CN212485349U - 一种激光器及其激光退火设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种激光器及其激光退火设备，所述激光器包括：激光发射组件；透镜系统，设置于所述激光发射组件之后，所述透镜系统包括：第一透镜阵列，其包括多个第一柱形透镜；光波导，设置于所述第一透镜阵列之后；第二透镜阵列，设置于所述光波导之后，其包括多个第二柱形透镜；移动挡板组件，设置于所述光波导和所述第二透镜阵列之间，并靠近所述第二透镜阵列的入射面一侧；第一聚光透镜，设置于所述第二透镜阵列之后；所述第二柱形透镜的曲率半径与所述第一柱形透镜的曲率半径不同。根据本实用新型提供的激光器可以避免透镜其本身因加工或组装带来的误差缺陷，提高激光退火晶化效果。

Description

一种激光器及其激光退火设备

技术领域

本实用新型涉及激光阵列工程技术领域，特别涉及一种具有误差补偿功能的透镜系统、误差补偿方法及激光器。

背景技术

多晶硅薄膜晶体管(英文全称为PolycrystallineSiliconThinFilmTransistor，简称为p-SiTFT)相较于非晶硅薄膜晶体管(英文全称为AmorphousSiliconThinFilmTransistor，简称为a-SiTFT)而言，其具有电子迁移率高等特性，从而在有源矩阵显示技术中有重要的应用，例如在有机发光显示设备中，高迁移率的p-SiTFT为其提供了所需要的大电流。因此，p-Si薄膜对TFT显示器而言尤其重要。

目前，在现有技术过程中，一般利用激光退火晶化，即，由准分子激光器激发出激光束，激光束在经过透镜在扩束和会聚后，产生高能量入射到非晶硅薄膜表面，使得仅在薄膜表层产生热能效应，从而将a-Si转化为p-Si。但是由于激光光路控制非常复杂和敏感，例如透镜中不可避免的加工误差或组装误差均易导致激光束不能良好聚焦，使得激光束的能量强度分布不均匀，从而对结晶的效果产生影响。因此，提供一种激光器消消除激光光路中透镜的加工误差或组装误差的缺陷，提高激光退火晶化效果十分重要。

实用新型内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种激光器，所述激光器可以消除激光光路中透镜的加工误差或组装误差的缺陷，使激光束良好聚焦，提高激光束的能量强度分布的均匀性，从而提高激光退火晶化效果。

本实用新型的另一个目的在于，提供一种激光退火设备。

为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种激光器，所述激光器包括：激光发射组件；透镜系统，设置于所述激光发射组件之后，以调整所述激光发射组件发射的激光束的激光光路，所述透镜系统包括：第一透镜阵列，以将激光束按照预定方向进行分割，所述第一透镜阵列包括多个第一柱形透镜；光波导，设置于所述第一透镜阵列之后；第二透镜阵列，设置于所述光波导之后，所述第二透镜阵列包括多个第二柱形透镜；移动挡板组件，设置于所述光波导和所述第二透镜阵列之间，并靠近所述第二透镜阵列的入射面一侧，所述移动挡板组件的挡板上具有开口部，所述移动挡板组件沿所述第二透镜阵列的长度方向移动；第一聚光透镜，设置于所述第二透镜阵列之后，以将分割后的激光束聚焦；其中，所述第二柱形透镜的曲率半径与所述第一柱形透镜的曲率半径不同，以补偿所述第一透镜阵列的误差，矫正所述激光光路，所述分割后的激光束在预定位置聚焦。

在一些实施例中，所述第一柱形透镜的曲率半径为0.5-5mm。

在一些实施例中，所述第二柱形透镜的曲率半径为0.3-5mm。

在一些实施例中，所述移动挡板的开口部的大小与所述第二柱形透镜的入射面相匹配。

在一些实施例中，所述移动挡板组件包括：支架，所述第二透镜阵列支架设置于所述支架上；驱动电机，设置于所述支架上；滑轨组件，设置于所述支架上，并于所述驱动电机传动连接；挡板，连接所述滑轨组件，所述开口部开设于所述挡板上，所述挡板靠近所述第二透镜阵列的入射面；所述移动挡板组件通过所述驱动电机和所述滑轨组件沿所述第二透镜阵列的长度方向移动。

在一些实施例中，所述透镜系统还包括第二聚光透镜，设置于所述第一透镜阵列和光波导之间。

在一些实施例中，所述激光器还包括一供气组件，以输送惰性气体。

在一些实施例中，所述激光器为准分子激光发射器。

在一些实施例中，所述准分子激光发射器输出波长为100nm～400nm。

本实用新型还提供一种激光退火设备，所述激光退火设备包括：承载台，所述承载台用于固定待退火基板；激光器，位于所述承载台的上方，以对所述待退火基板进行退火，所述激光器包括：激光发射组件；透镜系统，设置于所述激光发射组件之后，以调整所述激光发射组件发射的激光束的激光光路，所述透镜系统包括：第一透镜阵列，以将激光束按照预定方向进行分割，所述第一透镜阵列包括多个第一柱形透镜；光波导，设置于所述第一透镜阵列之后；第二透镜阵列，设置于所述光波导之后，所述第二透镜阵列包括多个第二柱形透镜；移动挡板组件，设置于所述光波导和所述第二透镜阵列之间，并靠近所述第二透镜阵列的入射面一侧，所述移动挡板组件的挡板上具有开口部，所述移动挡板组件沿所述第二透镜阵列的长度方向移动；第一聚光透镜，设置于所述第二透镜阵列之后，以将分割后的激光束聚焦；其中，所述第二柱形透镜的曲率半径与所述第一柱形透镜的曲率半径不同，以补偿所述第一透镜阵列的误差，矫正所述激光光路，所述分割后的激光束在预定位置聚焦；驱动装置，连接所述激光器。

本实用新型提供了一种激光器及其激光退火设备。所述激光器包括激光发射组件和具有误差补偿功能的透镜系统，所述具有误差补偿功能的透镜系统利用多个透镜以及光波导相互补充配合，避免透镜其本身因加工或组装带来的误差缺陷，从而校正激光光路的路径，使得激光束可以进行良好地分裂和会聚，叠加在同一表面上，激光束具有均匀的强度分布，进一步地在进行晶化退火时，将可以将非晶硅薄膜a-Si转化为多晶硅薄膜p-Si。其余的特征和益处还可以参考本申请公开在内的权利要求书和说明书中的内容。

附图说明

图1显示为本实用新型的激光退火设备的结构示意图。

图2显示为本实用新型的激光器的结构示意图。

图3显示为本实用新型的激光器在进行退火时的状态示意图。

图4显示为本实用新型的透镜系统的一具体实施方式的侧视图。

图5显示为图4中的俯视图。

图6显示为光波导的一具体实施方式的结构示意图。

图7显示为本实用新型的透镜系统的另一具体实施方式的侧视图。

图8显示为图6中的俯视图。

图9显示为本实用新型的移动挡板组件的结构示意图。

具体实施方式

以下通过特定的具体实例说明本实用新型的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点与功效。本实用新型还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本实用新型的精神下进行各种修饰或改变。

在本实用新型中，需要说明的是，如出现术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等，其所指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，如出现术语“第一”、“第二”仅用于描述和区分目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本实用新型的基本构想，遂图式中仅显示与本实用新型中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。

图1示出了所述激光退火装置100的示例性框图，所述激光退火装置100包括承载台200、激光器300以及驱动装置400.所述承载台200用于固定待退火基板210，所述激光器300，例如准分子激光器，在驱动装置400的驱动下向待退火基板进行激光扫描，将基板上的非晶硅薄膜a-Si转化为多晶硅薄膜p-Si，所述多晶硅薄膜p-Si可以用于制备各种半导体器件，例如液晶显示器件、EL显示器件等，并进一步地将该显示器件组装制备各种电子设备，例如电视、摄像机、数码相机、计算机、手机、智能穿戴设备等。

如图2和图3所示，本发明提供的激光器300，例如为包括激光发射组件400、透镜系统500以及供气组件600。所述激光发射组件400发射激光，并通过该透镜系统500调整激光发射组件发出的激光的光路，所述激光束在透镜系统500扩束分裂、组合，以及会聚后，可以出射具有均匀能量分布的激光，并照射在待退火基板210上的非晶硅薄膜a-Si，执行激光阵列工程，所述供气组件600向待退火基板210的表面送出惰性气体，以防止基板210氧化。所述激光器300，例如采用准分子激光器，其输出波长例如为308nm、248nm，以及193nm，出射光斑尺寸为1～5mm×1～5mm，例如3×3mm。

如图4和图5所示，所述透镜系统500包括第一透镜阵列510、光波导520、第二透镜阵列530、移动挡板组件540，以及聚光透镜550。所述透镜系统500利用多个透镜阵列和光波导之间的相互配合补充，具有误差补偿功能，避免了透镜阵列其本身因加工或组装带来的误差缺陷，从而校正激光光路的路径，使得激光束L可以进行良好地分裂扩束和会聚并叠加在同一表面上，激光束具有均匀的强度分布，使得激光束可以处于适合于晶化的能量范围内，将非晶硅薄膜a-Si稳定地进行均匀的晶化，获得多晶硅薄膜p-Si。

如图4和图5所示，所述第一透镜阵列510位于所述激光发生组件400之后，将所述激光发生组件400的发出的激光束L沿预定方向分割为多个激光束，分散强度。所述第一透镜阵列510由多个第一圆柱形透镜511构成的阵列，其可以完全布满基材(图中未示出)表面，当然也可以基于使用以及安装固定的观点，多个第一圆柱形透镜511在所述基材可以留有空白，所述第一圆柱形透镜511的入射面由平面几何形成，其出射面由凸面几何，例如半圆形、半椭圆形的几何形成，所述多个第一圆柱形透镜511的结构相同，例如可以具有相同的曲率半径，例如为0.5-5mm，例如0.5mm、1mm，3mm等，从而多个第一圆柱形透镜511的焦距相同，例如为50mm～500mm，例如50mm、98mm、211mm、243mm，356mm、500mm，所述多个第一圆柱形透镜511之间的光轴相互平行，所述第一透镜阵列510的多个第一圆柱形透镜511可以在垂直于光轴的方向上具有平行的压缩力，从而多个第一圆柱形透镜511之间可以保持相互紧密结合的状态。所述平行的激光束L通过第一透镜阵列510中的多个第一圆柱形透镜511分割形成多个相交的激光束，改变所述激光束的能量的分布。第一透镜阵列510和所述多个第一圆柱形透镜511例如可以均由石英材料一体成型或分开组装而组成。

如图4和图5所示，所述光波导520位于第一透镜阵列510之后，例如位于第一透镜阵列510上的第一柱形透镜511的焦点之后，所述光波导520包括多个反射平面，所述反射平面之间由折射率为大于1的介质填充，例如可以为空气或石英等，所述激光束在经过第一透镜阵列510后入射到光波导520中，并进行全反射，从而所述激光束的透射率极大地增加，因此，所述激光发生组件400的发出的激光束能够更有效地传播到待退火的基板210表面。

如图4和图5所示，激光束被第一透镜阵列510分裂，并接着入射到光波导520中，此时，由于各个分裂的激光束不聚焦在一个点，而是分别聚焦在不同的点，故强度分布被分散在各个焦点处，在调整柱第一透镜阵列510的位置，能够将焦点设定成离开光波导520一定距离，因此，由于激光束不被聚焦在光波导520内部，而进行稳定的传输，并在出口处增大了能量强度的分布的均匀性。所述光波导520减少或避免了因所述多个第一柱形透镜511本身的加工误差和组装误差的问题，使得在光轴垂直的面上形成分离的束斑能够完全被叠加在同一个位置，即，所述光波导520可以沿预定方向均化激光束的强度分布。

如图4和图6所示，所述光波导520例如采用例如为具有梯形反射面的波导管，所述光波导520由相对两片长梯形平板A1、A2，和相对两片长方形平板B1、B2围成的长梯型通道，所述介质为空气，所述平板A1、A2、B1、B2例如可以采用平整度和平行度较好的玻璃平板，所述平板向着所述波导管内腔的表面镀有反射膜，所述激光束在经过第一透镜阵列510后入射到光波导520中，光束在该长梯型通道内壁上反射，由于A1、A2为两片长梯形平板，使得入射光束每反射一次，反射角变大，从而随着入射角的增大，光束在光波导520内反射的次数越来越多，从而延长了入射光束在光波导520的光程，所述激光束的透射率进一步地增加，从而起到了均匀的效果，所述梯形光波导体积小使用灵活，当然，并不限定于此，所述光波导520还可以形成为矩形等其他形状，可以根据实际的需要的进行选择。

如图7和图8所示，在本发明的另一些实施例中，所述透镜系统还包括一第二聚光透镜560，所述第二聚光透镜560位于所述第一透镜阵列510和光波导520之间，从而将来自第一透镜阵列510的激光束进行第一次聚焦，从而将该激光束的截面减小，因此，需要的光波导520尺寸和体积也相应可以减小，提高实际的便携性和实用性，并进一步的提高该激光束在光波导520透射效果，提高所述能量强度的分布效果。

所述第二聚光透镜560例如可以为柱形凸透镜，所述第二聚光透镜560的入射面由平面几何形成，其出射面由凸面几何，例如半圆形、半椭圆形的几何形成，所述凸面几何曲率半径为1-10mm，例如1mm，5mm、6mm、8mm、10mm等，所述第二聚光透镜560的焦距，例如为50mm～1000mm，例如98mm、243mm、500mm、850mm、1000mm，当然并不限定于此，还可以根据实际的需要进行选择。

如图4所示，所述第二透镜阵列530位于所述光波导520之后，所述第二透镜阵列530将经过光波导520发射的激光束进行校正补偿，形成多个平行的激光束，从而在将其在第一聚光透镜550进行会聚时，所述激光束能够在预定位置F进行聚焦。所述第二透镜阵列530与所述第一透镜阵列510相同地，所述第二透镜阵列530由多个第二圆柱形透镜531构成的阵列，所述第二圆柱形透镜531的入射面由平面几何形成，其出射面由凸面几何，例如半圆形、半椭圆形的几何形成，但所述第二透镜阵列530和多个第二圆柱形透镜531的尺寸、大小与所述第一透镜阵列510和多个第一圆柱形透镜511不相同，例如小于所述第一透镜阵列510和多个第二圆柱形透镜531，从而对所述光波导520发射的激光束进行进一步地校正补偿，使其在与光轴垂直的表面上的同一位置处进行聚焦。

如图4所示，所述多个第二圆柱形透镜531其可以完全布满基材表面，当然也可以基于使用以及安装固定的观点，多个第二圆柱形透镜531在所述基材可以留有空白，所述多个第二圆柱形透镜531的结构相同，例如可以具有相同或者不同的曲率半径，例如为0.3-5mm，例如0.3mm、0.5mm、1mm，3mm、4mm、5mm等，从而多个所述第二柱形透镜531具有相同或不同的焦距，例如为50mm～500mm，例如50mm、98mm、211mm、243mm，356mm、500mm，所述多个第二圆柱形透镜531之间的光轴相互平行，并在垂直于光轴的方向上具有平行的压缩力，从而多个第二圆柱形透镜531之间可以保持相互紧密结合的状态。所述第二透镜阵列530和所述多个第二圆柱形透镜531例如可以由石英材料组装而成。

如图4和图5所示，所述透镜系统500还包括移动挡板组件540，所述移动挡板组件540位于该光波导520和所述第二透镜阵列530之间，并连接所述第二透镜阵列530，所述移动挡板组件324利用一传感器单元(图中未示出)，传感器单元例如设置在预定位置F处，可以准确地判断出第一透镜阵列510和光波导中520中偏离预定路径的光束，即，不能在预定位置F进行聚焦的光束，从而通过更换第二透镜阵列530或第二透镜阵列530上一个或多个第二圆柱形透镜531，使得偏离预定路径的光束校准至预定位置F，从而实现相应的误差补偿过程，提高激光束能量分布均匀性。

如图4和图9所示，所述移动挡板组件540包括支架541、驱动电机542、滑轨单元543和具有开口部544a的挡板544。此时，所述第二透镜阵列530位于所述支架541上，所述驱动电机542设置于所述支架541上，并连接中央控制单元(图中未示出)，滑轨组件543，设置于所述支架541上，并于所述驱动电541机传动连接。所述第二透镜阵列530的平面几何的一侧作为入射面，面向所述光波导520，以入射激光束，所述第二透镜阵列530的凸面几何的一侧作为出射面，面向所述第一聚光透镜550以处射激光。所述具有开口部544a的挡板544靠近所述第二透镜阵列530的入射面，所述挡板544四周上设有滑块，所述支架541上设有滑槽，驱动电机542带动滑块在滑槽内滑动，从而使得所述具有开口部的挡板544可以相对于所述第二透镜阵列530的长度方向，进一步的在长度方向和宽度方向上滑动。

所述传感器单元没有特别的限定，例如可以采用高精度的位置传感器实现，当然并不限定于此，还可以通过包括标准位置传感部和偏差位置传感部组成的传感器单元，此时，当所述激光束仅在标准位置部中检测到通过第一聚光透镜550的激光束时，所述激光束的激光光路在预定方向上，即，在预定位置F聚焦，所述光路没有误差，当所述通过第一聚光透镜550的激光束不仅在标准位置部中检测到，而且在偏差位置传感部中检测到，所述激光束的激光光路偏离预定方向，即，未在预定位置F聚焦，所述光路存在误差，能量强度分布不均匀，需要进行校正补偿。

如图4和图5所示，所述第一聚光透镜550位于所述第二透镜阵列530之后，将所述第二透镜阵列530的发生的激光束进行会聚，所述激光束可以叠加在同一位置上从而形成一个，其能量强度分布均匀，形成均匀的线形激光，利于进行后续的激光退火作业。所述第一聚光透镜550与所述第二聚光透镜560相同地，可以为柱形凸透镜，其入射面由平面几何形成，其出射面由凸面几何，例如半圆形、半椭圆形的几何形成，第一聚光透镜550的尺寸、大小与所述第二聚光透镜560可以相同，当然也可以不同，可以根据实际的需要进行调整。所述第一聚光透镜550的凸面几何曲率半径为1-10mm，例如1mm，5mm、6mm、8mm、10mm等，其焦距例如为50mm～1000mm，例如98mm、243mm、500mm、850mm、1000mm，当然并不限定于此，还可以根据实际的需要进行选择，所述第一聚光透镜550和所述第一透镜阵列510、光波导520，以及第二透镜阵列530，将激光发射组件400发射的激光进行分裂扩束、组合会聚，使得激光束均匀化，满足实际的使用需要。

如图4和图9所示，在进行误差补偿作业时，通过移动挡板544的位置，使得挡板544的开口部544a与所述第二透镜阵列530上的第二圆柱形透镜531的入射面相对应，从而选择性地开放第二柱形透镜531的入射面，从而激光束可以通过该开口部544a入射至第二圆柱形透镜531上，从而经第一聚光透镜550进行聚焦，所述聚焦的位置可以通过传感器单元进行位置感应，当所述传感器单元感应聚焦的位置在预定位置F时，此处的所述第一透镜阵列510的第一圆柱形透镜511没有误差，激光束的光路在预定的方向上前进，并停留在预定的位置F处。当所述传感器单元感应所述聚焦的位置在不在预定位置F时，此处的第一透镜阵列510的第一圆柱形透镜511存在误差，激光束的光路在偏离预定的方向上前进，并停留在偏离预定位置处。此时，可以更改该开口部544a处所对应的第二圆柱形透镜531，例如更改所述第二圆柱形透镜531的曲率半径，从而将偏离预定的方向的激光束校正至预定方向上，聚焦在预定的位置F处，实现误差补偿。接着依序移动所述挡板544，从而进入下一个第二圆柱形透镜531的入射面，检测此处的激光束是否聚集在预定位置F，通过重复上述过程，可以在光波导520的基础上，进一步地补偿第一透镜阵列510中的所有第一圆柱透镜511的加工误差或装配误差。

本实用新型提供了一种激光器及其激光退火设备。所述激光器包括激光发射组件和具有误差补偿功能的透镜系统，所述具有误差补偿功能的透镜系统利用多个透镜以及光波导相互补充配合，避免透镜其本身因加工或组装带来的误差缺陷，从而校正激光光路的路径，使得激光束可以进行良好地分裂和会聚，叠加在同一表面上，激光束具有均匀的强度分布，进一步地在进行晶化退火时，将可以将非晶硅薄膜a-Si转化为多晶硅薄膜p-Si。

在本文的描述中，提供了许多特定细节，诸如部件和/或方法的实例，以提供对本实用新型实施例的完全理解。然而，本领域技术人员将认识到可以在没有一项或多项具体细节的情况下或通过其他设备、系统、组件、方法、部件、材料、零件等等来实践本实用新型的实施例。在其他情况下，未具体示出或详细描述公知的结构、材料或操作，以避免使本实用新型实施例的方面变模糊。

此外，本实用新型的任何具体实施例的特定特征、结构或特性可以按任何合适的方式与一个或多个其他实施例结合。应当理解本文所述和所示的实用新型实施例的其他变型和修改可能是根据本文教导的，并将被视作本实用新型精神和范围的一部分。还应当理解还可以以更分离或更整合的方式实施附图所示元件中的一个或多个，或者甚至因为在某些情况下不能操作而被移除或因为可以根据特定应用是有用的而被提供。

本实用新型所示实施例的上述描述(包括在说明书摘要中所述的内容)并非意在详尽列举或将本实用新型限制到本文所公开的精确形式。尽管在本文仅为说明的目的而描述了本实用新型的具体实施例和本实用新型的实例，但是正如本领域技术人员将认识和理解的，各种等效修改是可以在本实用新型的精神和范围内的。如所指出的，可以按照本实用新型所述实施例的上述描述来对本实用新型进行这些修改，并且这些修改将在本实用新型的精神和范围内。

本文已经在总体上将系统和方法描述为有助于理解本实用新型的细节。此外，已经给出了各种具体细节以提供本实用新型实施例的总体理解。然而，相关领域的技术人员将会认识到，本实用新型的实施例可以在没有一个或多个具体细节的情况下进行实践，或者利用其它装置、系统、配件、方法、组件、材料、部分等进行实践。在其它情况下，并未特别示出或详细描述公知结构、材料和/或操作以避免对本实用新型实施例的各方面造成混淆。

因而，尽管本实用新型在本文已参照其具体实施例进行描述，但是修改自由、各种改变和替换意在上述公开内，并且应当理解，在某些情况下，在未背离所提出实用新型的范围和精神的前提下，在没有对应使用其他特征的情况下将采用本实用新型的一些特征。因此，可以进行许多修改，以使特定环境或材料适应本实用新型的实质范围和精神。本实用新型并非意在限制到在下面权利要求书中使用的特定术语和/或作为设想用以执行本实用新型的最佳方式公开的具体实施例，但是本实用新型将包括落入所附权利要求书范围内的任何和所有实施例及等同物。因而，本实用新型的范围将只由所附的权利要求书进行确定。

Claims (10)

1.一种激光器，其特征在于，所述激光器包括：

激光发射组件；

透镜系统，设置于所述激光发射组件之后，以调整所述激光发射组件发射的激光束的激光光路，所述透镜系统包括：

第一透镜阵列，以将激光束按照预定方向进行分割，所述第一透镜阵列包括多个第一柱形透镜；

光波导，设置于所述第一透镜阵列之后；

第二透镜阵列，设置于所述光波导之后，所述第二透镜阵列包括多个第二柱形透镜；

移动挡板组件，设置于所述光波导和所述第二透镜阵列之间，并靠近所述第二透镜阵列的入射面一侧，所述移动挡板组件的挡板上具有开口部，所述移动挡板组件沿所述第二透镜阵列的长度方向移动；

第一聚光透镜，设置于所述第二透镜阵列之后，以将分割后的激光束聚焦；

其中，所述第二柱形透镜的曲率半径与所述第一柱形透镜的曲率半径不同，以补偿所述第一透镜阵列的误差，矫正所述激光光路，所述分割后的激光束在预定位置聚焦。

2.根据权利要求1所述的激光器，其特征在于，所述第一柱形透镜的曲率半径为0.5-5mm。

3.根据权利要求2所述的激光器，其特征在于，所述第二柱形透镜的曲率半径为0.3-5mm。

4.根据权利要求3所述的激光器，其特征在于，所述移动挡板的开口部的大小与所述第二柱形透镜的入射面相匹配。

5.根据权利要求1所述的激光器，其特征在于，所述移动挡板组件包括：

支架，所述第二透镜阵列支架设置于所述支架上；

驱动电机，设置于所述支架上；

滑轨组件，设置于所述支架上，并于所述驱动电机传动连接；

挡板，连接所述滑轨组件，所述开口部开设于所述挡板上，所述挡板靠近所述第二透镜阵列的入射面；

所述移动挡板组件通过所述驱动电机和所述滑轨组件沿所述第二透镜阵列的长度方向移动。

6.根据权利要求1所述的激光器，其特征在于，所述透镜系统还包括第二聚光透镜，设置于所述第一透镜阵列和光波导之间。

7.根据权利要求1所述的激光器，其特征在于，所述激光器还包括一供气组件，以输送惰性气体。

8.根据权利要求1所述的激光器，其特征在于，所述激光器为准分子激光发射器。

9.根据权利要求8所述的激光器，其特征在于，所述准分子激光发射器输出波长为100nm～400nm。

10.一种激光退火设备，其特征在于，所述激光退火设备包括：

承载台，所述承载台用于固定待退火基板；

激光器，位于所述承载台的上方，以对所述待退火基板进行退火，所述激光器包括：

激光发射组件；

透镜系统，设置于所述激光发射组件之后，以调整所述激光发射组件发射的激光束的激光光路，所述透镜系统包括：

第一透镜阵列，以将激光束按照预定方向进行分割，所述第一透镜阵列包括多个第一柱形透镜；

光波导，设置于所述第一透镜阵列之后；

第二透镜阵列，设置于所述光波导之后，所述第二透镜阵列包括多个第二柱形透镜；

移动挡板组件，设置于所述光波导和所述第二透镜阵列之间，并靠近所述第二透镜阵列的入射面一侧，所述移动挡板组件的挡板上具有开口部，所述移动挡板组件沿所述第二透镜阵列的长度方向移动；

第一聚光透镜，设置于所述第二透镜阵列之后，以将分割后的激光束聚焦；

其中，所述第二柱形透镜的曲率半径与所述第一柱形透镜的曲率半径不同，以补偿所述第一透镜阵列的误差，矫正所述激光光路，所述分割后的激光束在预定位置聚焦；

驱动装置，连接所述激光器。

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