CN215163082U - 一种pvd靶座布气装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型的目的在于提供一种PVD靶座布气装置，该PVD靶座布气装置采用单层或多层结构设计，有利于反应气体的充分混合，同时通过布气孔位的排布(中间与四周位置进行差异化设计)有效解决气体不均匀的问题，单层或多层结构设计采用错位方式设计布气孔，此方式可避免因长时间溅射导致的气孔堵塞。从而使此布气装置能使气体更加混合充分，有更大面积且更均匀的作用于靶材表面，提升溅射镀膜成膜质量，提高太阳能电池片转化效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及太阳能电池、PVD镀膜装置等技术领域，尤其涉及一种 PVD靶座布气装置。
背景技术
随着新能源的开发，光伏产业作为新能源开发的主力军，其具有持续可再生、不会对环境造成污染等特点，因此太阳能电池技术备受关注，尤其是高效太阳能电池技术。太阳能电池片制作一般由制绒、 PN结制结、PVD溅射减反射膜、丝网印刷等流程组成。当太阳光照射在太阳能电池片上时，会在半导体中形成多个电子-空穴对，电子 -空穴对通过光伏效应形成电子和空穴，而分离出的电子则移动至 N型非晶硅薄膜上，空穴则移动至 P型非晶硅薄膜上，电子和空穴的连续移动经由电池片表面的正电极和背电极进行收集，从而获得电能。
PVD溅射镀膜是制备硅基异质结太阳能电池电极的一个主要工艺环节，电池在进行溅射镀膜时，除了常规的工艺压强、工艺温度及制备功率等因素外，作用于靶材的工艺气体也是直接影响到 PVD溅射成膜质量，如图5和6所示，现有技术的PVD靶座布气装置只有一个设置在两个溅射靶材中间的布气罩5，且布气罩的布气孔只有一排，因此溅射镀导电膜层时，工艺气体无法充分混合并作用于靶材上，同时还会存在长时间溅射导致布气孔堵塞，最终因工艺气体分布不均匀导致晶粒生长不完全影响到电池的电学性能。
实用新型内容
为解决PVD镀膜时工艺气体分布均匀性的问题，本实用新型提供了一种PVD靶座布气装置，其特征在于，所述PVD靶座布气装置包含PVD溅射靶座、由两根旋转套管组成的 PVD溅射靶材、以及两个或多个PVD靶座布气罩套件相互叠层套嵌组成的双层或多层套嵌结构的布气罩；所述PVD靶座布气罩套件表面分布有布气孔位。
优选的，所述 PVD靶座布气罩套件的布气孔位由中间向四周、由稀疏到密集方式布置。
优选的，所述两个或多个 PVD靶座布气罩套件的布气孔错位布局。
优选的，所述 PVD溅射靶座由溅射电源、冷却进出水系统及反应气体接入组成。
优选的，所述 PVD溅射靶材由两根旋转套管组成，套管外围为溅射材料，套管内有磁棒及冷却水。
本实用新型提供的PVD靶座布气装置采用两个或多个PVD靶座布气罩套件相互叠层套嵌形成双层或多层叠层套嵌结构的布气罩，同时PVD靶座布气罩套件的布气孔位由中间向四周、由稀疏到密集方式布置，且两个或多层靶座布气罩套件的布气孔错位布局有利于反应气体的充分混合，既有效解决气体不均匀的问题，又避免因长时间溅射导致的气孔堵塞的问题，从而使得有更大面积且更均匀的气体作用于靶材表面，提升溅射镀膜成膜质量，提高太阳能电池片转化效率。
附图说明
构成本申请的一部分的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：
图1为本实用新型提供的PVD靶座布气装置示意图；
图2为本实用新型实施例提供的PVD靶座布气罩套件3的俯视图；
图3为本实用新型实施例提供的PVD靶座布气罩套件4的俯视图；
图4为本实用新型实施例提供的PVD靶座布气罩套件3、4套嵌后形成的双层嵌套布气罩的俯视图；
图5为现有技术的PVD靶座布气装置示意图；
图6为现有技术的PVD靶座布气罩俯视图；
标号说明：1 PVD溅射靶座， 2 PVD溅射靶材， 3 PVD靶座布气装置套件3， 4 PVD靶座布气装置套件 4， 5现有技术的PVD靶座布气罩。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
如图1-4所示，本实用新型提供了一种PVD靶座布气装置，所述PVD靶座布气装置包含PVD溅射靶座1、由两根旋转套管组成的 PVD溅射靶材2、以及两个PVD靶座布气罩套件相互叠层套嵌组成的双层层套嵌结构的布气罩；所述PVD靶座布气罩套件表面分布有布气孔位。其中，所述 PVD靶座布气罩套件3为布气罩有第一层、所述 PVD靶座布气罩套件4为布气罩的第二层，PVD靶座布气罩套件3和4的布气孔位均由中间向四周、由稀疏到密集方式布置；所述 PVD靶座布气罩套件3和4的布气孔错位布局。所述 PVD溅射靶座由溅射电源、冷却进出水系统及反应气体接入组成。所述 PVD溅射靶材由两根旋转套管组成，套管外围为溅射材料，套管内有磁棒及冷却水。
本实用新型提供的PVD靶座布气装置具体工作原理过程：PVD镀膜时，反应气体通入腔室时先经过PVD靶座布气罩套件3充分混合后，再经PVD靶座布气罩套件4形成更大面积和更均匀的反应气体轰击靶材表面，获得更好的溅射镀膜成膜质量。
本实用新型提供的PVD靶座布气装置采用两个或多个PVD靶座布气罩套件相互叠层套嵌形成双层或多层叠层套嵌结构的布气罩，同时PVD靶座布气罩套件的布气孔位由中间向四周、由稀疏到密集方式布置，且两个或多层靶座布气罩套件的布气孔错位布局有利于反应气体的充分混合，既有效解决气体不均匀的问题，又避免因长时间溅射导致的气孔堵塞的问题，从而使得有更大面积且更均匀的气体作用于靶材表面，提升溅射镀膜成膜质量，提高太阳能电池片转化效率。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种PVD靶座布气装置，其特征在于：包含PVD溅射靶座、由两根旋转套管组成的 PVD溅射靶材、以及两个或多个PVD靶座布气罩套件相互叠层套嵌组成的双层或多层套嵌结构的布气罩；所述PVD靶座布气罩套件表面分布有布气孔位。
2.根据权利要求1所述PVD靶座布气装置，其特征在于：所述 PVD靶座布气罩套件的布气孔位由中间向四周、由稀疏到密集方式布置。
3.根据权利要求1所述PVD靶座布气装置，其特征在于：所述两个或多个 PVD靶座布气罩套件的布气孔错位布局。
4.根据权利要求1所述PVD靶座布气装置，其特征在于：所述 PVD溅射靶座由溅射电源、冷却进出水系统及反应气体接入组成。
5.根据权利要求1所述PVD靶座布气装置，其特征在于：所述 PVD溅射靶材由两根旋转套管组成，套管外围为溅射材料，套管内有磁棒及冷却水。
Priority Applications (1)
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| CN202121273572.9U CN215163082U (zh) | 2021-06-08 | 2021-06-08 | 一种pvd靶座布气装置 |
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| CN202121273572.9U CN215163082U (zh) | 2021-06-08 | 2021-06-08 | 一种pvd靶座布气装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN215163082U true CN215163082U (zh) | 2021-12-14 |
Family
ID=79391924
Family Applications (1)
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| CN202121273572.9U Active CN215163082U (zh) | 2021-06-08 | 2021-06-08 | 一种pvd靶座布气装置 |
Country Status (1)
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| CN (1) | CN215163082U (zh) |
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2021
- 2021-06-08 CN CN202121273572.9U patent/CN215163082U/zh active Active
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