CN213664033U - 一种主副钻镶嵌组合结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及珠宝技术领域，尤其是一种主副钻镶嵌组合结构。它包括基座、第一钻石、第二钻石、第一镶嵌槽和第二镶嵌槽，所述第一镶嵌槽开设于基座中间，所述第二镶嵌槽围绕第一镶嵌槽的周围均匀分布，所述第一钻石镶嵌于第一镶嵌槽上，所述第二钻石镶嵌于第二镶嵌槽上。本实用新型通过主副钻镶嵌组合结构，能够增大钻石的显钻效果，利用第二镶嵌槽和第二钻石的分布，放大第一钻石的显钻效果，增加立体感，光线照射在第一钻石和第二钻石上，第一钻石和第二钻石共同反射光线，使得钻石更亮，光感更强，更加璀璨夺目，避免了传统钻石显钻效果一般等问题，其结构简单紧凑，具有很强的实用价值和市场推广价值。
Description
技术领域
本实用新型涉及珠宝技术领域，尤其是一种主副钻镶嵌组合结构。
背景技术
目前，随着生活水平的提高，人们的购买力日益增强，珠宝首饰由于其装饰属性以及其具有增值保值的属性，更是得到了人们的偏爱。
现有的珠宝首饰，比如钻石，消费者在购买时，需要考虑在经济条件允许的情况下买到性价比较高的钻石，现有的钻石不满足消费者对钻石的美观性需求和合理的性价比的需求。
实用新型内容
针对上述现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种主副钻镶嵌组合结构。
为了实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：
一种主副钻镶嵌组合结构，它包括基座、第一钻石、第二钻石、第一镶嵌槽和第二镶嵌槽，所述第一镶嵌槽开设于基座中间，所述第二镶嵌槽围绕第一镶嵌槽的周围均匀分布，所述第一钻石镶嵌于第一镶嵌槽上，所述第二钻石镶嵌于第二镶嵌槽上。
优选地，所述第一钻石的亭部部分容置于第一镶嵌槽内，所述所述第二钻石的亭部部分容置于第二镶嵌槽内。
优选地，所述第一镶嵌槽的高度高于第二镶嵌槽。
优选地，所述第二镶嵌槽环形均匀分布于第一钻石镶嵌的周围。
优选地，所述第二镶嵌槽的边沿呈波浪状。
优选地，所述第一镶嵌槽的侧壁与第二镶嵌槽的侧壁紧密贴合。
优选地，所述第一镶嵌槽的边沿向上延伸出限位块，所述第一钻石嵌入限位块中。
由于采用了上述方案，本实用新型通过主副钻镶嵌组合结构，能够增大钻石的显钻效果，利用第二镶嵌槽和第二钻石的分布，放大第一钻石的显钻效果，增加立体感，光线照射在第一钻石和第二钻石上，第一钻石和第二钻石共同反射光线，使得钻石更亮，光感更强，更加璀璨夺目，避免了传统钻石显钻效果一般等问题，其结构简单紧凑，具有很强的实用价值和市场推广价值。
附图说明
图1是本实用新型实施例的结构示意图；
图2是本实用新型实施例的结构俯视图。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的实施例进行详细说明，但是本实用新型可以由权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。
如图1至图2所示，本实施例提供的一种主副钻镶嵌组合结构，它包括基座10、第一钻石20、第二钻石30、第一镶嵌槽40和第二镶嵌槽50，所述第一镶嵌槽40开设于基座10中间，所述第二镶嵌槽50围绕第一镶嵌槽40的周围均匀分布，所述第一钻石20镶嵌于第一镶嵌槽40上，所述第二钻石30镶嵌于第二镶嵌槽50上；
第一钻石20和第二钻石30之间的位置，使得光在经过钻石间的折射反射后，光彩效果得到了放大，加强显钻效果。
基于此，本实用新型通过主副钻镶嵌组合结构，能够增大钻石的显钻效果，利用第二镶嵌槽50和第二钻石30的分布，放大第一钻石20的显钻效果，光线照射在第一钻石20和第二钻石30上，第一钻石20和第二钻石30共同反射光线，使得钻石更亮，光感更强，更加璀璨夺目，避免了传统钻石显钻效果一般等问题，其结构简单紧凑，具有很强的实用价值和市场推广价值。
所述第一钻石20的亭部部分容置于第一镶嵌槽40内，所述所述第二钻石30的亭部部分容置于第二镶嵌槽50内；亭部容置于镶嵌槽内，使得钻石的冠部显露出来。
所述第一镶嵌槽40的高度高于第二镶嵌槽50；这种高低落差的设计，使得第一钻石20与第二钻石30更加有层次感，增加立体感。
所述第二镶嵌槽50环形均匀分布于第一钻石20镶嵌的周围；提升观赏性，当然，在其他实施例中也可以呈心形等等形状。
所述第二镶嵌槽50的边沿呈波浪状；当然，在其他实施例中也可以呈圆弧状等等。
所述第一镶嵌槽40的侧壁与第二镶嵌槽50的侧壁紧密贴合，使得第一钻石20和第二钻石30共同反射光线时，钻石璀璨夺目，让人的视觉无法分辨出是一整块大的钻石还是其他小钻石组成的，则可以用较小成本获得最大的显钻效果。
所述第一镶嵌槽40的边沿向上延伸出限位块60，所述第一钻石20嵌入限位块60中；第一钻石20镶入第一镶嵌槽40，限位块60用于限制第一钻石20移动。
以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
Claims (7)
1.一种主副钻镶嵌组合结构，其特征在于：它包括基座、第一钻石、第二钻石、第一镶嵌槽和第二镶嵌槽，所述第一镶嵌槽开设于基座中间，所述第二镶嵌槽围绕第一镶嵌槽的周围均匀分布，所述第一钻石镶嵌于第一镶嵌槽上，所述第二钻石镶嵌于第二镶嵌槽上。
2.如权利要求1所述的一种主副钻镶嵌组合结构，其特征在于：所述第一钻石的亭部部分容置于第一镶嵌槽内，所述第二钻石的亭部部分容置于第二镶嵌槽内。
3.如权利要求1所述的一种主副钻镶嵌组合结构，其特征在于：所述第一镶嵌槽的高度高于第二镶嵌槽。
4.如权利要求1所述的一种主副钻镶嵌组合结构，其特征在于：所述第二镶嵌槽环形均匀分布于第一钻石镶嵌的周围。
5.如权利要求1所述的一种主副钻镶嵌组合结构，其特征在于：所述第二镶嵌槽的边沿呈波浪状。
6.如权利要求1所述的一种主副钻镶嵌组合结构，其特征在于：所述第一镶嵌槽的侧壁与第二镶嵌槽的侧壁紧密贴合。
7.如权利要求1所述的一种主副钻镶嵌组合结构，其特征在于：所述第一镶嵌槽的边沿向上延伸出限位块，所述第一钻石嵌入限位块中。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN202022821785.2U CN213664033U (zh) | 2020-11-30 | 2020-11-30 | 一种主副钻镶嵌组合结构 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN213664033U true CN213664033U (zh) | 2021-07-13 |
Family
ID=76737196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| CN202022821785.2U Active CN213664033U (zh) | 2020-11-30 | 2020-11-30 | 一种主副钻镶嵌组合结构 |
Country Status (1)
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| CN (1) | CN213664033U (zh) |
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2020
- 2020-11-30 CN CN202022821785.2U patent/CN213664033U/zh active Active
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