CN213404091U - 一种可自动控制开沟深度的开沟装置 - Google Patents
一种可自动控制开沟深度的开沟装置 Download PDFInfo
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Abstract
本申请提供一种可自动控制开沟深度的开沟装置,其特征在于,包括开沟刀盘、开沟刀、开沟刀盘升降油缸、导流罩、激光测距传感器、传动轴1、传动轴2。所述传动轴1设有固定台,传动轴1与传动轴2间设有连接架1,传动轴2与开沟刀盘转轴间设有连接架2,所述连接架1和连接架2上设有开沟刀盘升降油缸,所述开沟刀盘转轴上设有开沟刀盘和导流罩,所述开沟刀盘上设有一排开沟刀,所述导流罩上设有激光测距传感器。本装置能够实时监测开沟深度并能够调节开沟深度。
Description
技术领域
本专利涉及农业机械领域,具体而言,涉及开沟深度可控的开沟装置以及开沟机。
背景技术
施肥环节对水果的产量、品质的影响极为重要,合理的施肥方式应该将肥料施放于距离果树一定高度的根系附近。目前的开沟施肥机在施肥作业时,大多难以实现开沟深度的控制,开沟效果不理想,造成施肥效果不好,从而影响农作物产量、品质。
实用新型内容
本申请实施例的目的在于提供一种开沟深度可控的开沟装置以及开沟机,该开沟装置能够实时监测开沟深度并能够调节开沟深度。
本申请实施例提供了一种开沟装置,该开沟装置包括:开沟装置、传动装置、检测装置、调节装置以及控制装置。开沟装置包括用于开沟的开沟刀和固定开沟刀的开沟刀盘;传动装置包括传动轴一、传动轴二、开沟刀盘转轴;检测装置设置在导流罩上,用于检测开沟深度;调节装置设置在连接架(连接架一、二)上,用于调节开沟深度;控制装置连接所述检测装置以及所述调节装置,用于根据所述检测装置检测到的开沟深度控制所述调节装置调节所述开沟深度。
附图说明
图1为本申请实施例提供的一种开沟装置的结构示意图;
图2为本申请实施例提供的一种开沟深度检测原理图。
图3为本申请实施例提供的一种开沟装置的控制流程图。
图1中的编码为:1、传动轴一2、传动轴二3、连接架一4、连接架二
5、激光测距传感器6、开沟刀7、开沟刀盘转轴8、导流罩9、开沟刀盘升降油缸10、机架11、固定台12、开沟刀盘
图2中的编码为:1、半导体激光器2、透镜一3、透镜二4、光电探测器件5、信号处理器
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行描述。
传动轴一连接开沟机动力输出,然后将动力传输至传动轴二再传递至开沟刀盘转轴,带动开沟刀盘顺时针转动切削土壤完成开沟;导流罩防止土壤四处飞溅,使其落回所开沟中。
控制器通过控制电磁阀控制开沟刀盘升降油缸的伸缩,使传动轴二与开沟刀盘分别绕传动轴一与传动轴二开始转动,使开沟刀盘在竖直方向高度发生变化,完成开沟深度的改变。控制原理图如图3。
下面结合图2具体说明开沟深度计算过原理:
激光器发出的光束被透镜一聚焦到被测面上,经地面漫反射后被透镜二收集并投射于光电探测器件上,当被测面高度改变后,光电探测器件上的像点也发生移动。设:L为激光束光轴的交点到接收透镜前主面的距离;L’为透镜二后主面到成像面中心点的距离;θ为激光束与透镜二光轴之间的夹角;像点在光电探测器件上移动的距离为 S;被测面移动的距离为H;由图得出:
整理后有:
下面结合图3具体说明开沟深度控制原理:
开沟工作前,操作人员在显示器中输入目标开沟深度,然后该值传输至控制器。开沟工作时,控制器比较激光测距传感器传输的实时开沟深度,当该值大于允许误差e(受电磁阀、油缸等硬件响应误差影响)时,控制器控制电磁阀进而操纵开沟刀盘升降油缸伸缩,直至实时开沟深度满足要求,达到自动控制开沟深度的效果。
Claims (6)
1.一种可自动控制开沟深度的开沟装置,其特征在于,包括:
开沟装置,包括开沟刀盘和固定在开沟刀盘上用于开沟的开沟刀;
传动装置,包括传动轴一,传动轴二,开沟刀盘转轴;
检测装置,包括激光测距传感器,设置在导流罩上,用于检测开沟深度;
调节装置,包括开沟刀盘升降油缸,设置在连接架一和连接架二上,用于调节开沟深度;
控制装置,包括控制器和电磁阀,用于控制开沟刀盘升降油缸伸缩。
2.根据权利要求1所述的一种可自动控制开沟深度的开沟装置,其特征在于,所述传动轴一包括:
固定台,设置在传动轴一上,用于连接传动轴一与机架;
连接架一,用于连接传动轴一与传动轴二。
3.根据权利要求1所述的一种可自动控制开沟深度的开沟装置,其特征在于,所述传动轴二包括:
连接架二,用于连接传动轴二与开沟刀盘转轴。
4.根据权利要求1所述的一种可自动控制开沟深度的开沟装置,其特征在于,所述开沟刀盘转轴包括:
导流罩,使开沟刀转动带出的土壤重新回到所开沟中,防止土壤四散飞溅。
5.根据权利要求2所述的一种可自动控制开沟深度的开沟装置,其特征在于,所述连接架一包括:
开沟刀盘升降油缸,通过底座连接在连接架一与连接架二上。
6.根据权利要求2所述的一种可自动控制开沟深度的开沟装置,其特征在于,所述导流罩包括:
激光测距传感器,用于测量开沟深度。
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CN202021151727.7U CN213404091U (zh) | 2020-06-19 | 2020-06-19 | 一种可自动控制开沟深度的开沟装置 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN114788444A (zh) * | 2022-06-24 | 2022-07-26 | 农业农村部南京农业机械化研究所 | 一种施肥机的施肥深度调控方法 |
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2020
- 2020-06-19 CN CN202021151727.7U patent/CN213404091U/zh not_active Expired - Fee Related
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