CN214254353U - 一种匀流装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型为一种匀流装置，包括匀流筒以及支架；匀流筒设置于支架；支架设置于炉管内部；匀流筒包括插片筒和透气板；透气板卡接于插片筒内；透气板上均匀设置有透气孔；通过在炉管的进气管一端设置匀流筒，使进气管输入的反应气体首先通过匀流筒，通过透气板的匀流作用，使反应气体均匀通向炉管内的待加工产品，保证炉管截面内流向硅片的气流均匀。

Description

一种匀流装置

技术领域

本实用新型涉及半导体制造及太阳能光伏电池制造领域，特别是涉及一种匀流装置。

背景技术

目前的硅片制成太阳能电池的主流工序步骤包括：制绒、扩散、刻蚀、镀膜、印刷、烧结等。其中扩散是制备PN结的重要工艺过程，常规扩散方法是将硅片送入石英舟中，并将在载有硅片的石英舟推送入管式扩散炉罐内，将扩散炉升温至第一预设温度，向扩散炉内通入工艺气体，保持温度一定时间；直至源沉积，停止通入工艺气体，间温度调整为第二预设温度，进行源扩散工艺。在扩散、氧化等工艺中都涉及多种气态反应，反应气体通过流量计和阀控制后，从真空管路进入反应腔体。反应气体进入腔体的过程一般都是由小管径的管道进入大腔体，在管道的入口处以及管道的气流流向的路径上容易形成反应气体集中，造成产品上的反应不均匀；另外气流的集中冲击会影响炉管内的局部温度，使炉管内产生局部温差。

另一方面对于不同的管内工艺，对于炉管内反应气体的扩散均匀性有着不同的要求，尤其是对于新的工艺，需要重新进行调试。因此需要一种能够打散气流的匀流装置，而且能够针对不同的工艺进行调试。

发明内容

本实用新型的目的是解决现有技术的不足，提供一种匀流装置，结构简单，使用方便。

一种匀流装置，包括匀流筒以及支架；匀流筒设置于支架；支架设置于炉管内部；匀流筒包括插片筒和透气板；透气板卡接于插片筒内；透气板上均匀设置有透气孔。

进一步的，所述插片筒包括圆筒以及限位棒，限位棒设置于圆筒的外侧面，限位棒上设置有至少两个圆筒；相邻的圆筒之间间隔设定距离，透气板设置于相邻的圆筒之间。

进一步的，所述支架包括把手以及支撑管，把手设置于支撑管的一端。

进一步的，所述把手呈直线形，在把手的两端设置凸起结构，凸起朝向相同的方向；把手的凸起结构连接有支撑管，支撑管和把手垂直设置。

进一步的，所述支撑管共两根，两根支撑管平行设置；支撑管位于插片筒与炉管之间。

进一步的，所述支架设置于炉管内，把手所处的水平面高于支撑管所处的水平面。

进一步的，所述支架靠近炉管的进气管的一端设置；支架的把手朝向进气管或者背向进气管。

进一步的，所述支撑管的直径加上圆筒的外径一半，与炉管内径的一半相等。

进一步的，所述炉管的尾排管距离炉管轴线的最小距离大于圆筒的外径的一半；同一块透气板上的透气孔孔径一致；不同透气板的透气孔之间孔径不同。

进一步的，所述透气板上的透气孔为发散式排列或者行列式排列。

本实用新型的有益效果为：

通过在炉管的进气管一端设置匀流筒，使进气管输入的反应气体首先通过匀流筒，通过透气板的匀流作用，使反应气体均匀通向炉管内的待加工产品，保证炉管截面内流向硅片的气流均匀；

通过设置透气板于插片筒卡接，能够对透气板进行随意更换，便于进行调试；

通过设置支架，对匀流筒实现支撑，并且通过支架的把手，对匀流筒所处的位置能够进行方便地调节。

附图说明

图1为本实用新型实施例一的整体结构图；

图2为本实用新型实施例一的插片筒与支架的示意图；

图3为本实用新型实施例一的行列式透气孔的透气板示意图；

图4为本实用新型实施例一的发散式透气孔的透气板示意图；

图5为本实用新型实施例一的另一行列式透气孔的透气板示意图；

图6为本实用新型实施例一设置于炉管内的示意图。

附图标识说明：匀流筒1、透气板11、透气孔12、插片筒13、圆筒131、限位棒132、支架2、把手21、凸起结构22、支撑管23、进气管3、尾排管4。

具体实施方式

以下通过特定的具体实例说明本实用新型的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点与功效。本实用新型还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本实用新型的精神下进行各种修饰或改变。需说明的是，在不冲突的情况下，以下实施例及实施例中的特征可以相互组合。

需要说明的是，以下实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本实用新型的基本构想，遂图式中仅显示与本实用新型中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。

实施例一：

一种匀流装置，包括匀流筒1以及支架2；匀流筒1设置于支架2；支架2设置于炉管内部。匀流筒1包括插片筒13和透气板11；透气板11卡接于插片筒13内；透气板11上均匀设置有透气孔12。

所述支架2包括把手21以及支撑管23，把手21设置于支撑管23的一端。在本例中支撑管23共两根，两根支撑管23平行设置。把手21呈直线形，在把手21的两端设置凸起结构22，凸起朝向相同的方向。在把手21的凸起结构22连接有支撑管23，支撑管23和把手21垂直设置。在设置时通过两个支撑管23结合把手21的结构，其中支撑管23位于插片筒13与炉管之间，支撑管23与炉管内壁接触，使支架2在炉管内得到支撑。其中把手21所处的水平面高于支撑管23所处的水平面，目的是当匀流筒1架于支架2上时，把手21能够对匀流筒1起到阻挡作用；另一方面通过抓握把手21能够对支架2在炉管内所处的位置进行调节。

所述插片筒13包括圆筒131以及限位棒132，限位棒132设置于圆筒131的外侧面，限位棒132上设置有至少两个圆筒131。在本例中限位棒132与圆筒131的轴线平行，并且在限位棒132上设置有四个圆筒131，相邻的圆筒131之间间隔设定距离，透气板11设置于相邻的圆筒131之间，通过限位棒132对透气板11进行支撑。圆筒131呈管状，其中圆筒131的外径小于炉管的内径。支架2设置于炉管内靠近进气管3的一端，其中支架2的把手21朝向进气管3或者背向进气管3，因为两种把手21设置方式中，透气板11均能够对进气管3的气流进行充分的接触和匀流。

所述同一块透气板11上的透气孔12孔径一致，不同透气板11的透气孔12之间孔径不同，并且在不同的透气板11上，透气孔12的排列方式也不同，可以为发散式排列或者行列式排列等。需要说明的是透气孔12排列不同的透气板11也能够插入同一个插片筒13，进行匀流操作。

炉管设置有进气管3的一端通常设置有尾排管4，尾排管4设置于炉管的底部，并且尾排管4与炉管的轴线平行设置。其中尾排管4距离炉管轴线的最小距离大于圆筒131的外径的一半，目的是当匀流筒1设置于炉管内部时，尾排管4排出的气流尽可能不经过透气板11，尾气不需要进行匀流。

所述支撑管23的管径与圆筒131的外径有关，支撑管23的直径加上圆筒131的外径一半，与炉管内径的一半相等，目的是使支撑管23支撑匀流筒1时，透气板11的中心能够处于炉管的轴线上，实现均匀的匀流。

在实施的过程中，炉管的进气管3输入的反应气体首先通过匀流筒1，通过透气板11的匀流作用，使反应气体均匀通向炉管内的待加工产品，保证炉管内反应气体浓度均匀；通过设置支架2，对匀流筒1实现支撑，并且通过支架2的把手21，对匀流筒1所处的位置能够进行方便地调节；通过设置透气板11于插片筒13卡接，能够对透气板11进行随意更换，便于进行调试。

以上描述仅是本实用新型的一个具体实例，不构成对本实用新型的任何限制。显然对于本领域的专业人员来说，在了解了本实用新型内容和原理后，都可能在不背离本实用新型原理、结构的情况下，进行形式和细节上的各种修改和改变，但是这些基于本实用新型思想的修正和改变仍在本实用新型的权利要求保护范围之内。

Claims (10)

1.一种匀流装置，其特征在于，包括匀流筒以及支架；匀流筒设置于支架；支架设置于炉管内部；匀流筒包括插片筒和透气板；透气板卡接于插片筒内；透气板上均匀设置有透气孔。

2.根据权利要求1所述的一种匀流装置，其特征在于，所述插片筒包括圆筒以及限位棒，限位棒设置于圆筒的外侧面，限位棒上设置有至少两个圆筒；相邻的圆筒之间间隔设定距离，透气板设置于相邻的圆筒之间。

3.根据权利要求2所述的一种匀流装置，其特征在于，所述支架包括把手以及支撑管，把手设置于支撑管的一端。

4.根据权利要求3所述的一种匀流装置，其特征在于，所述把手呈直线形，在把手的两端设置凸起结构，凸起朝向相同的方向；把手的凸起结构连接有支撑管，支撑管和把手垂直设置。

5.根据权利要求3所述的一种匀流装置，其特征在于，所述支撑管共两根，两根支撑管平行设置；支撑管位于插片筒与炉管之间。

6.根据权利要求4所述的一种匀流装置，其特征在于，所述支架设置于炉管内，把手所处的水平面高于支撑管所处的水平面。

7.根据权利要求6所述的一种匀流装置，其特征在于，所述支架靠近炉管的进气管的一端设置；支架的把手朝向进气管或者背向进气管。

8.根据权利要求7所述的一种匀流装置，其特征在于，所述支撑管的直径加上圆筒的外径一半，与炉管内径的一半相等。

9.根据权利要求8所述的一种匀流装置，其特征在于，所述炉管的尾排管距离炉管轴线的最小距离大于圆筒的外径的一半；同一块透气板上的透气孔孔径一致；不同透气板的透气孔之间孔径不同。

10.根据权利要求1所述的一种匀流装置，其特征在于，所述透气板上的透气孔为发散式排列或者行列式排列。

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