分隔组件1间隔,位于不同分隔组件1上的高位溢流口11之间具有高度差。
本实施例的溢流方向为从第一槽室110流向第三槽室130,因此第一槽室110一侧分隔组件的高位溢流口底边高度,高于第三槽室130一侧分隔组件的高位溢流口底边高度。
如果溢流方向为从第三槽室130流向第一槽室110,则第三槽室130一侧分隔组件的高位溢流口底边高度,高于第一槽室110一侧分隔组件的高位溢流口底边高度。
上述方案还可以并排设置更多槽室,相邻槽室之间均通过分隔组件1间隔;
当设有更多槽室和分隔组件时,分隔组件高位溢流口底边高度沿溢流方向依次递减。
实施例3
本实施例给出了溶液在不同槽体之间的溶液复用的技术方案。
如附图8所示,本实施例包括第一槽体100和第二槽体200,第一槽体100内分隔设置有第一槽室110和第二槽室120。
第一槽体100中,第二槽室120的侧壁上开设有用于向其它槽体引出溢流的第一外接高位溢流口151,第一槽室110的侧壁上开设有用于引入其它槽体溢流的第一外接低位溢流口152;
第二槽体200的侧壁上开设有第二外接高位溢流口251和第二外接低位溢流口252;
第一外接高位溢流口151和第二外接低位溢流口252之间通过连接管300连接,实现第一槽体100和第二槽体200之间的溢流。
所述第二槽体200与所述第一槽体100最末位的槽室通过连接管300连通,其中第一外接高位溢流口151是设置在第二槽室120侧壁上,优选地,如图1所示,在第二槽室120靠近槽体侧壁上设置的分隔组件1中,第一外接高位溢流口151可以与空腔13连接,即第一外接高位溢流口151设置在围设成空腔13的槽体侧壁上,第一槽室110内的溶液通过第一分隔组件溢流至第二槽室120,第二槽室120内的溶液通过另一个分隔组件(即图1中靠近槽体侧壁设置的分隔组件)中的第一隔板14溢流至空腔13内,在通过连接管300流至第二槽体200内。
本实用新型还公开了清洗设备,具有上述任一实施例所记载的清洗槽槽体结构。
清洗设备还包括搬运装置,用于在各个槽室之间搬运含有待清洗件的载具,所述待清洗件可以为硅片。具体地,清洗设备包括多个上述任一实施例中所记载的清洗槽结构,一种情况是:清洗槽结构用于盛放水溶液,可以理解为水洗槽,清洗设备处理水洗槽,还包括药液槽,用于放置药溶液,清洗槽与药液槽可间隔设置,也可以连续设置几处清洗槽后设置药液槽再设置清洗槽,及清洗槽和药液槽之间可以相互组合,设置排布方式,优选地,清洗槽和药液槽相互组合后,并排设置,便于搬运装置在不同的槽间搬移含有待清洗件的载具,需要说明的是,多个清洗槽若中间设置有药液槽,则清洗槽之间的水溶液复用的方式是通过设置连接管实现的,另外,搬运装置搬移待清洗件的载具的运行方向,与各清洗槽内槽式溢流方向相反,以是待清洗件进入下一个槽体,相比与上一个槽体的水溶液更洁净。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.清洗槽槽体结构,包括第一槽体(100),其特征在于,所述第一槽体(100)包括相邻设置的第一槽室(110)和第二槽室(120),所述第一槽室(110)和第二槽室(120)之间通过分隔组件(1)间隔;
所述分隔组件(1)的一侧开设有高位溢流口(11),相对的另一侧开设有低位溢流口(12),所述分隔组件(1)内部设有空腔(13),且所述高位溢流口(11)和低位溢流口(12)通过所述空腔(13)连通;
所述高位溢流口(11)的位置高于所述低位溢流口(12)的位置,且所述空腔(13)内设有过滤装置。
2.如权利要求1所述的清洗槽槽体结构,其特征在于,所述分隔组件(1)包括间隔设置的第一隔板(14)和第二隔板(15),所述空腔(13)位于所述第一隔板(14)和第二隔板(15)之间;
所述高位溢流口(11)开设于所述第一隔板(14)上,所述低位溢流口(12)开设于所述第二隔板(15)上;
所述第一隔板(14)和第二隔板(15)之间通过连接板(16)固定连接,所述连接板(16)上开设有用于通过溶液的通孔(161)。
3.如权利要求2所述的清洗槽槽体结构,其特征在于,所述过滤装置由所述连接板(16)构成,所述连接板(16)横向设置,且开设有多个通孔(161),所述多个通孔(161)还用于过滤清洗液中的杂质;或,所述过滤装置为过滤网板,所述过滤网板覆盖所述通孔(161)。
4.如权利要求2所述的清洗槽槽体结构,其特征在于,所述高位溢流口(11)呈长条形横向延伸,且所述高位溢流口(11)的底边呈波纹状;所述第二隔板(15)设置高度高于所述高位溢流口,且远离设置所述低位溢流口(12)的另一端设置有弯折部。
5.如权利要求1所述的清洗槽槽体结构,其特征在于,所述第一槽体(100)设置有多个槽室,所述多个槽室包括顺序排列的第一槽室(110)、第二槽室(120)和第三槽室(130);
所述第二槽室(120)和第三槽室(130)之间通过另一个所述分隔组件(1)间隔。
6.如权利要求5所述的清洗槽槽体结构,其特征在于,位于不同分隔组件(1)上的高位溢流口(11)之间具有高度差。
7.如权利要求1或5所述的清洗槽槽体结构,其特征在于,还包括第二槽体(200);
所述第二槽体(200)与所述第一槽体(100)最末位的槽室通过连接管(300)连通。
8.如权利要求1所述的清洗槽槽体结构,其特征在于,每个槽室的底部各自设有排废口(2)。
9.如权利要求8所述的清洗槽槽体结构,其特征在于,各槽室的底部设有引流斜面,所述排废口(2)位于槽室底面的最低点。
10.清洗设备,其特征在于,包括权利要求1-9任意一项所述的清洗槽槽体结构。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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