CN213388209U - 一种紧凑型加炭加磁介质混凝沉淀深度处理系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种紧凑型加炭加磁介质混凝沉淀深度处理系统，包括：第一、第二处理单元、总池体、出水渠和泵房设备间；其中，第一、第二处理单元并列设置于总池体；第一、第二处理单元的结构相同；泵房设备间设置在第一、第二处理单元前端之间的总池体内；第一、第二处理单元均包括：依次连接的格栅渠、粉末活性炭加载池、PAC投加池、磁粉加载池、絮凝池和高效斜管沉淀池；出水渠设置在总池体的后端外，与第一处理单元和第二处理单元的出水端连接。通过将各部分泵房合建，采用紧凑型布置结构，节省占地合建于总池体内，能实现紧凑型布置结构，节省占地，由于采用了两套并列的处理单元不仅处理效率高，而且均能达到较好的处理效果。

Description

一种紧凑型加炭加磁介质混凝沉淀深度处理系统

技术领域

本实用新型涉及污水深度处理领域，尤其涉及一种紧凑型加炭加磁介质混凝沉淀深度处理系统。

背景技术

随着社会的发展，对环境保护的要求越来越高，污水处理厂面临提标改造工作。其中 COD、TP的出水标准往往会提升，但往往生化池处理潜力有限，较难挖掘，因此需要一种针对COD、TP、SS的深度处理技术。

目前多数厂采用高效沉淀池及臭氧工艺，但该工艺面临占地大，安全要求高、臭氧单元长期闲置、总投资高的问题。而许多污水处理厂存在预留地不够且无法征地的现状，因此，如何提供一种占地小、对COD、TP及SS处理效果好的深度处理工艺，以便于提标改造是需要解决的问题。

实用新型内容

基于现有技术所存在的问题，本实用新型的目的是提供一种紧凑型加炭加磁介质混凝沉淀深度处理系统，能解决现有深度处理工艺，所存在的占地面积大以及处理效果不好的问题。

本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的：

本实用新型实施方式提供一种紧凑型加炭加磁介质混凝沉淀深度处理系统，包括：

第一处理单元、第二处理单元、总池体、出水渠和泵房设备间；其中，

所述第一处理单元与第二处理单元并列设置于所述总池体；

所述第一处理单元与所述第二处理单元的结构相同；

所述泵房设备间设置在所述第一处理单元与第二处理单元前端之间的所述总池体内；

所述第一处理单元与所述第二处理单元均包括：设置在所述总池体前端外的格栅渠、从前至后设置在所述总池体内的粉末活性炭加载池、PAC投加池、磁粉加载池、絮凝池和高效斜管沉淀池，以及设置在所述泵房设备间内的回流污泥泵和剩余污泥泵，所述格栅渠与所述粉末活性炭加载池、PAC投加池、磁粉加载池、絮凝池和高效斜管沉淀池依次连接；所述PAC投加池与所述磁粉加载池并列设置在所述粉末活性炭加载池后端；所述PAC投加池与所述总池体共壁设置；所述磁粉加载池和絮凝池均与所述泵房设备间共壁设置；所述高效斜管沉淀池底部分别设有剩余污泥管和回连至所述絮凝池的回流污泥管，所述剩余污泥泵连接在所述剩余污泥管上，所述回流污泥泵连接在所述回流污泥管上；

所述出水渠设置在所述总池体的后端外侧，与所述第一处理单元和第二处理单元的出水端连接。

由上述本实用新型提供的技术方案可以看出，本实用新型实施例提供的紧凑型加炭加磁介质混凝沉淀深度处理系统，其有益效果为：

通过将第一、第二处理单元与泵房合建，采用紧凑型布置结构，节省占地合建于总池体内，能实现紧凑型布置结构，节省占地，由于采用了两套并列的处理单元不仅处理效率高，而且每套处理单元由依次连接的格栅渠和粉末活性炭加载池、PAC投加池、磁粉加载池、絮凝池和高效斜管沉淀池组成，均能达到较好的处理效果。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他附图。

图1为本实用新型实施例提供的紧凑型加炭加磁介质混凝沉淀深度处理系统的俯视平面示意图；

图2为本实用新型实施例提供的紧凑型加炭加磁介质混凝沉淀深度处理系统的泵房剖面示意图；

图3为本实用新型实施例提供的紧凑型加炭加磁介质混凝沉淀深度处理系统的池体剖面示意图；

图中各标记对应的部件名称为：1-格栅渠；2-粉末活性炭加载池；3-PAC投加池；4-磁粉加载池；5-絮凝池；6-高效斜管沉淀池；7-剩余污泥暂存池；8-出水渠；9-冲洗水池；10-泵房设备间；A-电动内进流孔板格栅；B-双层桨叶搅拌机；C-刮泥机；D-剩余污泥泵； E-回流污泥泵；F-高剪机；G-磁分离机；H-剩余污泥转输泵；I-冲洗水泵；J-粉末活性炭投加辅助设备；K-粉末活性炭料仓；L-粉末活性炭射流投加装置；11-回流污泥管；12-剩余污泥管。

具体实施方式

下面结合本实用新型的具体内容，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型的保护范围。本实用新型实施例中未作详细描述的内容属于本领域专业技术人员公知的现有技术。

如图1至图3所示，本实用新型实施例提供一种紧凑型加炭加磁介质混凝沉淀深度处理系统，包括：

第一处理单元、第二处理单元、总池体、出水渠8和泵房设备间10；其中，

所述第一处理单元与第二处理单元并列设置于所述总池体；

所述第一处理单元与所述第二处理单元的结构相同；

所述泵房设备间10设置在所述第一处理单元与第二处理单元前端之间的所述总池体内；

所述第一处理单元与所述第二处理单元均包括：设置在所述总池体前端外的格栅渠、从前至后设置在所述总池体内的粉末活性炭加载池、PAC投加池、磁粉加载池、絮凝池和高效斜管沉淀池，以及设置在所述泵房设备间10内的回流污泥泵E和剩余污泥泵D，所述格栅渠与所述粉末活性炭加载池、PAC投加池、磁粉加载池、絮凝池和高效斜管沉淀池依次连接；所述PAC投加池与所述磁粉加载池并列设置在所述粉末活性炭加载池后端；所述 PAC投加池与所述总池体共壁设置；所述磁粉加载池和絮凝池均与所述泵房设备间共壁设置；所述高效斜管沉淀池底部分别设有剩余污泥管和回连至所述絮凝池的回流污泥管，所述剩余污泥泵D连接在所述剩余污泥管上，所述回流污泥泵E连接在所述回流污泥管上；

所述出水渠8设置在所述总池体的后端外侧，与所述第一处理单元和第二处理单元的出水端连接。

上述深度处理系统中，所述第一处理单元与所述第二处理单元的格栅渠内均设有电动内进流孔板格栅A；

所述第一处理单元与所述第二处理单元的粉末活性炭加载池、PAC投加池、磁粉加载池和絮凝池均设置双层桨叶搅拌机B；

所述高效斜管沉淀池的前端设有进水廊道，内部上端设有蜂窝斜管，内部底部设有刮泥机C，该高效斜管沉淀池的后端设置与所述出水渠8连接的集水槽。

上述深度处理系统中，PAC投加池的双层桨叶搅拌机B的搅拌速度梯度为350～400S^-1；

所述磁粉加载池的双层桨叶搅拌机B的搅拌速度梯度为300～350S^-1；

所述絮凝池的双层桨叶搅拌机B的搅拌速度梯度为150～200S^-1。

上述深度处理系统中，第一处理单元与所述第二处理单元的前端的格栅渠内均设有电动内进流孔板格栅A。

上述深度处理系统还包括：剩余污泥暂存池7、潜污式剩余污泥转输泵H、冲洗水池9 和冲洗水泵I；其中，

所述剩余污泥暂存池7与所述第一处理单元的絮凝池5并列设置，处于该絮凝池5的外侧，该剩余污泥暂存池7与所述总池体共壁设置；

所述潜污式剩余污泥转输泵H设置在所述剩余污泥暂存池7内；

所述冲洗水池9与所述第二处理单元的絮凝池并列设置，处于该第二处理单元的絮凝池的外侧，该冲洗水池9与所述总池体共壁设置；

所述冲洗水泵I设置于所述冲洗水池9内，分别经冲洗管路与所述第一处理单元和第二处理单元的高效斜管沉淀池连接。

上述深度处理系统还包括：高剪机F、磁分离机G、粉末活性炭料仓K、粉末活性炭投加辅助设备J和粉末活性炭射流投加装置L；其中，

所述高剪机F和磁分离机G均设置于所述泵房设备间10的上部，所述第一处理单元和第二处理单元的高效斜管沉淀池的泵后剩余污泥管依次与所述高剪机F和磁分离机G连接，所述磁分离机G的磁粉出口分别与所述第一处理单元和第二处理单元的磁粉加载池连接，该磁分离机G的外排剩余污泥出口与所述剩余污泥暂存池7连接；

所述粉末活性炭料仓K设置在所述总池体外部，所述粉末活性炭投加辅助设备J设置在所述泵房设备间10内，所述粉末活性炭料仓K经所述粉末活性炭射流投加装置L分别与所述第一处理单元和第二处理单元的粉末活性炭加载池连接，粉末活性炭投加辅助设备 J为粉末活性炭料仓K及粉末活性炭射流投加装置L提供稳定能源。

上述深度处理系统中，粉末活性炭投加辅助设备J由分别与储罐连接的空压机和冷干机组成。

上述深度处理系统还包括：两个TP在线仪表和PAC投加装置；其中，

所述两个TP在线仪表分别设置在所述第一处理单元和第二处理单元所述的格栅渠1 处，与所述PAC投加装置通信连接；

所述PAC投加装置设置在厂区加药间内，分别与所述第一处理单元和第二处理单元的 PAC投加池连接，能根据所述TP在线仪表的反馈信号向PAC投加池投加对应量的药剂。

上述深度处理系统中，第一处理单元与所述第二处理单元沿所述总池体的纵向中线相互对称。能增加总池体内布局的紧凑型，减少占地面积。

本实用新型的深度处理系统能对市政污水深度处理及提标改造工程也可用于占地紧张的新建工程，重点去除二级处理后，污水中的COD、TP、SS，每套池体适用于处理规模2万吨以上的污水处理厂。

下面对本实用新型实施例具体作进一步地详细描述。

如图1至3所示，本实用新型实施例提供的紧凑型加炭加磁介质混凝沉淀深度处理系统，各部分合建于总池体内，包括结构相同的第一处理单元和第二处理单元，每个处理单元均包括依次连接的格栅渠1、粉末活性炭加载池2、PAC投加池3、磁粉加载池4、絮凝池5和高效斜管沉淀池6，两个处理单元后端出水连接出水渠8；附属部分包括：剩余污泥暂存池7、冲洗水池9、泵房设备间10、磁分离设备(包括：高剪机F和磁分离机G)、粉末活性炭投加辅助设备J、粉末活性炭料仓K及粉末活性炭射流投加装置L。

污水经过二级处理后进入该处理系统，在各处理单元内，依次经过格栅渠1、粉末活性炭加载池2、PAC投加池3、磁粉加载池4、絮凝池5、高效斜管沉淀池6处理后，经出水渠8出水；其中，高效斜管沉淀池6的底部设有两根污泥管，分别是回流污泥管11和剩余污泥管12，回流污泥管11回连至本处理单元的絮凝池，回流污泥至絮凝池，回流污泥管上设置回流污泥泵E，剩余污泥管12连接至磁分离设备的高剪机F和磁分离机G，剩余污泥管上设置剩余污泥泵D，将剩余污泥输送至高剪机F、磁分离机G，磁分离机将回收的磁粉和外排剩余污泥分离，回收的磁粉回流至磁粉加载池4，外排的剩余污泥送至剩余污泥暂存池7。

上述处理系统中，所述格栅渠、粉末活性炭加载池、PAC投加池、磁粉加载池、絮凝池、剩余污泥暂存池、冲洗水池及高效斜管沉淀池、泵房合建，采用紧凑型布置结构，节省占地。所述格栅渠设置电动内进流孔板格栅A；粉末活性炭加载池、PAC投加池、磁粉加载池设置专用双层桨叶搅拌机B，采用SS304材质；絮凝池采用双层桨叶搅拌机B，采用SS304材质，并配置变频调速装置。所述高效斜管沉淀池设置进水廊道、蜂窝斜管、集水槽、刮泥机C。泵房配置剩余污泥泵D、回流污泥泵E、污泥管路、反冲洗管路、粉末活性炭投加辅助设备J。泵房上部设置高剪机F及磁分离机G。剩余污泥暂存池设置潜污式剩余污泥转输泵H，冲洗水池设置冲洗水泵I用于清洗斜管区。池体旁设置粉末活性炭料仓K及粉末活性炭射流投加装置L

作为进一步优化，整套系统进水端设置电动内进流孔板格栅，用于去除二沉池出水携带的藻类及杂质，减少粉末活性炭及磁混凝的污泥系统堵塞。

作为进一步优化，PAC投加池搅拌速度梯度为350～400S^-1，磁粉加载池搅拌速度梯度为300～350S^-1，絮凝池搅拌速度梯度为150～200S^-1。

作为进一步优化，高剪机材质采用高耐磨合金材质或SS316材质。

作为进一步优化，整套系统进水处设置TP在线仪表，PAC投加系统加药量根据TP在线仪表反馈数据调整，保证精细化运行及出水稳定达标。回流污泥泵、剩余污泥泵采用耐磨耐腐蚀的渣浆泵，叶轮形式采用开式叶轮，减少磨损及维护量。

作为进一步优化，高效斜管沉淀池底部排泥管采用倾斜向上无弯头设计，减少污泥堵塞概率，并采用不锈钢管套耐磨材质管道的双层管，即保证强度又保证耐磨性。

作为进一步优化，磁粉选用高纯度四氧化三铁，目数为120～150，品位要求≥67，投加量控制在3mg/L以下。

作为进一步优化，粉末活性炭投加系统采用射流投加系统，其辅助设备直接设置于泵房设备间内，无需另建粉末活性炭投加间，且粉末活性炭射流投加系统可更节省占地，且能使粉末活性炭与原水更充分混合，提高反应效率。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型披露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应该以权利要求书的保护范围为准。

Claims (9)

1.一种紧凑型加炭加磁介质混凝沉淀深度处理系统，其特征在于，包括：

第一处理单元、第二处理单元、总池体、出水渠(8)和泵房设备间(10)；其中，

所述第一处理单元与第二处理单元并列设置于所述总池体；

所述第一处理单元与所述第二处理单元的结构相同；

所述泵房设备间(10)设置在所述第一处理单元与第二处理单元前端之间的所述总池体内；

所述第一处理单元与所述第二处理单元均包括：设置在所述总池体前端外的格栅渠、从前至后设置在所述总池体内的粉末活性炭加载池、PAC投加池、磁粉加载池、絮凝池和高效斜管沉淀池，以及设置在所述泵房设备间(10)内的回流污泥泵(E)和剩余污泥泵(D)，所述格栅渠与所述粉末活性炭加载池、PAC投加池、磁粉加载池、絮凝池和高效斜管沉淀池依次连接；所述PAC投加池与所述磁粉加载池并列设置在所述粉末活性炭加载池后端；所述PAC投加池与所述总池体共壁设置；所述磁粉加载池和絮凝池均与所述泵房设备间共壁设置；所述高效斜管沉淀池底部分别设有剩余污泥管(12)和回连至所述絮凝池的回流污泥管(11)，所述剩余污泥泵(D)连接在所述剩余污泥管(12)上，所述回流污泥泵(E)连接在所述回流污泥管(11)上；

所述出水渠(8)设置在所述总池体的后端外侧，与所述第一处理单元和第二处理单元的出水端连接。

2.根据权利要求1所述的紧凑型加炭加磁介质混凝沉淀深度处理系统，其特征在于，所述第一处理单元与所述第二处理单元的格栅渠内均设有电动内进流孔板格栅(A)；

所述第一处理单元与所述第二处理单元的粉末活性炭加载池、PAC投加池、磁粉加载池和絮凝池均设置双层桨叶搅拌机(B)；

所述高效斜管沉淀池的前端设有进水廊道，内部上端设有蜂窝斜管，内部底部设有刮泥机(C)，该高效斜管沉淀池的后端设置与所述出水渠(8)连接的集水槽。

3.根据权利要求2所述的紧凑型加炭加磁介质混凝沉淀深度处理系统，其特征在于，所述PAC投加池的双层桨叶搅拌机(B)的搅拌速度梯度为350～400S^-1；

所述磁粉加载池的双层桨叶搅拌机(B)的搅拌速度梯度为300～350S^-1；

所述絮凝池的双层桨叶搅拌机(B)的搅拌速度梯度为150～200S^-1。

4.根据权利要求1至3任一项所述的紧凑型加炭加磁介质混凝沉淀深度处理系统，其特征在于，所述第一处理单元与所述第二处理单元的格栅渠前端均设有电动内进流孔板格栅(A)。

5.根据权利要求1至3任一项所述的紧凑型加炭加磁介质混凝沉淀深度处理系统，其特征在于，还包括：剩余污泥暂存池(7)、潜污式剩余污泥转输泵(H)、冲洗水池(9)、和冲洗水泵(I)；其中，

所述剩余污泥暂存池(7)与所述第一处理单元的絮凝池(5)并列设置，处于该絮凝池(5)的外侧，该剩余污泥暂存池(7)与所述总池体共壁设置；

所述潜污式剩余污泥转输泵(H)设置在所述剩余污泥暂存池(7)内；

所述冲洗水池(9)与所述第二处理单元的絮凝池并列设置，处于该第二处理单元的絮凝池的外侧，该冲洗水池(9)与所述总池体共壁设置；

所述冲洗水泵(I)设置于所述冲洗水池(9)内，分别经冲洗管路与所述第一处理单元和第二处理单元的高效斜管沉淀池连接。

6.根据权利要求5所述的紧凑型加炭加磁介质混凝沉淀深度处理系统，其特征在于，还包括：高剪机(F)、磁分离机(G)、粉末活性炭料仓(K)、粉末活性炭投加辅助设备(J)和粉末活性炭射流投加装置(L)；其中，

所述高剪机(F)和磁分离机(G)均设置于所述泵房设备间(10)的上部，所述第一处理单元和第二处理单元的高效斜管沉淀池的剩余污泥管依次与所述高剪机(F)和磁分离机(G)连接，所述磁分离机(G)的磁粉出口分别与所述第一处理单元和第二处理单元的磁粉加载池连接，该磁分离机(G)的外排剩余污泥出口与所述剩余污泥暂存池(7)连接；

所述粉末活性炭料仓(K)设置在所述总池体外部，所述粉末活性炭投加辅助设备(J)设置在所述泵房设备间(10)内，所述粉末活性炭料仓(K)经所述粉末活性炭射流投加装置(L)分别与所述第一处理单元和第二处理单元的粉末活性炭加载池连接。

7.根据权利要求6所述的紧凑型加炭加磁介质混凝沉淀深度处理系统，其特征在于，所述粉末活性炭投加辅助设备(J)由分别与储罐连接的空压机和冷干机组成。

8.根据权利要求1或2所述的紧凑型加炭加磁介质混凝沉淀深度处理系统，其特征在于，还包括：两个TP在线仪表和一个PAC投加装置；其中，

所述两个TP在线仪表分别设置在所述第一处理单元和第二处理单元的格栅渠(1)的进水口处，与所述PAC投加装置通信连接；

所述PAC投加装置设置在厂区加药间内，分别与所述第一处理单元和第二处理单元的PAC投加池连接，能根据所述TP在线仪表的反馈信号向PAC投加池投加对应量的药剂。

9.根据权利要求1至3任一项所述的紧凑型加炭加磁介质混凝沉淀深度处理系统，其特征在于，所述第一处理单元与所述第二处理单元沿所述总池体的纵向中线相互对称。

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