CN215251131U - 一种真空离子镀膜设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种真空离子镀膜设备,包括真空腔体,真空腔体内包括电机、转盘、旋转立柱、支架和转轴,支架包括上支架和下支架,上支架倾斜向上,上支架上均匀设置有矩形凸起,下支架水平设置在旋转立柱上,下支架上沿竖直向下均匀设置有弧形凸起,旋转立柱内沿竖直方向开有滑槽和卡槽,卡槽设置在滑槽的外部,滑槽内设置有滑块,卡槽内设置卡块,滑块通过外侧的轴穿过卡块与下支架连接;本实用新型真空离子镀膜设备采用上下支架进行竖直方向上的拉伸卡接,能够将矩形电镀件的两端完全进行固定卡接,不用担心矩形电镀件存在自由端互相进行干涉,进而在提高电镀件数量的同时,不会产生电镀件的互相碰撞。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空离子镀膜装置领域,特别是涉及一种真空离子镀膜设备。
背景技术
真空镀膜机的种类多种多样,因为其采用的镀膜原理各不相同,包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积等,主要思路是分成蒸发和溅射两种,所以只能根据不同的产品特性选择不同类型的镀膜机,而且为了提高一些产品表面的光滑度和硬度,使其具有金属光泽,装饰性好的优点,那么常常通过真空镀膜的方式可以使硬度及耐磨性大大增加,提高耐候性,在目前的市场上应用广泛,具有十分重要的意义。
现有的立式真空镀膜装置中,可在转盘上吊装电镀件,通过让转盘转动,提高金属管电镀的效果,而带孔的矩形电镀件则一般用铁钩挂住电镀件的一端,而矩形电镀件的另一端则为自由端,会在转盘的带动下晃动,没办法进行固定,一旦电镀件数量多则会互相干涉。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种真空离子镀膜设备,以解决上述现有技术存在的问题,使得带孔的矩形电镀件能够有效固定在镀膜腔体内,电镀件在转动镀膜过程中不会互相干涉。
为实现上述目的,本实用新型提供了如下方案:
本实用新型提供一种真空离子镀膜设备,包括真空腔体,所述真空腔体内包括电机、转盘、旋转立柱、支架和转轴,所述电机设置在所述真空腔体的底部,所述电机上部设置有转盘,所述转轴设置在所述真空腔体的顶部,所述转轴下方设置有转盘,所述电机的主轴与所述转轴设置在同一直线上,所述转盘之间设置有多个旋转立柱,所述旋转立柱上设置有多组支架;
所述支架包括上支架和下支架,所述上支架倾斜向上,所述上支架上均匀设置有矩形凸起,所述下支架水平设置在所述旋转立柱上,所述下支架上沿竖直向下均匀设置有弧形凸起,所述旋转立柱内沿竖直方向开有滑槽和卡槽,所述卡槽设置在所述滑槽的外部,所述滑槽内设置有滑块,所述卡槽内设置卡块,所述滑块通过外侧的轴穿过所述卡块与所述下支架连接。
优选的,所述矩形凸起沿水平方向设置在所述上支架上;
优选的,所述矩形凸起沿竖直方向设置在所述上支架上;
优选的,所述所述卡块为矩形卡块,所述卡块的长度与所述卡槽的宽度相等,所述卡块的两端还设置有弧形橡胶块;
优选的,所述卡块与所述下支架之间还设置有旋钮,所述卡块的两侧还设置有卡孔,所述旋钮上设置有与所述卡块配合的凸起,所述旋钮通过凸起与所述卡块贴合连接;
优选的,所述旋转立柱的四周设置有多组所述滑槽和卡槽;
优选的,所述卡槽的宽度小于所述滑槽的宽度,所述卡槽与所述滑槽连通设置;
优选的,所述上支架的外端与所述下支架的外端距离所述旋转立柱的距离相同;
优选的,所述下支架能够在相邻的所述上支架之间滑动。
本实用新型相对于现有技术取得了以下技术效果:
1、本实用新型真空离子镀膜设备采用上下支架进行竖直方向上的拉伸卡接,能够将矩形电镀件的两端完全进行固定卡接,不用担心矩形电镀件存在自由端互相进行干涉,进而在提高电镀件数量的同时,不会产生电镀件的互相碰撞。
2、本实用新型真空离子镀膜设备采用多组支架在旋转立柱上设置,使得下支架在竖直相邻的上支架之间滑动和固定,不仅能够与上方的上支架配合,还能够与下方的下支架配合,实现多种卡接形式,而且均为两端卡夹,固定方式稳定,用途广泛。
3、本实用新型真空离子镀膜设备的下支架采用滑槽和卡槽同体设计,无需在外额外安装固定装置,通过下支架端部的旋钮就能够实现下支架的固定和滑动,操作简单,节省空间。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型真空离子镀膜设备的结构示意图;
图2为本实用新型真空离子镀膜设备的旋转立柱的轴向剖视图;
图3为本实用新型真空离子镀膜设备的卡块剖视图;
图4为本实用新型真空离子镀膜设备的旋转立柱的径向剖视图;
其中,1-真空腔体、2-转盘、3-电机、4-转轴、5-旋转立柱、51-滑槽、52-卡槽、6-上支架、7-下支架、8-滑块、9-卡块、91-弧形橡胶块、92-卡孔、10-旋钮。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型的目的是提供一种真空离子镀膜设备,以解决上述现有技术存在的问题,使得带孔的矩形电镀件能够有效固定在镀膜腔体内,电镀件在转动镀膜过程中不会互相干涉。
为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
实施例一
如图1-4所示,本实施例提供一种真空离子镀膜设备,包括真空腔体1,真空腔体1内包括电机3、转盘2、旋转立柱5、支架和转轴4,电机3设置在真空腔体1的底部,电机3上部设置有转盘2,转轴4设置在真空腔体1的顶部,转轴4下方设置有转盘2,电机3的主轴与转轴4设置在同一直线上,转盘2之间设置有多个旋转立柱5,旋转立柱5上设置有多组支架;通过电机3带动电机3与转轴4之间的转盘2转动,转盘2带动旋转立柱5转动,旋转立柱5的支架用来固定矩形电镀件。
如图1和4所示,本实施例的旋转立柱5设置有4个,每一个旋转立柱5在同一位置均开有4组滑槽51和卡槽52,这样旋转立柱5能够设置有4个方向的支架,旋转立柱5在竖直方向上能够设置多组支架,这样能够最大效率的利用真空腔体1内的空间;支架包括上支架6和下支架7,上支架6倾斜向上,上支架6上均匀设置有矩形凸起,下支架7水平设置在旋转立柱5上,下支架7上沿竖直向下均匀设置有弧形凸起,上支架6的外端与下支架7的外端距离旋转立柱5的距离相同,下支架7能够在相邻的上支架6之间滑动,这样通过调节下支架7的位置能够实现带孔的矩形电镀件挂在上支架6和下支架7之间,实现矩形电镀件的固定,而且上支架6上设置有多个矩形凸起和下支架7设置有多个弧形凸起,可以使得不同尺寸的带孔矩形电镀件实现灵活装夹。
本实施例的矩形凸起沿竖直方向设置在上支架6上,这样支架能够实现带孔矩形电镀件贯穿上支架6和下支架7,在上支架6和下支架7之间进行上下固定;除此之外矩形凸起还可以沿水平方向设置在上支架6上,这样能够在上支架6的两侧进行水平固定带孔矩形电镀件,实现电镀件更大数量的装夹,由于水平设置的矩形凸起不稳定,所以在特殊形状的电镀件是适用的,例如带有弧形和弯折形状等矩形支架。
如图2和3所示,本实施例的旋转立柱5内沿竖直方向开有滑槽51和卡槽52,卡槽52设置在滑槽51的外部,卡槽52的宽度小于滑槽51的宽度,卡槽52与滑槽51连通设置,滑槽51内设置有滑块8,卡槽52内设置卡块9,滑块8通过外侧的轴穿过卡块9与下支架7连接,所述卡块9与所述下支架7之间还设置有旋钮10,卡块9的两侧还设置有卡孔92,旋钮10上设置有与卡块9配合的凸起,旋钮10通过凸起与卡块9贴合连接;这样卡槽52内的卡块9能够通过旋钮10在轴上进行旋转卡夹,由于卡块9为矩形卡块9,卡块9的长度与卡槽52的宽度相等,卡块9的两端还设置有弧形橡胶块91,卡块9两端的弧形橡胶块91能够在卡块9转动时卡在卡槽52两端,实现下支架7在旋转立柱5上的固定。
本实施例中下支架7由于能够在相邻的两个上支架6之间滑动和固定,所以下支架7既能够和上方的上支架6进行上下拉伸卡接电镀件,还能够与下方的上支架6进行上下重力挤压卡夹电镀件,卡接方式灵活多样,用途更加广泛。
本实用新型中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想;同时,对于本领域的一般技术人员,依据本实用新型的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处。综上所述,本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。
Claims (9)
1.一种真空离子镀膜设备,其特征在于:包括真空腔体,所述真空腔体内包括电机、转盘、旋转立柱、支架和转轴,所述电机设置在所述真空腔体的底部,所述电机上部设置有转盘,所述转轴设置在所述真空腔体的顶部,所述转轴下方设置有转盘,所述电机的主轴与所述转轴设置在同一直线上,所述转盘之间设置有多个旋转立柱,所述旋转立柱上设置有多组支架;
所述支架包括上支架和下支架,所述上支架倾斜向上,所述上支架上均匀设置有矩形凸起,所述下支架水平设置在所述旋转立柱上,所述下支架上沿竖直向下均匀设置有弧形凸起,所述旋转立柱内沿竖直方向开有滑槽和卡槽,所述卡槽设置在所述滑槽的外部,所述滑槽内设置有滑块,所述卡槽内设置卡块,所述滑块通过外侧的轴穿过所述卡块与所述下支架连接。
2.根据权利要求1所述的真空离子镀膜设备,其特征在于:所述矩形凸起沿水平方向设置在所述上支架上。
3.根据权利要求1所述的真空离子镀膜设备,其特征在于:所述矩形凸起沿竖直方向设置在所述上支架上。
4.根据权利要求1或2所述的真空离子镀膜设备,其特征在于:所述所述卡块为矩形卡块,所述卡块的长度与所述卡槽的宽度相等,所述卡块的两端还设置有弧形橡胶块。
5.根据权利要求4所述的真空离子镀膜设备,其特征在于:所述卡块与所述下支架之间还设置有旋钮,所述卡块的两侧还设置有卡孔,所述旋钮上设置有与所述卡块配合的凸起,所述旋钮通过凸起与所述卡块贴合连接。
6.根据权利要求1或5所述的真空离子镀膜设备,其特征在于:所述旋转立柱的四周设置有多组所述滑槽和卡槽。
7.根据权利要求1所述的真空离子镀膜设备,其特征在于:所述卡槽的宽度小于所述滑槽的宽度,所述卡槽与所述滑槽连通设置。
8.根据权利要求1所述的真空离子镀膜设备,其特征在于:所述上支架的外端与所述下支架的外端距离所述旋转立柱的距离相同。
9.根据权利要求1所述的真空离子镀膜设备,其特征在于:所述下支架能够在相邻的所述上支架之间滑动。
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