CN215493840U - 一种耦合器横向场分布测量装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种耦合器横向场分布测量装置，包括步进或伺服电机、支撑架、连接杆、不同尺寸轴向微扰体座杆、微扰体、V型块、网络分析仪和计算机，其中所述座杆一端与连接杆连接，另一端末端在径向方向分布不同半径的孔座，用于放置微扰体；将电机固定在支撑架上，通过连接杆将轴向微扰体座杆与电机旋转轴连接，微扰体安装在轴向微扰体座杆末端；将待测量耦合器放置V型块上，由计算机控制所述电机带动微扰体在所述耦合器内部不同径向位置沿角向方向运动，同时控制网络分析仪测量微波参数。该实用新型测量装置结构紧凑，简单实用，功能齐全，测量精度高。
Description
技术领域
本实用新型涉及加速器领域，尤其涉及一种耦合器横向场分布测量装置。
背景技术
耦合器横向场分布的对称性对高品质电子源的束流品质影响较大。特别是在自由电子激光等，对束流品质要求极高的装置，其行波、驻波加速结构以及光阴极微波电子枪等耦合器中，尤其重要。目前纵向场分布测量较为成熟，但是对横向场对称性测量几乎没有。
实用新型内容
针对现有技术的不足，本实用新型提供一种耦合器横向场分布测量装置，解决了耦合器横向场分布测量的问题。
为了实现上述目的，本实用新型解决其技术问题所采取的技术方案是：
一种耦合器横向场分布测量装置，包括步进或伺服电机1、支撑架2、连接杆3、不同尺寸轴向微扰体座杆4、微扰体、V型块6、网络分析仪和计算机，其中所述座杆4一端与连接杆3连接，另一端末端在径向方向分布不同半径的孔座，用于放置微扰体。将步进或伺服电机1固定在支撑架2上，通过连接杆3将轴向微扰体座杆4与电机旋转轴连接，微扰体安装在轴向微扰体座杆末端。将待测量耦合器5放置V型块6上，由计算机控制所述步进或伺服电机1带动微扰体在所述测量耦合器5内部不同径向位置沿角向方向运动，同时控制网络分析仪测量微波参数。
同一座杆，根据其径向不同半径孔座，可实现耦合器中不同半径位置的横向场分布测量。不同长度的座杆，可实现耦合器中纵向不同位置的横向场分布测量。不同粗细的座杆，配合不同大小微扰体，可实现不同工作频率耦合器的横向场分布测量。
所述微扰体放置在轴向微扰体座杆4末端的孔座，孔座放置在待测耦合器5内部待测量纵向位置。
所述计算机控制步进或伺服电机1旋转运动，带动轴向微扰体座杆4末端的微扰体转动，即在纵向测量位置沿角向运动，同时控制网络分析仪测量微波参数，即可实现耦合器横向场分布测量。
优点和积极效果：
本实用新型的有益效果：该实用新型测量装置结构紧凑，简单实用，功能齐全，测量精度高。该装置结构简单紧凑，仅用一台电机控制微扰体在横向方向沿角向运动。采用不同长度、粗细的轴向微扰体座杆及径向分布的孔座，可实现不同径向位置、纵向位置以及工作频率的横向场分布的测量。同时，在测量过程中，将微扰体固定在座杆末端，通过机械结构加工精度，保证微扰体运动精度，降低运动误差对测量结果的影响。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
其中：1为步进或伺服电机、2为支撑架、3为连接杆、4为轴向微扰体座杆、5为待测耦合器、6为V型块。
具体实施方式
下面结合附图说明对本实用新型进一步详细说明：
如图1所示：一种耦合器横向场分布测量装置，包括步进或伺服电机1、支撑架2、连接杆3、轴向微扰体座杆4、待测耦合器5、V型块6，还包括微扰体、计算机及网络分析仪。其中所述轴向微扰体座杆4一端与连接杆3连接，另一端末端在径向方向分布不同半径的孔座，用于放置微扰体。将步进或伺服电机1固定在支撑架2上，通过连接杆3将轴向微扰体座杆4与电机旋转轴连接，微扰体安装在轴向微扰体座杆末端。将待测量耦合器5放置V型块6上，由计算机控制所述步进或伺服电机1带动微扰体在所述待测耦合器5内部不同径向位置沿角向方向运动，同时控制网络分析仪测量微波参数。
同一座杆，根据其径向不同半径孔座，可实现耦合器中不同半径位置的横向场分布测量。不同长度的座杆，可实现耦合器中纵向不同位置的横向场分布测量。不同粗细的座杆，配合不同大小微扰体，可实现不同工作频率耦合器的横向场分布测量。
所述支撑架2是支撑和固定步进或伺服电机1与轴向微扰体座杆4的连接。
所述微扰体放置在轴向微扰体座杆4末端的孔座，孔座放置在待测耦合器5内部待测量纵向位置。
所述待测量耦合器5放置在V型块6上。
所述计算机控制步进或伺服电机1旋转运动，带动轴向微扰体座杆4末端的微扰体转动，即在纵向测量位置沿角向运动，同时控制网络分析仪测量微波参数，即可实现耦合器横向场分布测量。
综上所述，本实用新型提供了一种耦合器横向场分布测量装置，用于测量耦合器横向场的分布。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征以及优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都要落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界。
Claims (2)
1.一种耦合器横向场分布测量装置，其特征在于，包括步进或伺服电机(1)、支撑架(2)、连接杆(3)、不同尺寸轴向微扰体座杆(4)、微扰体、V型块(6)、网络分析仪和计算机，其中所述微扰体座杆(4)一端与连接杆(3)连接，另一端末端在径向方向分布不同半径的孔座，用于放置微扰体；将步进或伺服电机(1)固定在支撑架(2)上，通过连接杆(3)将轴向微扰体座杆(4)与步进或伺服电机(1)旋转轴连接，微扰体安装在轴向微扰体座杆(4)末端；将待测量耦合器(5)放置V型块(6)上，由计算机控制所述电机(1)带动微扰体在所述测量耦合器(5)内部不同径向位置沿角向方向运动，同时控制网络分析仪测量微波参数。
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述微扰体放置在轴向微扰体座杆(4)末端的孔座，孔座放置在待测耦合器(5)内部待测量纵向位置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202121090721.8U CN215493840U (zh) | 2021-05-20 | 2021-05-20 | 一种耦合器横向场分布测量装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| CN202121090721.8U CN215493840U (zh) | 2021-05-20 | 2021-05-20 | 一种耦合器横向场分布测量装置 |
Publications (1)
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| CN215493840U true CN215493840U (zh) | 2022-01-11 |
Family
ID=79779213
Family Applications (1)
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| CN202121090721.8U Active CN215493840U (zh) | 2021-05-20 | 2021-05-20 | 一种耦合器横向场分布测量装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN215493840U (zh) |
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2021
- 2021-05-20 CN CN202121090721.8U patent/CN215493840U/zh active Active
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