CN215457502U

CN215457502U - 一种足浴盆

Info

Publication number: CN215457502U
Application number: CN202120804273.7U
Authority: CN
Inventors: 刘坤; 陆康松
Original assignee: Foshan Ivy Health Technology Co ltd
Current assignee: Foshan Ivy Health Technology Co ltd
Priority date: 2021-04-19
Filing date: 2021-04-19
Publication date: 2022-01-11
Anticipated expiration: 2031-04-19

Abstract

本实用新型涉及一种足浴盆，包括盆体和底座；所述底座设置在所述盆体的底面上；所述盆体的底面与所述底座之间夹持形成容纳腔体；在所述容纳腔体内设置有加热装置、用于将加热装置内的热水抽至容纳腔体内的泵体；在所述盆体的底面上开设有进水口和出水口；所述进水口与所述加热装置相连通；所述泵体的输入端与所述加热装置相连通；所述盆体的内部与容纳腔体通过出水口相连通。盆体内的水会从进水口进入到加热装置内进行加热，并且通过泵体将加热装置加热后的水输送至容纳腔体内，然后泵体输出的水从容纳腔体经出水口进入盆体的内部，并且通过泵体的持续供水，使盆体和容纳腔体的水形成一定向循环，保证了盆体内的水的热量的均匀性。

Description

一种足浴盆

技术领域

本实用新型涉及洗浴工具技术领域，更具体地说，它涉及一种足浴盆。

背景技术

足浴盆指用于足部冲洗按摩的容器，足部是人体经络汇聚地方之一，人体内各器官在脚部有特定的反射区，反射区是神经的聚焦点，每一点都和身体某器官有关连，运用机械物理方法刺激这些反射区，使得反射区和身体相关器官的血液循环加快，调整身体平衡状态，舒缓全身紧张，达到防病的效果，有自我保健和延年益寿之功效。随着生活水平的提高，足浴盆已经是目前市场上十分流行的一种养生保健方式。

现有足浴盆发热器管道过流式加热方式，水只从中间通道通过，带走部分热量，热效率低，加热速度慢。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种足浴盆。

本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种足浴盆，包括盆体和底座；所述底座设置在所述盆体的底面上；所述盆体的底面与所述底座之间夹持形成容纳腔体；在所述容纳腔体内设置有加热装置、用于将加热装置内的热水抽至容纳腔体内的泵体；在所述盆体的底面上开设有进水口和出水口；所述进水口与所述加热装置相连通；所述泵体的输入端与所述加热装置相连通；所述盆体的内部与容纳腔体通过出水口相连通。

可选的，还包括过滤网；所述过滤网可拆卸设置在所述进水口上。

可选的，所述加热装置包括密封壳和发热管；所述密封壳的边缘与所述进水口的边缘相对接；所述发热管设置在所述密封壳内；在所述密封壳上开设有第一通孔；所述泵体的输入端与所述第一通孔相连通。

可选的，所述出水口包括第一子出水口和第二子出水口；在所述足浴盆的底面上开设有第一足部按摩组件和第二足部按摩组件；在第一足部按摩组件上开设有第一开口；所述第一子出水口与所述第一开口相连通；在所述第二足部按摩组件上开设有第二开口；所述第二子出水口与所述第二开口相连通。

可选的，所述加热装置还包括温度控制器和超温保护器；所述超温保护器的输出端和发热管均与所述温度控制器电连接。

可选的，在所述底座的底部设置有滑轮组件。

可选的，所述第一足部按摩组件包括第一面壳和第一滚轴；在所述第一面壳上设置有均匀排列且与脚掌形状相适配的若干个第一凸点；在所述第一面壳上开设有第一凹槽；所述第一滚轴转动设置在所述第一凹槽内。

可选的，所述第二足部按摩组件包括第二面壳和第二滚轴；在所述第二面壳上设置有均匀排列且与脚掌形状相适配的若干个第二凸点；在所述第二面壳上开设有第二凹槽；所述第二滚轴转动设置在所述第二凹槽内。

综上所述，本实用新型具有以下有益效果：盆体内的水会从进水口进入到加热装置内进行加热，并且通过泵体将加热装置加热后的水输送至容纳腔体内，然后泵体输出的水从容纳腔体经出水口进入盆体的内部，并且通过泵体的持续供水，使盆体和容纳腔体的水形成一定向循环，保证了盆体内的水的热量的均匀性。

附图说明

图1是一个实施例中足浴盆的装配示意图；

图2是图1中A的放大示意图；

图3是一个实施例中盆体和底座的连接关系示意图；

图4是图3中B的放大示意图。

图中：1、盆体；11、进水口；12、第一子出水口；13、第二子出水口；2、底座；3、加热装置；31、密封壳；32、发热管；4、泵体；5、过滤网；6、第一足部按摩组件；61、第一面壳；62、第一滚轴；7、第二足部按摩组件；71、第二面壳；72、第二滚轴；8、超温保护器。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。附图中给出了本实用新型的若干实施例。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”、“上”、“下”以及类似的表述只是为了说明的目的，而不是指示或暗示所指装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

下面结合附图和实施例，对本实用新型进行详细描述。

请参阅图1～图4，本实用新型提供了一种足浴盆，其包括盆体1和底座2。所述底座2设置在所述盆体1的底面上，所述盆体1的底面与所述底座2之间夹持形成容纳腔体。在所述容纳腔体内设置有加热装置3、用于将加热装置3内的热水抽至容纳腔体内的泵体4。在所述盆体1的底面上开设有进水口11和出水口，所述进水口11与所述加热装置3相连通，所述泵体4的输入端与所述加热装置3相连通，所述盆体1的内部与容纳腔体通过出水口相连通。其中，盆体1的内部则是用于泡脚，而受到盆体1的底面的限制，使用户的脚部无法进入容纳腔体内。并且盆体1内的水会从进水口11进入到加热装置3内进行加热，并且通过泵体4将加热装置3加热后的水输送至容纳腔体内，然后泵体4输出的水从容纳腔体经出水口进入盆体1的内部，并且通过泵体4的持续供水，使盆体1和容纳腔体的水形成一定向循环，保证了盆体1内的水的热量的均匀性。

具体地，进水口11会设置的较小，以避免用户的脚部伸入进水口11，与加热装置3发生接触，造成用户的脚部烫伤。

在本实施例中，参见图1，本申请还包括过滤网5，所述过滤网5可拆卸设置在所述进水口11上，过滤网5防止用户的脚部与加热装置3接触。

在一可选的加热装置3的实施例中，参见图4，加热装置3包括密封壳31和发热管32，所述密封壳31的边缘与所述进水口11的边缘相对接。所述发热管32设置在所述密封壳31内，在所述密封壳31上开设有第一通孔，所述泵体4的输入端与所述第一通孔相连通。也即是密封壳31内的水必须经泵体4抽出才能进入容纳腔体内，也即是均需要经过发热管32，以此保证热量的均匀性。

在本实施例中，发热管32会采用管状发热体，也使接触面积更大，加热更加均匀。

进一步地设置，参见图4，所述加热装置3还包括温度控制器和超温保护器8，所述超温保护器8的输出端和发热管32均与所述温度控制器电连接。温度控制器控制发热管32的发热量，而超温保护器8则感应发热管32的温度，当发热管32超过预设温度后，超温保护器8断开外部插头和发热丝之间的通电，达到保护加热装置3和防止用户烫伤的效果。

在一可选的实施例中，参见图2和图4，出水口包括第一子出水口12和第二子出水口13。在所述足浴盆的底面上开设有第一足部按摩组件6和第二足部按摩组件7，在第一足部按摩组件6上开设有第一开口，所述第一子出水口12与所述第一开口相连通。在所述第二足部按摩组件7上开设有第二开口，所述第二子出水口13与所述第二开口相连通。而第一足部按摩组件6和第二足部按摩组件7分别对应左脚和右脚，并且将第一按摩组件上的第一开口与第一子出水口12相对接连通，使从容纳腔体带有负压的水从第一开口进入盆体1时先接触人体的脚部，以更好的帮助用户放松脚部。同理，将第二按摩组件上的第二开口与第二子出水口13相对接连通，使从容纳腔体带有负压的水从第二开口进入盆体1时先接触人体的脚部，以更好的帮助用户放松脚部。

进一步地设置，参见图1和图2，所述第一足部按摩组件6包括第一面壳61和第一滚轴62。在所述第一面壳61上设置有均匀排列且与脚掌形状相适配的若干个第一凸点，在所述第一面壳61上开设有第一凹槽，所述第一滚轴62转动设置在所述第一凹槽内。第一面壳61的形状与左脚的形状相适配。通过第一凸点和第一滚轴62的设置，使本申请的足浴盆能够更好的接触脚部的穴位，以达到按摩的效果。

进一步地设置，参见图1和图2，所述第二足部按摩组件7包括第二面壳71和第二滚轴72。在所述第二面壳71上设置有均匀排列且与脚掌形状相适配的若干个第二凸点，在所述第二面壳71上开设有第二凹槽，所述第二滚轴72转动设置在所述第二凹槽内。第二面壳71的形状与右脚的形状相适配。通过第二凸点和第二滚轴72的设置，使本申请的足浴盆能够更好的接触脚部的穴位，以达到按摩的效果。

在本实施例中，为了让第一子出水口12和第二子出水口13的出水更加均匀，本申请会在本体外部加设一个具有三个开口的盒体，其中一开口便于泵体4的输入端与第一通孔相连通。而另外两个开口对称设置在盒体上，并且分别对向第一子出水口12和第二子出水口13，以使第一子出水口12和第二子出水口13的出水量一致。

为了让本申请足浴盆更加便捷，本申请在所述底座2的底部设置有滑轮组件。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

Claims

1.一种足浴盆，其特征在于，包括盆体和底座；所述底座设置在所述盆体的底面上；所述盆体的底面与所述底座之间夹持形成容纳腔体；在所述容纳腔体内设置有加热装置、用于将加热装置内的热水抽至容纳腔体内的泵体；在所述盆体的底面上开设有进水口和出水口；所述进水口与所述加热装置相连通；所述泵体的输入端与所述加热装置相连通；所述盆体的内部与容纳腔体通过出水口相连通。

2.根据权利要求1所述的足浴盆，其特征在于，还包括过滤网；所述过滤网可拆卸设置在所述进水口上。

3.根据权利要求1所述的足浴盆，其特征在于，所述加热装置包括密封壳和发热管；所述密封壳的边缘与所述进水口的边缘相对接；所述发热管设置在所述密封壳内；在所述密封壳上开设有第一通孔；所述泵体的输入端与所述第一通孔相连通。

4.根据权利要求3所述的足浴盆，其特征在于，所述出水口包括第一子出水口和第二子出水口；在所述足浴盆的底面上设置有第一足部按摩组件和第二足部按摩组件；在第一足部按摩组件上开设有第一开口；所述第一子出水口与所述第一开口相连通；在所述第二足部按摩组件上开设有第二开口；所述第二子出水口与所述第二开口相连通。

5.根据权利要求3所述的足浴盆，其特征在于，所述加热装置还包括温度控制器和超温保护器；所述超温保护器的输出端和发热管均与所述温度控制器电连接。

6.根据权利要求3所述的足浴盆，其特征在于，在所述底座的底部设置有滑轮组件。

7.根据权利要求4所述的足浴盆，其特征在于，所述第一足部按摩组件包括第一面壳和第一滚轴；在所述第一面壳上设置有均匀排列且与脚掌形状相适配的若干个第一凸点；在所述第一面壳上开设有第一凹槽；所述第一滚轴转动设置在所述第一凹槽内。

8.根据权利要求4所述的足浴盆，其特征在于，所述第二足部按摩组件包括第二面壳和第二滚轴；在所述第二面壳上设置有均匀排列且与脚掌形状相适配的若干个第二凸点；在所述第二面壳上开设有第二凹槽；所述第二滚轴转动设置在所述第二凹槽内。