CN214286834U - 一种去离子水设备的反洗机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及去离子水设备领域，公开了一种去离子水设备的反洗机构，其技术方案要点是包括壳体和底座，壳体为圆台形，壳体顶部设置有滤水箱，通过圆台形壳体用于增加水流的流速，通过滤水箱用于放置过滤组件，通过过滤组件用于放置滤料，通过开关阀能够控制过滤进水管、过滤出水管、反洗进水管和排污管的流通，通过高压水泵产生高压水流，通过光轴用于为第一扰流部、第二扰流部和第三扰流部提供固定位置，通过第一扰流部、第二扰流部和第三扰流部能够改变壳体内的流场形成第一扰流场，使得经过第一扰流场改变流场后的高压水流能够充分冲洗过滤组件中的杂质，通过螺旋设置的弧形凸条能够改变壳体内的流场形成第二扰流场。

Description

一种去离子水设备的反洗机构

技术领域

本实用新型涉及去离子水设备领域，更具体的说是涉及一种去离子水设备的反洗机构。

背景技术

去离子水是指除去了呈离子形式杂质后的纯水。从自来水到去离子水一般要经过几步处理：先通过活性炭作为过滤层，过滤自来水，使之净化达标，然后过滤后的自来水高压通过反渗透膜，最后一般还要经过紫外杀菌以去除水中的微生物，假如此时电阻率还没有达到要求的话，可以再进行一次离子交换过程最高电阻率可达到18兆。过滤层经过长时间工作，会导致滤料内存在杂质，从而导致过滤效率降低，因此要去除滤料内的杂质，一般情况下，只是将水对滤料进行反冲，杂质去除效果不佳。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种去离子水设备的反洗机构，能够在反向冲洗滤料的同时，使水流形成流场增加冲洗效率。

为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：

一种去离子水设备的反洗机构，包括壳体和底座，所述壳体底部与所述底座顶部之间固定连接有支撑腿，所述壳体为圆台形，所述壳体顶部设置有滤水箱，且所述滤水箱与所述壳体相互贯通，所述滤水箱内设置有过滤组件，所述过滤组件用以过滤水中的杂质，所述滤水箱侧壁上分别连通有相对设置的排污管和过滤进水管，且所述排污管与所述过滤进水管均位于所述过滤组件上方，所述壳体侧面连通有过滤出水管，所述壳体底部连通有反洗进水管，所述排污管、所述过滤进水管、所述过滤出水管和所述反洗进水管上分别设置有开关阀，所述底座顶面固定连接有高压水泵，所述反洗进水管与所述高压水泵出水口连通；

所述壳体底壁面固定连接有光轴，且所述光轴竖直设置，所述光轴上设置有扰流组件，所述扰流组件用以改变水流的流场，所述扰流组件包括第一扰流部、第二扰流部、和第三扰流部，所述第一扰流部位于所述光轴顶部，所述第二扰流部位于所述第一扰流部下方，所述第三扰流部位于所述第二扰流部下方，所述壳体内壁面设置有弧形凸条，且所述弧形凸条呈螺旋状。

在本实用新型中，优选的，所述第一扰流部包括有第一扰流杆，所述第二扰流部包括有第二扰流杆，所述第三扰流部包括有第三扰流杆，所述第一扰流杆、所述第二扰流杆和所述第三扰流杆分别贯穿所述光轴，保证水流能够快速通过第一扰流杆、第二扰流杆和第三扰流杆的同时形成第一流场。

在本实用新型中，优选的，所述第一扰流杆中心线至所述第二扰流杆中心线的距离等于所述第二扰流杆中心线至所述第三扰流杆中心线的距离，保证水流形成流场的距离相同。

在本实用新型中，优选的，所述第一扰流杆中心线与所述第二扰流杆中心线形成第一夹角和第二夹角，且所述第一夹角小于所述第二夹角，所述第一夹角为60°，所述第二扰流杆中心线与所述第三扰流杆所在中心线形成第三夹角和第四夹角，且所述第三夹角小于所述第四夹角，所述第三夹角为60°，使得水流流场均匀分布。

在本实用新型中，优选的，所述滤水箱顶部开设有开口，且所述开口上铰接有盖板，方便操作者更换过滤组件中的滤料。

在本实用新型中，优选的，所述过滤组件包括有放置板、第一滤网箱和第二滤网箱，所述放置板固定连接在所述滤水箱底部，所述第一滤网箱设置在所述放置板顶部，所述放置板顶面开设有若干个通孔，所述第一滤网箱位于所述放置板上方，所述第二滤网箱可拆卸连接在所述滤水箱内，且所述第二滤网箱位于所述第一滤网箱上方，操作者能够在第一滤网箱和第二滤网箱中放置或更换不同滤料。

在本实用新型中，优选的，所述第一滤网箱和所述第二滤网箱顶部分别固定连接有把手，便于操作者将第一滤网箱和第二滤网箱抽出。

在本实用新型中，优选的，所述壳体的底部内径为所述壳体顶部内径的两倍，增加水流通过壳体后的流动速度。

本实用新型的有益效果：本实用新型通过圆台形壳体用于增加水流的流速，通过滤水箱用于放置过滤组件，通过过滤组件用于放置滤料，通过过滤进水管道用于输送未经过滤的水进入滤水箱内，通过过滤出水管用于输送出过滤后的水，通过反洗进水管用于将高压水流导入壳体内，通过排污管用于排出反洗后的污水，通过开关阀能够控制过滤进水管、过滤出水管、反洗进水管和排污管的流通，通过高压水泵产生高压水流，通过光轴用于为第一扰流部、第二扰流部和第三扰流部提供固定位置，通过第一扰流部、第二扰流部和第三扰流部能够改变壳体内的流场形成第一扰流场，使得经过第一扰流场改变流场后的高压水流能够充分冲洗过滤组件中的杂质，通过螺旋设置的弧形凸条能够改变壳体内的流场形成第二扰流场，使得经过第二扰流场改变流场后的高压水流能够充分冲洗过滤组件与滤水箱体内壁之间的杂质。

附图说明

图1是本实用新型的立体结构示意图；

图2是本实用新型的全剖结构示意图；

图3是本实用新型光轴、第一扰流部、第二扰流部和第三扰流部的立体结构示意图；

图4是本实用新型光轴、第一扰流部、第二扰流部和第三扰流部的俯视结构示意图。

附图标记：1、壳体；2、底座；3、支撑腿；4、滤水箱；5、过滤组件；51、放置板；52、第一滤网箱；53、第二滤网箱；54、通孔；6、排污管；7、过滤进水管；8、过滤出水管；9、反洗进水管；10、开关阀；11、高压水泵；12、光轴；13、扰流组件；14、第一扰流部；141、第一扰流杆；15、第二扰流部； 151、第二扰流杆；16、第三扰流部；161、第三扰流杆；17、弧形凸条；18、盖板；19、把手。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

需要说明的是，当组件被称为“固定于”另一个组件，它可以直接在另一个组件上或者也可以存在居中的组件。当一个组件被认为是“连接”另一个组件，它可以是直接连接到另一个组件或者可能同时存在居中组件。当一个组件被认为是“设置于”另一个组件，它可以是直接设置在另一个组件上或者可能同时存在居中组件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

请同时参见图1至图4，本实施例的一种去离子水设备的反洗机构，包括壳体1和底座2，壳体1的底部内径为壳体1顶部内径的两倍，增加水流通过壳梯后的流速，壳体1底部与底座2顶部之间固定连接有支撑腿3，壳体1为圆台形，壳体1顶部设置有滤水箱4，且滤水箱4与壳体1相互贯通，滤水箱4顶部开设有开口，且开口上铰接有盖板18，盖板18方便操作人员更换过滤组件5中的滤料，滤水箱4内设置有过滤组件5，过滤组件5用以过滤水中的杂质，滤水箱4 侧壁上分别连通有相对设置的排污管6和过滤进水管7，且排污管6与过滤进水管7均位于过滤组件5上方，壳体1侧面连通有过滤出水管8，壳体1底部连通有反洗进水管9，排污管6、过滤进水管7、过滤出水管8和反洗进水管9上分别设置有开关阀10，底座2顶面固定连接有高压水泵11，反洗进水管9与高压水泵11出水口连通，当进行反洗时，此时过滤进水管7和过滤出水管8上的开关阀10关闭，排污管6和反洗进水管9上的开关阀10打开，高压水泵11开始工作，水源通过高压水泵11加压后通过高压水泵11出水口流向反洗进水管9 进入壳体1，当被加压后的水源进入到圆台型壳体1后，高压水流逐渐被加速冲向滤水箱4中的过滤组件5，对过滤组件5中的滤材进行冲洗，高压水流通过过滤组件5后流向排污管6排出后完成清洗，当完成清洗后过滤进水管7和过滤出水管8上的开关阀10打开，排污管6和反洗进水管9上的开关阀10关闭；

壳体1底壁面固定连接有光轴12，且光轴12竖直设置，光轴12上设置有扰流组件13，扰流组件13用以改变水流的流场，扰流组件13包括第一扰流部 14、第二扰流部15、和第三扰流部16，第一扰流部14位于光轴12顶部，第二扰流部15位于第一扰流部14下方，第三扰流部16位于第二扰流部15下方，第一扰流部14包括有第一扰流杆141，第二扰流部15包括有第二扰流杆151，第三扰流部16包括有第三扰流杆161，保证水流能够快速通过第一扰流杆141、第二扰流杆151和第三扰流杆161的同时形成第一流场，第一扰流杆141、第二扰流杆151和第三扰流杆161分别贯穿光轴12，第一扰流杆141中心线至第二扰流杆151中心线的距离等于第二扰流杆151中心线至第三扰流杆161中心线的距离，保证水流形成流场的距离相同，第一扰流杆141中心线与第二扰流杆 151中心线形成第一夹角和第二夹角，且第一夹角小于第二夹角，第一夹角为 60°，第二扰流杆151中心线与第三扰流杆161所在中心线形成第三夹角和第四夹角，且第三夹角小于第四夹角，第三夹角为60°，保证第一扰流杆141、第二扰流杆151和第三扰流杆161均匀分布在光轴12上，使得水流流场均匀分布，当高压水流依次撞击第一扰流杆141、第二扰流杆151和第三扰流杆161，形成第一扰流场，高压水流通过第一扰流场改变流场后高压水流能够充分的冲洗过滤组件5中的杂质，壳体1内壁面设置有弧形凸条17，且弧形凸条17呈螺旋状，当高压水流通过呈螺旋状的弧形凸条17时，沿弧形凸条17螺旋线方向产生第二扰流场，高压水流通过第二扰流场改变流场后高压水流能够充分的冲洗过滤组件5与滤水箱4体内壁之间的杂质。

本实施方案中，参照图2所示，过滤组件5包括有放置板51、第一滤网箱52 和第二滤网箱53，第一滤网箱52内放置为无烟煤滤料，第二滤网箱53内放置为石英砂滤料，放置板51固定连接在滤水箱4底部，第一滤网箱52设置在放置板51 顶部，放置板51顶面开设有若干个通孔54，第一滤网箱52位于放置板51上方，第二滤网箱53可拆卸连接在滤水箱4内，且第二滤网箱53位于第一滤网箱52上方，第一滤网箱52和第二滤网箱53顶部分别固定连接有把手19，当操作人员需要对过滤组件5中的滤料进行更换时，操作人员通过第一把手19打开盖板18，依次将第二滤网箱53和第一滤网箱52抽出即可对滤料进行更换，更换完毕后操作人员将第一滤网箱52和第二滤网箱53依次放回滤水箱4改好盖板18即可完成对滤料的更换。

工作原理：当进行反洗时，此时过滤进水管7和过滤出水管8上的开关阀10 关闭，排污管6和反洗进水管9上的开关阀10打开，高压水泵11开始工作，水源通过高压水泵11加压后通过高压水泵11出水口流向反洗进水管9进入壳体1，当被加压后的水源进入到圆台型壳体1后，高压水流逐渐被加速冲向滤水箱4中的过滤组件5，对过滤组件5中的滤材进行冲洗，当高压水流依次撞击第一扰流杆 141、第二扰流杆151和第三扰流杆161，形成第一扰流场，高压水流通过第一扰流场改变流场后高压水流能够充分的冲洗过滤组件5中的杂质，当高压水流通过呈螺旋状的弧形凸条17时，沿弧形凸条17螺旋线方向产生第二扰流场，高压水流通过第二扰流场改变流场后高压水流能够充分的冲洗过滤组件5与滤水箱4体内壁之间的杂质，高压水流通过过滤组件5后流向排污管6排出后完成清洗，完成清洗后过滤进水管7和过滤出水管8上的开关阀10打开，排污管6和反洗进水管 9上的开关阀10关闭，当需要对过滤组件5内的滤料进行更换时，当操作人员需要对过滤组件5中的滤料进行更换时，操作人员通过第一把手19打开盖板18，依次将第二滤网箱53和第一滤网箱52抽出即可对滤料进行更换，更换完毕后操作人员将第一滤网箱52和第二滤网箱53依次放回滤水箱4改好盖板18即可完成对滤料的更换。

以上仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (8)

1.一种去离子水设备的反洗机构，包括壳体(1)和底座(2)，所述壳体(1)底部与所述底座(2)顶部之间固定连接有支撑腿(3)，其特征在于：所述壳体(1)为圆台形，所述壳体(1)顶部设置有滤水箱(4)，且所述滤水箱(4)与所述壳体(1)相互贯通，所述滤水箱(4)内设置有过滤组件(5)，所述过滤组件(5)用以过滤水中的杂质，所述滤水箱(4)侧壁上分别连通有相对设置的排污管(6)和过滤进水管(7)，且所述排污管(6)与所述过滤进水管(7)均位于所述过滤组件(5)上方，所述壳体(1)侧面连通有过滤出水管(8)，所述壳体(1)底部连通有反洗进水管(9)，所述排污管(6)、所述过滤进水管(7)、所述过滤出水管(8)和所述反洗进水管(9)上分别设置有开关阀(10)，所述底座(2)顶面固定连接有高压水泵(11)，所述反洗进水管(9)与所述高压水泵(11)出水口连通；

所述壳体(1)底壁面固定连接有光轴(12)，且所述光轴(12)竖直设置，所述光轴(12)上设置有扰流组件(13)，所述扰流组件(13)用以改变水流的流场，所述扰流组件(13)包括第一扰流部(14)、第二扰流部(15)、和第三扰流部(16)，所述第一扰流部(14)位于所述光轴(12)顶部，所述第二扰流部(15)位于所述第一扰流部(14)下方，所述第三扰流部(16)位于所述第二扰流部(15)下方，所述壳体(1)内壁面设置有弧形凸条(17)，且所述弧形凸条(17)呈螺旋状。

2.根据权利要求1所述的一种去离子水设备的反洗机构，其特征在于：所述第一扰流部(14)包括有第一扰流杆(141)，所述第二扰流部(15)包括有第二扰流杆(151)，所述第三扰流部(16)包括有第三扰流杆(161)，所述第一扰流杆(141)、所述第二扰流杆(151)和所述第三扰流杆(161)分别贯穿所述光轴(12)。

3.根据权利要求2所述的一种去离子水设备的反洗机构，其特征在于：所述第一扰流杆(141)中心线至所述第二扰流杆(151)中心线的距离等于所述第二扰流杆(151)中心线至所述第三扰流杆(161)中心线的距离。

4.根据权利要求3所述的一种去离子水设备的反洗机构，其特征在于：所述第一扰流杆(141)中心线与所述第二扰流杆(151)中心线形成第一夹角和第二夹角，且所述第一夹角小于所述第二夹角，所述第一夹角为60°，所述第二扰流杆(151)中心线与所述第三扰流杆(161)所在中心线形成第三夹角和第四夹角，且所述第三夹角小于所述第四夹角，所述第三夹角为60°。

5.根据权利要求1所述的一种去离子水设备的反洗机构，其特征在于：所述滤水箱(4)顶部开设有开口，且所述开口上铰接有盖板(18)。

6.根据权利要求1所述的一种去离子水设备的反洗机构，其特征在于：所述过滤组件(5)包括有放置板(51)、第一滤网箱(52)和第二滤网箱(53)，所述放置板(51)固定连接在所述滤水箱(4)底部，所述第一滤网箱(52)设置在所述放置板(51)顶部，所述放置板(51)顶面开设有若干个通孔(54)，所述第一滤网箱(52)位于所述放置板(51)上方，所述第二滤网箱(53)可拆卸连接在所述滤水箱(4)内，且所述第二滤网箱(53)位于所述第一滤网箱(52)上方。

7.根据权利要求6所述的一种去离子水设备的反洗机构，其特征在于：所述第一滤网箱(52)和所述第二滤网箱(53)顶部分别固定连接有把手(19)。

8.根据权利要求1所述的一种去离子水设备的反洗机构，其特征在于：所述壳体(1)的底部内径为所述壳体(1)顶部内径的两倍。

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