CN212548966U - 一种半导体厂酸碱废气综合处理装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种半导体厂酸碱废气综合处理装置，包括废气综合处理塔体，所述废气综合处理塔体的内部的下方安装有废气收集室，所述废气收集室的内部的下方安装有斜坡板，所述废气收集室的内部的前端安装有排污口，所述废气收集室的上方安装有聚集室，所述聚集室的上方安装有环形连接管。本实用新型的填料净化处理层的内部的边侧设置有倒三角密封块，通过倒三角密封块可以将填料净化处理层的开口的大小进行改变，大口朝下，小口朝上，通过大口可以将废气大量收集，通过小口逐渐放出，这样废气在喷淋处理的过程中，可以将壁面的废气完全处理，减少壁面吸附颗粒，使废气完全喷淋，从而提高废气处理的效果。

Description

一种半导体厂酸碱废气综合处理装置

技术领域

本实用新型涉及半导体厂酸碱废气综合处理装置技术领域，具体为一种半导体厂酸碱废气综合处理装置。

背景技术

随着人口的剧增和城市化的加剧，各种污染粉尘及有毒有害气体被排放至大气中，对人类和环境造成巨大危害，而酸碱性废气对人类和环境危害极为严重，其在众多行业中有产生，比如化工、电子、冶金、电镀、纺织、食品、机械制造等行业过程中排放的酸、碱性废气，其排放至室内对人体健康有危害，排放至室外对大气、土壤、植物、建筑等有危害；为人类和环境营造良好的生存空间，合理处理废气中的酸碱性气体是控制大气污染的必要措施，电镀生产过程中有大量的废气排出，主要废气成分为酸性和碱性废气，这些气体会危害到人类的呼吸系统，有机溶剂类的有致癌的风险。

目前关于一种半导体厂酸碱废气综合处理装置仍存在不足之处，例如，酸碱废气在进入处理塔中，废气量大会四处扩散，有些会从壁面的位置向上升起，这样喷出液体就会将壁面位置的废气给漏掉，大大降低废气处理的程度，内部沉积的污垢不便于清理。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种半导体厂酸碱废气综合处理装置，以解决上述背景技术中提出的酸碱废气在进入处理塔中，废气量大会四处扩散，有些会从壁面的位置向上升起，这样喷出液体就会将壁面位置的废气给漏掉，大大降低废气处理的程度，内部沉积的污垢不便于清理的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种半导体厂酸碱废气综合处理装置，包括废气综合处理塔体，所述废气综合处理塔体的内部的下方安装有废气收集室，所述废气收集室的内部的下方安装有斜坡板，所述废气收集室的内部的前端安装有排污口，所述废气收集室的上方安装有聚集室，所述聚集室的内部的一侧安装有倒三角密封块，所述聚集室的上方安装有环形连接管，所述环形连接管的内部安装有叉型连接管，所述叉型连接管的下方的中间位置安装有多孔喷淋头，所述环形连接管的上方安装有填料净化处理层，所述填料净化处理层的上方安装有除味净化层，所述废气综合处理塔体的顶端安装有净气出口，所述废气综合处理塔体的前端的上方安装有检修口，所述检修口的下方安装有废气入口，所述废气入口的下方安装有密封罩，所述密封罩的前端安装有盖板，所述密封罩的下方安装有储污箱，所述储污箱的底部安装有滑轮，所述废气综合处理塔体的底部安装有底座，所述废气综合处理塔体的后端的中间位置安装有储水箱固定座，所述储水箱固定座的内部安装有储水箱，所述储水箱的上方的一侧安装有输水管。

优选的，所述排污口与废气综合处理塔体镶嵌的位置上设置有冲孔，且排污口与冲孔通过镶嵌连接。

优选的，所述斜坡板与废气收集室通过焊接连接，且斜坡板与废气收集室倾斜的角度设置为45度。

优选的，所述密封罩与废气综合处理塔体通过螺栓固定连接，且盖板与密封罩通过卡扣镶嵌连接，且盖板设置为透明结构。

优选的，所述密封罩与储污箱通过焊接连接，且储污箱的前端和后端的中间位置均设置有把手，且把手与储污箱通过焊接连接。

优选的，所述倒三角密封块与聚集室通过焊接连接，且大口朝下，小口朝上。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、本实用新型的填料净化处理层的内部的边侧设置有倒三角密封块，通过倒三角密封块可以将填料净化处理层的开口的大小进行改变，大口朝下，小口朝上，通过大口可以将废气大量收集，通过小口逐渐放出，这样废气在喷淋处理的过程中，可以将壁面的废气完全处理，减少壁面吸附颗粒，使废气完全喷淋，从而提高废气处理的效果；

2、本实用新型的排污口的外侧设置有密封罩，通过密封罩可以将排污口内所排出的污垢进行变向输送至储污箱内，通过储污箱可以扩大储污容量，增长定时清理的时间，在密封罩的前端设置有透明盖板，通过盖板更便于检修人员直接观察内部排污情况，及时发现堵塞等不良情况，及时处理。

附图说明

图1为本实用新型的一种半导体厂酸碱废气综合处理装置的内部结构示意图；

图2为本实用新型的一种半导体厂酸碱废气综合处理装置的主视图；

图3为本实用新型的环形连接管的俯视图。

图中：1、净气出口；2、除味净化层；3、检修口；4、填料净化处理层；5、废气综合处理塔体；6、环形连接管；7、多孔喷淋头；8、输水管；9、储水箱；10、储水箱固定座；11、倒三角密封块；12、废气入口；13、废气收集室；14、聚集室；15、盖板；16、密封罩；17、排污口；18、斜坡板；19、储污箱；20、滑轮；21、底座；22、叉型连接管。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

请参阅图1-3，本实用新型提供的一种实施例：一种半导体厂酸碱废气综合处理装置，包括废气综合处理塔体5，废气综合处理塔体5的内部的下方安装有废气收集室13，废气收集室13使废气具有一定的缓冲空间，废气收集室13的内部的下方安装有斜坡板18，斜坡板18改变喷淋的溶液的流向，废气收集室13的内部的前端安装有排污口17，排污口17将污水排出，废气收集室13的上方安装有聚集室14，聚集室14对废气进行收集，聚集室14的内部的一侧安装有倒三角密封块11，倒三角密封块11改变废气向上排放的大小，聚集室14的上方安装有环形连接管6，环形连接管6对叉型连接管22安装固定，环形连接管6的内部安装有叉型连接管22，叉型连接管22对多孔喷淋头7安装固定，叉型连接管22的下方的中间位置安装有多孔喷淋头7，多孔喷淋头7扩大喷淋面积，环形连接管6的上方安装有填料净化处理层4，填料净化处理层4对废气中的有害物质进行处理，填料净化处理层4的上方安装有除味净化层2，除味净化层2对废气中的臭味进行净化，废气综合处理塔体5的顶端安装有净气出口1，净气出口1将净气释放，废气综合处理塔体5的前端的上方安装有检修口3，检修口3便于工作人员对内部进行检修，检修口3的下方安装有废气入口12，废气入口12便于将废气输入，废气入口12的下方安装有密封罩16，密封罩16对排污口17进行密封，密封罩16的前端安装有盖板15，盖板15对密封罩16进行密封，密封罩16的下方安装有储污箱19，储污箱19对污水进行储存，储污箱19的底部安装有滑轮20，滑轮20便于将储污箱19移动，废气综合处理塔体5的底部安装有底座21，底座21对废气综合处理塔体5进行支撑稳固，废气综合处理塔体5的后端的中间位置安装有储水箱固定座10，储水箱固定座10对储水箱9安装固定，储水箱固定座10的内部安装有储水箱9，储水箱9便于给输水管8供水，储水箱9的上方的一侧安装有输水管8，输水管8便于将水输送。

进一步，排污口17与废气综合处理塔体5镶嵌的位置上设置有冲孔，且排污口17与冲孔通过镶嵌连接，通过镶嵌便于将排污口17安装或拆卸，便于对排污口17进行清理。

进一步，斜坡板18与废气收集室13通过焊接连接，且斜坡板18与废气收集室13倾斜的角度设置为45度，通过焊接可以使斜坡板18安装更牢固，密封更严实，通过45度将倾斜可以改变排污方向。

进一步，密封罩16与废气综合处理塔体5通过螺栓固定连接，且盖板15与密封罩16通过卡扣镶嵌连接，且盖板15设置为透明结构，通过螺栓可以使密封罩16与废气综合处理塔体5安装更牢固。

进一步，密封罩16与储污箱19通过焊接连接，且储污箱19的前端和后端的中间位置均设置有把手，且把手与储污箱19通过焊接连接，通过焊接可以使密封罩16与储污箱19连接更牢固。

进一步，倒三角密封块11与聚集室14通过焊接连接，且大口朝下，小口朝上，通过焊接可以使倒三角密封块11与聚集室14连接更紧密。

工作原理：该设备在使用时，将废气综合处理塔体5安装固定在所需位置，将废气排出管与废气入口12安装固定，将净气排出管与净气出口1安装固定，废气从废气入口12依次进入废气收集室13内，再向聚集室14内聚集，通过水泵将废气处理溶液输送至储水箱9内，并依次输送至输水管8、环形连接管6和叉型连接管22内，通过多孔喷淋头7喷出，将废气中的酸性或碱性废气进行中和分离处理，经过处理的废气再依次输送至填料净化处理层4和除味净化层2内进行处理，通过净气出口1将净气输出释放，喷淋后的污水通过斜坡板18流出至排污口17并输送至储污箱19内即可。

对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

Claims (6)

1.一种半导体厂酸碱废气综合处理装置，包括废气综合处理塔体(5)，其特征在于：所述废气综合处理塔体(5)的内部的下方安装有废气收集室(13)，所述废气收集室(13)的内部的下方安装有斜坡板(18)，所述废气收集室(13)的内部的前端安装有排污口(17)，所述废气收集室(13)的上方安装有聚集室(14)，所述聚集室(14)的内部的一侧安装有倒三角密封块(11)，所述聚集室(14)的上方安装有环形连接管(6)，所述环形连接管(6)的内部安装有叉型连接管(22)，所述叉型连接管(22)的下方的中间位置安装有多孔喷淋头(7)，所述环形连接管(6)的上方安装有填料净化处理层(4)，所述填料净化处理层(4)的上方安装有除味净化层(2)，所述废气综合处理塔体(5)的顶端安装有净气出口(1)，所述废气综合处理塔体(5)的前端的上方安装有检修口(3)，所述检修口(3)的下方安装有废气入口(12)，所述废气入口(12)的下方安装有密封罩(16)，所述密封罩(16)的前端安装有盖板(15)，所述密封罩(16)的下方安装有储污箱(19)，所述储污箱(19)的底部安装有滑轮(20)，所述废气综合处理塔体(5)的底部安装有底座(21)，所述废气综合处理塔体(5)的后端的中间位置安装有储水箱固定座(10)，所述储水箱固定座(10)的内部安装有储水箱(9)，所述储水箱(9)的上方的一侧安装有输水管(8)。

2.根据权利要求1所述的一种半导体厂酸碱废气综合处理装置，其特征在于：所述排污口(17)与废气综合处理塔体(5)镶嵌的位置上设置有冲孔，且排污口(17)与冲孔通过镶嵌连接。

3.根据权利要求1所述的一种半导体厂酸碱废气综合处理装置，其特征在于：所述斜坡板(18)与废气收集室(13)通过焊接连接，且斜坡板(18)与废气收集室(13)倾斜的角度设置为45度。

4.根据权利要求1所述的一种半导体厂酸碱废气综合处理装置，其特征在于：所述密封罩(16)与废气综合处理塔体(5)通过螺栓固定连接，且盖板(15)与密封罩(16)通过卡扣镶嵌连接，且盖板(15)设置为透明结构。

5.根据权利要求1所述的一种半导体厂酸碱废气综合处理装置，其特征在于：所述密封罩(16)与储污箱(19)通过焊接连接，且储污箱(19)的前端和后端的中间位置均设置有把手，且把手与储污箱(19)通过焊接连接。

6.根据权利要求1所述的一种半导体厂酸碱废气综合处理装置，其特征在于：所述倒三角密封块(11)与聚集室(14)通过焊接连接，且大口朝下，小口朝上。

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