CN213936139U - 一种用于二极管酸洗的酸洗盘 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种用于二极管酸洗的酸洗盘,酸洗盘包括盘体和设置在盘体表面的若干个隔离柱,多个隔离柱围成二极管芯体的放置空间,盘体内开设有气流道,气流道与放置空间通过气孔相连通,气流道口通过气管连接设置于酸洗设备上的进气器,进气器发出的气体通过气流道和气孔进入到放置空间中,从二极管芯体下方向上吹,使二极管芯体翻滚。本实用新型提供的一种用于二极管酸洗的酸洗盘,多个隔离柱围成放置空间,酸洗盘上具有多个放置空间,并且每一个放置空间下方都有气孔与气流道相连通。气体不仅能吹动二极管芯体翻滚,还能搅动酸洗液,使酸洗与二极管芯体接触更加完全和充分。酸洗完全,不留死角,提升酸洗质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及二极管酸洗设备零部件技术领域,尤其涉及一种用于二极管酸洗的酸洗盘。
背景技术
二极管,是电子元件当中,一种具有两个电机的装置,只允许电流由单一方向流过。二极管最普遍的功能就是只允许电流由单一方向通过(称为顺向偏压),反向时阻断(称为逆向偏压)。因此,二极管可以想象成电子版的逆止阀。
现在的轴向二极管的生产工艺,其工艺流程为:引线排向-芯片筛选-芯片装填-焊接-酸洗-上胶-烘烤-塑封-后固化-电镀-印字测试-外检-包装。酸洗的目的是利用酸洗液和水对P-N结周围边缘表面进行化学腐蚀,以改善机械损伤,祛除表面吸附的杂质,降低表面电场,使P-N结的击穿首先从体内发生,以获得与理论值接近的反向击穿电压和极小的表面漏电流。
现有技术中,酸洗时通常是将上引线、芯片和下引线焊接为一体形成的二极管芯体插设在酸洗盘上,然后进行酸洗。但是酸洗液无法与芯体和酸洗盘的接触部分充分接触反应,造成酸洗不完全,从而影响酸洗质量。
实用新型内容
为此,本实用新型要解决的技术问题在于克服现有技术的不足,从而提供一种用于二极管酸洗的酸洗盘,多个隔离柱围成放置空间,酸洗盘上具有多个放置空间,并且每一个放置空间下方都有气孔与气流道相连通。气体不仅能吹动二极管芯体翻滚,还能搅动酸洗液,使酸洗与二极管芯体接触更加完全和充分。酸洗完全,不留死角,提升酸洗质量。
为了实现上述目的,本实用新型提供了一种用于二极管酸洗的酸洗盘,所述酸洗盘放置在开设于酸洗设备上的酸洗槽中,其特征在于,所述酸洗盘包括盘体和设置在盘体表面的若干个隔离柱,多个所述隔离柱围成二极管芯体的放置空间,所述盘体内开设有气流道,所述气流道与放置空间通过气孔相连通,所述气流道口通过气管连接设置于酸洗设备上的进气器,所述进气器发出的气体通过气流道和气孔进入到放置空间中,从二极管芯体下方向上吹,使二极管芯体翻滚。
进一步地,若干所述隔离柱矩形阵列排布,并且行数为两行或三行,所述二极管芯体平行列的方向放置,使二极管芯体的两端或者两端与中部的两侧有隔离柱。
进一步地,所述气流道的高度从入口到底部逐渐减小,使最靠近气管的气孔进气口最高,最远离进气管的气孔进气口最低,使气流道上壁倾斜,由于气孔的进气口呈针头倾斜状,有利于气体进入到对应的气孔中。
进一步地,若干所述气孔的进气口越高,孔径越小,进气口越低,孔径越大,使气体进入到各个气孔中的量相对均匀。
进一步地,所述酸洗槽侧壁上设置有震荡器,所述酸洗盘设置在震荡器上。
进一步地,所述酸洗盘表面和隔离柱外侧均设置有耐酸腐蚀的软质防护层。
本实用新型提供的一种用于二极管酸洗的酸洗盘,多个隔离柱围成放置空间,酸洗盘上具有多个放置空间,并且每一个放置空间下方都有气孔与气流道相连通。气体不仅能吹动二极管芯体翻滚,还能搅动酸洗液,使酸洗与二极管芯体接触更加完全和充分。酸洗完全,不留死角,提升酸洗质量。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式的技术方案,下面根据本实用新型的具体实施例并结合附图,对实用新型作进一步详细说明。
图1为本实用新型的使用状态图;
图2为本实用新型的俯视图;
图3为本实用新型沿气孔的剖视图。
图中各附图标记说明如下。
100、酸洗设备;110、酸洗槽;120、进气器;130、气管;140、震荡器;500、盘体;200、隔离柱;300、气流道;400、气孔。
具体实施方式
下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,术语“正面”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
如图1-图3所示,一种用于二极管酸洗的酸洗盘,酸洗设备100上开设有酸洗槽110,酸洗槽110用于盛放酸洗液,二极管芯体放置与酸洗盘中,然后将酸洗盘放入到酸洗槽110中,使酸洗液漫过二极管芯体。
酸洗盘包括盘体500和设置在盘体500表面的若干隔离柱200,多个隔离柱200围成二极管芯体的放置空间,并且放置于放置空间的二极管芯体与隔离柱200之间具有间隙,使得二极管芯体并不是被夹持住的。盘体500内开设有气流道300,气流道300与放置空间通过气孔400相连通,气流道300的口与设置在酸洗设备100上的进气器120相连接。进气器120产生的气体进入到气流道300中,并通过气孔400进入到放置空间中,从而可从二极管芯体下方向上吹,由于二极管芯体体积小、重量轻,可使其吹拂其并翻滚,使二极管芯体全身都能与酸洗液充分接触,提升酸洗质量。
本实施例中,多个隔离柱200围成放置空间,酸洗盘上具有多个放置空间,并且每一个放置空间下方都有气孔400与气流道300相连通。气体不仅能吹动二极管芯体翻滚,还能搅动酸洗液,使酸洗与二极管芯体接触更加完全和充分。酸洗完全,不留死角,提升酸洗质量。
若干隔离柱200在酸洗盘表面规则排列,具体的,酸洗盘表面的隔离柱200呈矩形阵列排布,并且行数为三行,列数多于行数,二极管芯体平行列的方向放置,即第一行和第三行分别对应于二极管芯体的两端,第二行对应于二极管芯体的中部。列的具体数量根据需求设置,两列可放置一个芯体二极管,三列可放置两个二极管芯体,若可放置二极管芯体为N,列数为n,则N=n+1。
隔离柱200的行数行可以是两行,分别位于二极管芯体的两端,也可形成相对稳定的二极管芯体放置空间。
气流道300的高度从入口到底部逐渐减小,即最靠近气管130的气孔400进气口高度最高,最远离气孔400进气口的高度最低,使气流道300上壁倾斜。气体从进气器120发出后,通过气管130进入到气流道300中,由于气流道300上壁倾斜,使气孔400的进气口呈针头倾斜状,有利于气体进入到对应的气孔400中。
若干气孔400的进气口高度越高,孔径越小,进气口越低,孔径越大。由于气流道300的高度是由入口到底部逐渐减小的,所以,越靠近气流道300入口的气孔400进气口越高,其对应的孔径越小;越靠近气流道300底部的气孔400进气口越低,其对应的孔径越大。刚进入气流道300的气体量大、流速快,所以气流道300入口处的气孔400孔径小,而气流道300底部的气体量小、流速减慢,所以气流道300底部的气孔400孔径大,使气体进入到各个气孔400中的量相对均匀。
酸洗槽110侧壁上设置有震荡器140,酸洗盘设置在震荡器140上。酸洗开始后,打开震荡器140,使酸洗盘轻微震荡摇摆,有利于进一步使二极管芯体在放置空间内翻滚,使二极管芯体与酸洗液充分接触。
进一步的,在酸洗盘表面和隔离柱200的外侧均设置有耐腐蚀的软质防护层,有利于保护二极管芯体,使其不会在翻滚过程中碰撞损坏。
显然,上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例,而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本实用新型创造的保护范围之中。
Claims (6)
1.一种用于二极管酸洗的酸洗盘,所述酸洗盘放置在开设于酸洗设备上的酸洗槽中,其特征在于,所述酸洗盘包括盘体和设置在盘体表面的若干个隔离柱,多个所述隔离柱围成二极管芯体的放置空间,所述盘体内开设有气流道,所述气流道与放置空间通过气孔相连通,所述气流道口通过气管连接设置于酸洗设备上的进气器,所述进气器发出的气体通过气流道和气孔进入到放置空间中,从二极管芯体下方向上吹,使二极管芯体翻滚。
2.根据权利要求1所述的一种用于二极管酸洗的酸洗盘,其特征在于,若干所述隔离柱矩形阵列排布,并且行数为两行或三行,所述二极管芯体平行列的方向放置,使二极管芯体的两端或者两端与中部的两侧有隔离柱。
3.根据权利要求2所述的一种用于二极管酸洗的酸洗盘,其特征在于,所述气流道的高度从入口到底部逐渐减小,使最靠近气管的气孔进气口最高,最远离进气管的气孔进气口最低,使气流道上壁倾斜,由于气孔的进气口呈针头倾斜状,有利于气体进入到对应的气孔中。
4.根据权利要求3所述的一种用于二极管酸洗的酸洗盘,其特征在于,若干所述气孔的进气口越高,孔径越小,进气口越低,孔径越大,使气体进入到各个气孔中的量相对均匀。
5.根据权利要求4所述的一种用于二极管酸洗的酸洗盘,其特征在于,所述酸洗槽侧壁上设置有震荡器,所述酸洗盘设置在震荡器上。
6.根据权利要求5所述的一种用于二极管酸洗的酸洗盘,其特征在于,所述酸洗盘表面和隔离柱外侧均设置有耐酸腐蚀的软质防护层。
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