CN214235269U - 低模量高强度亲水牙种植体亲水性表面处理装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于牙种植体技术领域，具体涉及一种低模量高强度亲水牙种植体亲水性表面处理装置，其包括：存储盒，所述存储盒适于盛放种植体；控制模块，所述控制模块与所述第一清洗机构、第二清洗机构和第三清洗机构电性连接，所述控制模块适于控制所述第一清洗机构对存储盒内的种植体进行纯化水超声波清洗，所述控制模块适于控制所述第一清洗机构对存储盒内的种植体进行纯化水冲洗，以及所述控制模块适于控制所述第三清洗机构对存储盒内的种植体进行洗涤剂超声波冲洗，实现了种植体的自动清洗，提高了清洗效率，节省资源和成本。

Description

低模量高强度亲水牙种植体亲水性表面处理装置

技术领域

本实用新型属于牙种植体技术领域，具体涉及一种低模量高强度亲水牙种植体亲水性表面处理装置。

背景技术

口腔种植体又称为牙种植体，还称为人工牙根。是通过外科手术的方式将其植入人体缺牙部位的上下颌骨内，待其手术伤口愈合后，在其上部安装修复假牙的装置。亲水性种植体是种植体表面处理技术的优化，骨结合部是柱状、中空结构，种植体上有横孔，相比普通表面种植体来说，更有利于骨结合，可以相应缩短种植牙的治疗时间。在种植体进行亲水性处理之前需要对种植体进行清洗，传统的种植体清洗需要人工操作，费时费力且效率低。

因此，基于上述技术问题需要设计一种新的低模量高强度亲水牙种植体亲水性表面处理装置。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种低模量高强度亲水牙种植体亲水性表面处理装置，以解决种植体自动清洗的技术问题。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种低模量高强度亲水牙种植体亲水性表面处理装置，包括：

存储盒，所述存储盒适于盛放种植体；

第一清洗机构，所述第一清洗机构适于对存储盒内的种植体进行纯化水超声波清洗；

第二清洗机构，所述第一清洗机构适于对存储盒内的种植体进行纯化水冲洗；

第三清洗机构，所述第三清洗机构适于对存储盒内的种植体进行洗涤剂超声波冲洗；

控制模块，所述控制模块与所述第一清洗机构、第二清洗机构和第三清洗机构均电性连接，所述控制模块适于控制所述第一清洗机构对存储盒内的种植体进行纯化水超声波清洗，所述控制模块适于控制所述第一清洗机构对存储盒内的种植体进行纯化水冲洗，以及所述控制模块适于控制所述第三清洗机构对存储盒内的种植体进行洗涤剂超声波冲洗。

进一步，所述表面处理装置还包括：支架，以及与所述控制模块电性连接的伸缩机构；

所述伸缩机构设置在所述支架上；

所述伸缩机构与所述存储盒连接；

所述第二清洗机构设置在所述支架上，并且所述第二清洗机构设置在所述存储盒上方；

所述控制模块适于控制所述伸缩机构带动所述存储盒进入或离开所述第一清洗机构或所述第三清洗机构。

进一步，所述伸缩机构包括：第一伸缩电机和第二伸缩电机；

所述第一伸缩电机和所述第二伸缩电机均设置在所述支架上；

所述第一伸缩电机与所述存储盒的一边连接；

所述第二伸缩电机与所述存储盒的另一边连接；

所述控制模块适于控制所述第一伸缩电机和所述第二伸缩电机同步伸长或收缩，以带动所述存储盒进入或离开所述第一清洗机构或所述第三清洗机构。

进一步，所述第二清洗机构包括：喷头和蓄水盒；

所述喷头设置在所述支架上，并且所述喷头设置在所述存储和上方；

所述喷头与所述蓄水盒连接；

所述蓄水盒设置在所述支架上，所述蓄水盒适于存放纯化水；

所述控制模块适于控制所述喷头将喷洒所述蓄水盒内的纯化水，以对存储盒内的种植体进行纯化水冲洗。

进一步，所述表面处理装置还包括：旋转机构；

所述旋转机构设置在所述支架下方；

所述第一清洗机构和所述第三清洗机构设置在所述旋转机构上；

所述控制模块适于控制所述旋转机构旋转，使所述第一清洗机构承接所述存储盒，以对存储盒内的种植体进行纯化水超声波清洗；以及

所述控制模块适于控制所述旋转机构旋转，使所述第三清洗机构承接所述存储盒，以对存储盒内的种植体进行洗涤剂超声波清洗。

进一步，所述旋转机构包括：旋转电机和承载台；

所述承载台设置在所述支架下方；

所述旋转电机设置所述承载台底部；

所述第一清洗机构和所述第三清洗机构设置在所述承载台上；

所述控制模块适于控制所述旋转电机带动所述承载台旋转，使所述第一清洗机构或所述第三清洗机构承接所述存储盒。

进一步，所述表面处理装置还包括：废水盒；

所述废水盒设置在所述承载台上；

所述控制模块适于控制所述旋转电机带动所述承载台旋转，以使所述废水盒承接所述第二清洗机构纯化水冲洗存储盒内的种植体后的废水。

进一步，所述表面处理装置还包括：浸泡盒；

所述浸泡盒设置在所述承载台上，并且所述浸泡和适于存放混合溶液；

所述控制模块适于控制所述旋转电机带动所述承载台旋转，并且所述控制模块适于控制所述伸缩机构带动所述存储盒下降，使所述存储盒浸泡在所述浸泡盒内的混合溶液中。

进一步，所述存储盒向上开口设计；

所述存储盒的外壁上开设有若干通孔。

本实用新型的有益效果是，本实用新型通过存储盒，所述存储盒适于盛放种植体；第一清洗机构，所述第一清洗机构适于对存储盒内的种植体进行纯化水超声波清洗；第二清洗机构，所述第一清洗机构适于对存储盒内的种植体进行纯化水冲洗；第三清洗机构，所述第三清洗机构适于对存储盒内的种植体进行洗涤剂超声波冲洗；控制模块，所述控制模块与所述第一清洗机构、第二清洗机构和第三清洗机构均电性连接，所述控制模块适于控制所述第一清洗机构对存储盒内的种植体进行纯化水超声波清洗，所述控制模块适于控制所述第一清洗机构对存储盒内的种植体进行纯化水冲洗，以及所述控制模块适于控制所述第三清洗机构对存储盒内的种植体进行洗涤剂超声波冲洗，实现了种植体的自动清洗，提高了清洗效率，节省资源和成本。

本实用新型的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本实用新型而了解。本实用新型的目的和其他优点在说明书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型所涉及的低模量高强度亲水牙种植体亲水性表面处理装置的结构示意图；

图2是本实用新型所涉及的低模量高强度亲水牙种植体亲水性表面处理装置的原理框图；

图3是本实用新型所涉及的旋转机构俯视图。

图中：

1为存储盒、101为通孔；

2为第一清洗机构；

3为第二清洗机构、301为喷头、302为蓄水盒、303为水管；

4为第三清洗机构；

5为支架；

6为伸缩机构、601为第一伸缩电机、602为第二伸缩电机；

7为旋转机构、701为旋转电机、702为承载台；

8为废水盒；

9为浸泡盒；

10为种植体。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

图1是本实用新型所涉及的低模量高强度亲水牙种植体亲水性表面处理装置的结构示意图；

图2是本实用新型所涉及的低模量高强度亲水牙种植体亲水性表面处理装置的原理框图。

如图1和图2所示，本实施例提供了一种低模量高强度亲水牙种植体亲水性表面处理装置，包括：存储盒1，所述存储盒1适于盛放种植体10(低模量高强度亲水牙种植体10)；第一清洗机构2，所述第一清洗机构2适于对存储盒1内的种植体10进行纯化水超声波清洗；所述第一清洗机构2可以但不限于采用超声波清洗装置；所述第一清洗机构2内采用的清洗溶液可以但不限于是纯化水；第二清洗机构3，所述第一清洗机构2适于对存储盒1内的种植体10进行纯化水冲洗；所述第二清洗机构3采用的清洗溶液可以但不限于是纯化水；第三清洗机构4，所述第三清洗机构4适于对存储盒1内的种植体10进行洗涤剂超声波冲洗；所述第三清洗机构4可以但不限于采用超声波清洗装置；所述第三清洗机构4内采用的清洗溶液可以但不限于是Micro90清洗剂；控制模块(所述控制模块可以但不限于采用STM32系列单片机、PLC等)，所述控制模块与所述第一清洗机构2、第二清洗机构3和第三清洗机构4均电性连接，所述控制模块适于控制所述第一清洗机构2对存储盒1内的种植体10进行纯化水超声波清洗，所述控制模块适于控制所述第一清洗机构2对存储盒1内的种植体10进行纯化水冲洗，以及所述控制模块适于控制所述第三清洗机构4对存储盒1内的种植体10进行洗涤剂超声波冲洗，实现了种植体10的自动清洗，提高了清洗效率，节省资源和成本。

在本实施例中，所述表面处理装置(低模量高强度亲水牙种植体亲水性表面处理装置)还包括：支架5，以及与所述控制模块电性连接的伸缩机构6；所述伸缩机构6设置在所述支架5上；所述伸缩机构6与所述存储盒1连接；所述第二清洗机构3设置在所述支架5上，并且所述第二清洗机构3设置在所述存储盒1上方；所述控制模块适于控制所述伸缩机构6带动所述存储盒1进入或离开所述第一清洗机构2或所述第三清洗机构4；通过伸缩机构6可以自动的将存储盒1自动的放入或拿出第一清洗机构2或第三清洗机构4，免去了人工操作，提高了清洗的效率降低了成本，并且可以精确的控制清洗时间，确保清洗效率。

在本实施例中，所述伸缩机构6包括：第一伸缩电机601和第二伸缩电机602；所述第一伸缩电机601和第二伸缩电机602均可以但不限于采用伺服推杆，精确的控制伸缩距离；所述第一伸缩电机601和所述第二伸缩电机602均设置在所述支架5上；所述第一伸缩电机601与所述存储盒1的一边连接；所述第二伸缩电机602与所述存储盒1的另一边连接；所述控制模块适于控制所述第一伸缩电机601和所述第二伸缩电机602同步伸长或收缩，以带动所述存储盒1进入或离开所述第一清洗机构2或所述第三清洗机构4。

在本实施例中，所述第二清洗机构3包括：喷头301和蓄水盒302；所述喷头301设置在所述支架5上，并且所述喷头301设置在所述存储和上方；所述喷头301与所述蓄水盒302连接；喷头301可以通过水管303(所述水管303可以穿过支架5设置)与蓄水盒302连接；所述蓄水盒302设置在支架5上；所述支架5可以离地设置，也可以直接设置在天花板上(此时蓄水盒302与喷头301设置在支架5的同一面上)；所述蓄水盒302设置在所述支架5上，所述蓄水盒302适于存放纯化水；所述控制模块适于控制所述喷头301将喷洒所述蓄水盒302内的纯化水，以对存储盒1内的种植体10进行纯化水冲洗。

图3是本实用新型所涉及的旋转机构俯视图。

如图3所示，在本实施例中，所述表面处理装置还包括：旋转机构7；所述旋转机构7设置在所述支架5下方；所述第一清洗机构2和所述第三清洗机构4设置在所述旋转机构7上；所述控制模块适于控制所述旋转机构7旋转，使所述第一清洗机构2承接所述存储盒1，以对存储盒1内的种植体10进行纯化水超声波清洗；以及所述控制模块适于控制所述旋转机构7旋转，使所述第三清洗机构4承接所述存储盒1，以对存储盒1内的种植体10进行洗涤剂超声波清洗；当需要进行纯化水超声波清洗时控制模块控制旋转机构7将第一清洗机构2运动至存储盒1下方，便于伸缩机构6带动存储盒1进入第一清洗机构2；当需要进行洗涤剂超声波冲洗时控制模块控制旋转机构7将第三清洗机构4运动至存储盒1下方，便于伸缩机构6带动存储盒1进入第三清洗机构4，以提高清洗的效果的效率。

在本实施例中，所述旋转机构7包括：旋转电机701和承载台702；所述旋转电机701可以但不限于采用伺服电机，以精确控制旋转距离；所述承载台702设置在所述支架5下方；所述旋转电机701设置所述承载台702底部；所述第一清洗机构2和所述第三清洗机构4设置在所述承载台702上；所述控制模块适于控制所述旋转电机701带动所述承载台702旋转，使所述第一清洗机构2或所述第三清洗机构4承接所述存储盒1；控制模块控制所述旋转电机701旋转的方法可以直接采用现有技术。

在本实施例中，所述表面处理装置还包括：废水盒8；所述废水盒8设置在所述承载台702上；所述控制模块适于控制所述旋转电机701带动所述承载台702旋转，以使所述废水盒8承接所述第二清洗机构3纯化水冲洗存储盒1内的种植体10后的废水；当需要进行纯化水冲洗时，控制模块控制旋转电机701带动废水盒8移动至存储盒1下方，承接纯化水冲洗后的废水。

在本实施例中，所述表面处理装置还包括：浸泡盒9；在种植体10冲洗后需要对种植体10进行亲水处理；所述浸泡盒9设置在所述承载台702上，并且所述浸泡和适于存放混合溶液(可以为MgCl₂、CaCl₂和NaCl的混合溶液)；所述控制模块适于控制所述旋转电机701带动所述承载台702旋转，并且所述控制模块适于控制所述伸缩机构6带动所述存储盒1下降，使所述存储盒1浸泡在所述浸泡盒9内的混合溶液中，完成最终的亲水处理。

在本实施例中，所述存储盒1向上开口设计；所述存储盒1的外壁(侧壁、底面)上开设有若干通孔101；通过向上开口设计和通孔101可以保证在在喷头301进行纯化水冲洗时，纯化水经过开口冲洗种植体10，冲洗后的废水通过通孔101流入废水盒8中；并且通过向上开口设计和通孔101可以保证在存储盒1进入第一清洗机构2、第三清洗机构4时相应溶液浸润种植体10，保证清洗效果。

在本实施例中，种植体10的具体清洗过程可以为：由第二清洗构先进行纯化水冲洗，纯化水冲洗后由第三清洗机构4进行洗涤剂超声波冲洗，洗涤剂超声波冲洗后再有第二清洗机构3进行纯化水冲洗，纯化水冲洗后再由第一清洗机构2进行纯化水超声波清洗，当纯化水超声波清洗完成后将种植体10放入浸泡盒9浸泡完成最终的亲水处理。

综上所述，本实用新型通过存储盒1，所述存储盒1适于盛放种植体10；第一清洗机构2，所述第一清洗机构2适于对存储盒1内的种植体10进行纯化水超声波清洗；第二清洗机构3，所述第一清洗机构2适于对存储盒1内的种植体10进行纯化水冲洗；第三清洗机构4，所述第三清洗机构4适于对存储盒1内的种植体10进行洗涤剂超声波冲洗；控制模块，所述控制模块与所述第一清洗机构2、第二清洗机构3和第三清洗机构4均电性连接，所述控制模块适于控制所述第一清洗机构2对存储盒1内的种植体10进行纯化水超声波清洗，所述控制模块适于控制所述第一清洗机构2对存储盒1内的种植体10进行纯化水冲洗，以及所述控制模块适于控制所述第三清洗机构4对存储盒1内的种植体10进行洗涤剂超声波冲洗，实现了种植体10的自动清洗，提高了清洗效率，节省资源和成本。

本申请中选用的各个器件(未说明具体结构的部件)均为通用标准件或本领域技术人员知晓的部件，其结构和原理都为本技术人员均可通过技术手册得知或通过常规实验方法获知。

在本实用新型实施例的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

以上述依据本实用新型的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项实用新型技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项实用新型的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。

Claims (9)

1.一种低模量高强度亲水牙种植体亲水性表面处理装置，其特征在于，包括：

存储盒，所述存储盒适于盛放种植体；

第一清洗机构，所述第一清洗机构适于对存储盒内的种植体进行纯化水超声波清洗；

第二清洗机构，所述第一清洗机构适于对存储盒内的种植体进行纯化水冲洗；

第三清洗机构，所述第三清洗机构适于对存储盒内的种植体进行洗涤剂超声波冲洗；

控制模块，所述控制模块与所述第一清洗机构、第二清洗机构和第三清洗机构均电性连接，所述控制模块适于控制所述第一清洗机构对存储盒内的种植体进行纯化水超声波清洗，所述控制模块适于控制所述第一清洗机构对存储盒内的种植体进行纯化水冲洗，以及所述控制模块适于控制所述第三清洗机构对存储盒内的种植体进行洗涤剂超声波冲洗。

2.如权利要求1所述的低模量高强度亲水牙种植体亲水性表面处理装置，其特征在于，

所述表面处理装置还包括：支架，以及与所述控制模块电性连接的伸缩机构；

所述伸缩机构设置在所述支架上；

所述伸缩机构与所述存储盒连接；

所述第二清洗机构设置在所述支架上，并且所述第二清洗机构设置在所述存储盒上方；

所述控制模块适于控制所述伸缩机构带动所述存储盒进入或离开所述第一清洗机构或所述第三清洗机构。

3.如权利要求2所述的低模量高强度亲水牙种植体亲水性表面处理装置，其特征在于，

所述伸缩机构包括：第一伸缩电机和第二伸缩电机；

所述第一伸缩电机和所述第二伸缩电机均设置在所述支架上；

所述第一伸缩电机与所述存储盒的一边连接；

所述第二伸缩电机与所述存储盒的另一边连接；

所述控制模块适于控制所述第一伸缩电机和所述第二伸缩电机同步伸长或收缩，以带动所述存储盒进入或离开所述第一清洗机构或所述第三清洗机构。

4.如权利要求2所述的低模量高强度亲水牙种植体亲水性表面处理装置，其特征在于，

所述第二清洗机构包括：喷头和蓄水盒；

所述喷头设置在所述支架上，并且所述喷头设置在所述存储和上方；

所述喷头与所述蓄水盒连接；

所述蓄水盒设置在所述支架上，所述蓄水盒适于存放纯化水；

所述控制模块适于控制所述喷头将喷洒所述蓄水盒内的纯化水，以对存储盒内的种植体进行纯化水冲洗。

5.如权利要求2所述的低模量高强度亲水牙种植体亲水性表面处理装置，其特征在于，

所述表面处理装置还包括：旋转机构；

所述旋转机构设置在所述支架下方；

所述第一清洗机构和所述第三清洗机构设置在所述旋转机构上；

所述控制模块适于控制所述旋转机构旋转，使所述第一清洗机构承接所述存储盒，以对存储盒内的种植体进行纯化水超声波清洗；以及

所述控制模块适于控制所述旋转机构旋转，使所述第三清洗机构承接所述存储盒，以对存储盒内的种植体进行洗涤剂超声波清洗。

6.如权利要求5所述的低模量高强度亲水牙种植体亲水性表面处理装置，其特征在于，

所述旋转机构包括：旋转电机和承载台；

所述承载台设置在所述支架下方；

所述旋转电机设置所述承载台底部；

所述第一清洗机构和所述第三清洗机构设置在所述承载台上；

所述控制模块适于控制所述旋转电机带动所述承载台旋转，使所述第一清洗机构或所述第三清洗机构承接所述存储盒。

7.如权利要求6所述的低模量高强度亲水牙种植体亲水性表面处理装置，其特征在于，

所述表面处理装置还包括：废水盒；

所述废水盒设置在所述承载台上；

所述控制模块适于控制所述旋转电机带动所述承载台旋转，以使所述废水盒承接所述第二清洗机构纯化水冲洗存储盒内的种植体后的废水。

8.如权利要求7所述的低模量高强度亲水牙种植体亲水性表面处理装置，其特征在于，

所述表面处理装置还包括：浸泡盒；

所述浸泡盒设置在所述承载台上，并且所述浸泡和适于存放混合溶液；

所述控制模块适于控制所述旋转电机带动所述承载台旋转，并且所述控制模块适于控制所述伸缩机构带动所述存储盒下降，使所述存储盒浸泡在所述浸泡盒内的混合溶液中。

9.如权利要求1所述的低模量高强度亲水牙种植体亲水性表面处理装置，其特征在于，

所述存储盒向上开口设计；

所述存储盒的外壁上开设有若干通孔。

Images