CN212760062U - 一种化妆品生产用原料清洗装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种化妆品生产用原料清洗装置,包括水池,水池顶部外壁一侧固定有支撑板,且支撑板一侧外壁靠近顶部的位置固定有液压机,所述液压机一侧外壁固定有液压杆,且液压杆一端固定有固定块,所述固定块底部外壁设置有伸缩杆,且伸缩杆一端固定有连接块,所述连接块一侧外壁固定有清洗箱,所述水池顶部外壁两端靠近右侧的位置均固定有支撑柱,且支撑柱顶部外壁固定有顶板,所述顶板底部外壁固定有鼓风机,且鼓风机底部外壁设置有导风管,所述导风管一端设置有出风口。本实用新型利用超声波对原料表面进行完全清洗,并且在清洗完成后对原料表面进行风干,避免原料变质,同时设置喷头双重清洗原料,确保原料被清洗干净。
Description
技术领域
本实用新型涉及原料清洗装置技术领域,尤其涉及一种化妆品生产用原料清洗装置。
背景技术
化妆品如今已然是爱美女性生活中不可或缺的一部分,它的原料有很多,比如芦荟等等,这些原料在加工之前都需要深度的清洗,避免在化妆品中混入泥土等杂质降低化妆品质量。
常规给化妆品原料清洗都是直接拿水冲,然后用刷子刷去表面的泥土,这种做法效率低,冲洗不干净更无法深层次的清理污垢,尤其是原料表面沟壑里面的污垢,同时清洗过后不能及时风干原料,原料可能会变质,影响到化妆品质量,因此,我们需要设计一种化妆品生产用原料清洗装置来改善这类问题。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种化妆品生产用原料清洗装置。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
一种化妆品生产用原料清洗装置,包括水池,水池顶部外壁一侧位于中间的位置固定有支撑板,且支撑板一侧外壁靠近顶部的位置固定有液压机,所述液压机一侧外壁固定有液压杆,且液压杆一端固定有固定块,所述固定块底部外壁设置有伸缩杆,且伸缩杆一端固定有连接块,所述连接块一侧外壁固定有清洗箱,且清洗箱表面设置有多个小孔,所述水池顶部外壁两端靠近右侧的位置均固定有支撑柱,且支撑柱顶部外壁固定有顶板,所述顶板底部外壁固定有鼓风机,且鼓风机底部外壁设置有导风管,所述导风管一端设置有出风口。
作为本实用新型再进一步的方案:所述水池一侧外壁靠近底部的位置设置有出水管,且出水管外壁设置有开关阀。
作为本实用新型再进一步的方案:所述出水管内部设置有过滤网。
作为本实用新型再进一步的方案:所述水池底部内壁固定有超声波发生器。
作为本实用新型再进一步的方案:所述水池顶部外壁位于顶板下方的位置设置有放置网。
作为本实用新型再进一步的方案:所述水池底部内壁固定有水泵,且水泵顶部外壁设置有水管。
作为本实用新型再进一步的方案:所述水管一端设置有喷头,所述水管延伸至水池上部。
本实用新型的有益效果为:
1.通过设置的鼓风机,能够将刚清洗完的原料进行风干,避免原料表面长时间附着水分导致发芽或者变质,从而影响到化妆品的质量;
2.通过设置的清洗箱和超声波发生器,能够利用超声波发生器将清洗箱内部原料表面上的污垢全部振落并且清洗,即便是位于沟壑中的顽固泥垢也会被清洗掉,保证清洗完全,便于后续的加工,从而使化妆品的质量得到保证;
3.通过设置的喷头,能够对原料进行二次冲洗,防止有少量的顽固泥垢在超声波振落后依然附着在原料表面,使原料得到完全清洗,确保原料被清洗干净,然后进入下一环节。
附图说明
图1为实施例1提出的一种化妆品生产用原料清洗装置的立体结构示意图;
图2为实施例1提出的一种化妆品生产用原料清洗装置的风干装置结构示意图;
图3为实施例1提出的一种化妆品生产用原料清洗装置的局部结构示意图;
图4为实施例2提出的一种化妆品生产用原料清洗装置的局部结构示意图。
图中:1出水管、2开关阀、3水池、4支撑板、5连接块、6伸缩杆、7固定块、8清洗箱、9顶板、10支撑柱、11放置网、12鼓风机、13导风管、14出风口、15过滤网、16超声波发生器、17液压机、18喷头、19水管、20水泵。
具体实施方式
下面详细描述本专利的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本专利,而不能理解为对本专利的限制。
在本专利的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本专利和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本专利的限制。
在本专利的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“设置”应做广义理解,例如,可以是固定相连、设置,也可以是可拆卸连接、设置,或一体地连接、设置。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本专利中的具体含义。
实施例1
参照图1-3,一种化妆品生产用原料清洗装置,包括水池3,水池3顶部外壁一侧位于中间的位置通过螺栓连接有支撑板4,且支撑板4一侧外壁靠近顶部的位置通过螺栓连接有液压机17,液压机17一侧外壁通过螺栓连接有液压杆,且液压杆一端通过螺栓连接有固定块7,固定块7底部外壁设置有伸缩杆6,且伸缩杆6一端通过螺栓连接有连接块5,连接块5一侧外壁通过螺栓连接有清洗箱8,且清洗箱8表面设置有多个小孔,水池3顶部外壁两端靠近右侧的位置均通过螺栓连接有支撑柱10,且支撑柱10顶部外壁通过螺栓连接有顶板9,顶板9底部外壁通过螺栓连接有鼓风机12,且鼓风机12底部外壁设置有导风管13,导风管13一端设置有出风口14。
其中,水池3一侧外壁靠近底部的位置设置有出水管1,且出水管1外壁设置有开关阀2,出水管1内部设置有过滤网15,水池3底部内壁通过螺栓连接有超声波发生器16,水池3顶部外壁位于顶板9下方的位置设置有放置网11。
工作原理:使用时,先关闭开关阀2,然后往水池3中灌入足够的水,然后将需要清洗的化妆品原料放入清洗箱8中,打开超声波发生器16,控制液压杆和伸缩杆6,将清洗箱8送入水池3内部,然后超声波将原料表面的泥垢振落并清洗,清洗完成后,液压杆和伸缩杆6将清洗箱8送入风干装置,鼓风机12开始工作,通过导风管13将风送至出风口14,从而对清洗箱8内的原料进行风干,等到风干完成后,工作人员即可取出原料并且更换下一批待清洗原料,当全部清洗完成后,打开开关阀2,使污水从排水管1排出,设置的过滤网15将过滤掉水中的泥垢,下次使用时在重复上述步骤。
实施例2
参照图4,一种化妆品生产用原料清洗装置,本实施例相较于实施例1,水池3底部内壁通过螺栓连接有水泵20,且水泵20顶部外壁设置有水管19,水管19一端设置有喷头18,水管19延伸至水池上部。
工作原理:使用时,先关闭开关阀2,然后往水池3中灌入足够的水,然后将需要清洗的化妆品原料放入清洗箱8中,打开超声波发生器16,控制液压杆和伸缩杆6,将清洗箱8送入水池3内部,然后超声波将原料表面的泥垢振落并清洗,清洗完成后,液压杆和伸缩杆6将清洗箱8拉回水池3外部,此时水泵20开始工作,将水池3中的水抽起来通过喷头18喷出,对依然附着在原料表面的泥垢进行最后冲洗,确保原料表面被清洗干净,然后液压机17和伸缩杆6将清洗箱8送入风干装置,鼓风机12开始工作,通过导风管13将风送至出风口14,从而对清洗箱8内的原料进行风干,等到风干完成后,工作人员即可取出原料并且更换下一批待清洗原料,当全部清洗完成后,打开开关阀2,使污水从排水管1排出,设置的过滤网15将过滤掉水中的泥垢,下次使用时在重复上述步骤。
以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种化妆品生产用原料清洗装置,包括水池(3),其特征在于,所述水池(3)顶部外壁一侧位于中间的位置固定有支撑板(4),且支撑板(4)一侧外壁靠近顶部的位置固定有液压机(17),所述液压机(17)一侧外壁固定有液压杆,且液压杆一端固定有固定块(7),所述固定块(7)底部外壁设置有伸缩杆(6),且伸缩杆(6)一端固定有连接块(5),所述连接块(5)一侧外壁固定有清洗箱(8),且清洗箱(8)表面设置有多个小孔,所述水池(3)顶部外壁两端靠近右侧的位置均固定有支撑柱(10),且支撑柱(10)顶部外壁固定有顶板(9),所述顶板(9)底部外壁固定有鼓风机(12),且鼓风机(12)底部外壁设置有导风管(13),所述导风管(13)一端设置有出风口(14)。
2.根据权利要求1所述的一种化妆品生产用原料清洗装置,其特征在于,所述水池(3)一侧外壁靠近底部的位置设置有出水管(1),且出水管(1)外壁设置有开关阀(2)。
3.根据权利要求2所述的一种化妆品生产用原料清洗装置,其特征在于,所述出水管(1)内部设置有过滤网(15)。
4.根据权利要求1或2所述的一种化妆品生产用原料清洗装置,其特征在于,所述水池(3)底部内壁固定有超声波发生器(16)。
5.根据权利要求4所述的一种化妆品生产用原料清洗装置,其特征在于,所述水池(3)顶部外壁位于顶板(9)下方的位置设置有放置网(11)。
6.根据权利要求1所述的一种化妆品生产用原料清洗装置,其特征在于,所述水池(3)底部内壁固定有水泵(20),且水泵(20)顶部外壁设置有水管(19)。
7.根据权利要求6所述的一种化妆品生产用原料清洗装置,其特征在于,所述水管(19)一端设置有喷头(18),所述水管(19)延伸至水池上部。
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