CN214208053U - 水壶底座结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了水壶底座结构，包括座体，所述座体上部设有与水壶底部接触的支撑面，在支撑面上设有能够对水质进行处理与改善的水处理材料。本实用新型的水处理材料为在氧化铝、高岭土中添加磁性、过渡金属材料并经1300℃至1420℃温度烧制而成的陶瓷材料。利用本实用新型的陶瓷材料对水质进行处理与改善效果好，通过本实用新型能够获得小分子团水并可降低水中耗氧量、浑浊度、氯离子，小分子团水进入人体后，能立即渗透到人体细胞中，把营养以更快的速度带入细胞，并且把细胞里的代谢废物和毒素更快地带出细胞外，使毛细血管的循环加快，促进新陈代谢，增强身体抵抗力，有利于身体健康。
Description
技术领域
本实用新型涉及水壶技术领域，特别涉及一种水壶底座结构。
背景技术
现有技术中对水的处理，一般采用在盛水容器中设置水处理结构，主要是降低其中的水垢，但是不能改善水本身的品质，例如不能够将大水分子团转为为小水分子团，还有不能够有效地降低水中耗氧量、浑浊度、氯离子的含量，尤其是在供水质量比较差的区域，水的质量还比较严重，人长时间引用后容易对人体造成伤害，影响人体健康。
实用新型内容
本实用新型就是为了克服上述现有技术存在的缺点，提供一种水壶底座结构。本实用新型的水处理材料为在氧化铝、高岭土中添加磁性、过渡金属材料并经1300℃至1420℃温度烧制而成的陶瓷材料。利用本实用新型的陶瓷材料对水质进行处理与改善效果好，通过本实用新型能够获得小分子团水并可降低水中耗氧量、浑浊度、氯离子。
本实用新型解决其技术问题所采取的技术方案是：
一种水壶底座结构，包括座体，所述座体上部设有与水壶底部接触的支撑面，在支撑面上设有能够对水质进行处理与改善的水处理材料。
所述支撑面上设有向支撑面内部凹陷的凹槽，所述水处理材料设于凹槽中。
所述凹槽为环形凹槽，所述水处理材料为粉状及颗粒状结构，所述水处理材料设于环形热管中，环形热管安装在环形凹槽中。
所述环形热管为两端断开的、非完全闭合的弯管。
弯管截面形状为扁平、圆形或者椭圆形结构。
环形热管为铜管。
弯管两端分别密封。
所述水处理材料为环形板状，所述凹槽为环形凹槽，环形板安装在环形凹槽中。
在凹槽的侧壁位置设有将水处理材料可靠固定在凹槽中、防止从凹槽脱出的限位块。
所述水处理材料为在氧化铝、高岭土中添加磁性、过渡金属材料并经℃至℃温度烧制而成的陶瓷材料。
本实用新型的有益效果是：
1.本实用新型的水处理材料3为在氧化铝、高岭土中添加磁性、过渡金属材料并经1300℃至1420℃温度烧制而成的陶瓷材料。利用本实用新型的陶瓷材料对水质进行处理与改善效果好，经过试验测试，对水中镉、铅、汞、六价铬、多溴联苯(PBBs)、多溴二苯醚(PBDEs)、邻苯二甲酸酯(如邻苯二甲酸二丁酯(DBP)、邻苯二甲酸丁苄酯(BBP)、邻苯二甲酸二(2-乙基已基)酯(DEHP)和邻苯二甲酸二异丁酯(DIBP))的测试结果符合欧盟RoHS指令2011/65/EU附录II的修正指令(EU)2015/863的限值要求，有利于身体健康。
2.本实用新型能够对水质进行处理与改善，通过本实用新型能够获得小分子团水并可降低水中耗氧量、浑浊度、氯离子等。
3.通过采用板状结构的水处理材料，或者将粉状及颗粒状结构的水处理材料装入采用扁平结构的环形热管中，环形热管安装在环形凹槽中，能够增加水处理材料与被处理水的作用面积，增强处理效果，提高处理效率，同时对水处理材料进行保护，以保持长期的水处理功效，提高水处理效果。
4.将水处理材料放入环形热管后，将两端断开的、非完全闭合的环形热管密封，能够保持不收外部的污染，从而保证良好的性能、保持良好的水处理效果。
5.通过在凹槽的侧壁位置设有将水处理材料可靠固定在凹槽中、防止从凹槽脱出的限位块，保持水处理材料可靠固定，避免掉出和磕碰划伤造成的损坏，降低使用和维护成本。
附图说明
图1为水壶与底座一体结构示意图；
图2为底座的结构示意图；
图3为环形热管的结构示意图。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型中的技术方案，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
如图1-3所示，一种水壶底座结构，包括座体1，座体1上部设有与水壶3底部接触的支撑面2，在支撑面2上设有能够对水质进行处理与改善的水处理材料5。
所述支撑面2上设有向支撑面内部凹陷的凹槽4，所述水处理材料5设于凹槽4中。
所述凹槽为环形凹槽，所述水处理材料5为粉状及颗粒状结构，所述水处理材料5设于环形热管6中，环形热管安装在环形凹槽中。
所述环形热管为两端8断开的、非完全闭合的弯管。
弯管截面形状为扁平、圆形或者椭圆形结构。
环形热管6为铜管。
弯管两端7分别密封。
所述水处理材料5为环形板状，所述凹槽4为环形凹槽，环形板安装在环形凹槽中。
在凹槽4的侧壁位置设有将水处理材料5可靠固定在凹槽中、防止从凹槽脱出的限位块7。
通过采用板状结构的水处理材料，或者将粉状及颗粒状结构的水处理材料装入采用扁平结构的热管中，能够增加水处理材料与被处理水的作用面积，增强处理效果，提高处理效率。
所述水处理材料3为在氧化铝、高岭土中添加磁性、过渡金属材料并经1300℃至1420℃温度烧制而成的陶瓷材料。
利用本实用新型的陶瓷材料对水质进行处理与改善效果好，经过试验测试，对水中镉、铅、汞、六价铬、多溴联苯(PBBs)、多溴二苯醚(PBDEs)、邻苯二甲酸酯(如邻苯二甲酸二丁酯(DBP)、邻苯二甲酸丁苄酯(BBP)、邻苯二甲酸二(2-乙基已基)酯(DEHP)和邻苯二甲酸二异丁酯(DIBP))的测试结果符合欧盟RoHS指令2011/65/EU附录II的修正指令(EU)2015/863的限值要求。
本实用新型能够对水质进行处理与改善，通过本实用新型能够获得小分子团水并可降低水中耗氧量、浑浊度、氯离子等。
本实用新型的描述中，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“竖直”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了描述本实用新型而不是要求本实用新型必须以特定的方位构造或操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。本实用新型中的“相连”“连接”应作广义理解，例如，可以是连接，也可以是可拆卸连接；可以是直接连接，也可以是通过中间部件间接连接，对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语的具体含义。
以上所述为本实用新型的优选实施方式，具体实施例的说明仅用于更好的理解本实用新型的思想。对于本技术领域的普通技术人员来说，依照本实用新型原理还可以做出若干改进或者同等替换，这些改进或同等替换也视为落在本实用新型的保护范围。
Claims (9)
1.一种水壶底座结构，包括座体，其特征是，所述座体上部设有与水壶底部接触的支撑面，在支撑面上设有能够对水质进行处理与改善的水处理材料；
所述水处理材料为粉状及颗粒状结构，所述水处理材料设于环形热管中，环形热管安装在环形凹槽中。
2.如权利要求1所述的水壶底座结构，其特征是，所述支撑面上设有向支撑面内部凹陷的凹槽，所述水处理材料设于凹槽中。
3.如权利要求1所述的水壶底座结构，其特征是，所述环形热管为两端断开的、非完全闭合的弯管。
4.如权利要求3所述的水壶底座结构，其特征是，弯管截面形状为扁平、圆形或者椭圆形结构。
5.如权利要求1所述的水壶底座结构，其特征是，环形热管为铜管。
6.如权利要求3所述的水壶底座结构，其特征是，弯管两端分别密封。
7.如权利要求2所述的水壶底座结构，其特征是，所述水处理材料为环形板状，所述凹槽为环形凹槽，环形板安装在环形凹槽中。
8.如权利要求2所述的水壶底座结构，其特征是，在凹槽的侧壁位置设有将水处理材料可靠固定在凹槽中、防止从凹槽脱出的限位块。
9.如权利要求1所述的水壶底座结构，其特征是，所述水处理材料为陶瓷材料。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN202022203332.3U CN214208053U (zh) | 2020-09-30 | 2020-09-30 | 水壶底座结构 |
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Publications (1)
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| CN214208053U true CN214208053U (zh) | 2021-09-17 |
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| CN202022203332.3U Active CN214208053U (zh) | 2020-09-30 | 2020-09-30 | 水壶底座结构 |
Country Status (1)
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2020
- 2020-09-30 CN CN202022203332.3U patent/CN214208053U/zh active Active
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