CN212234665U - 一种头皮糠疹治疗仪 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种头皮糠疹治疗仪，涉及医疗器械技术领域，包括头盔状的治疗仪本体，以及设置于所述治疗仪本体内部的低温等离子体发生装置；所述低温等离子体发生装置包括进气口和离子体喷头，其中所述进气口设置于所述治疗仪本体的外侧，所述等离子体喷头设置于所述治疗仪本体的内侧。本实用新型提供的头皮糠疹治疗仪，通过低温等离子体发生装置喷出的低温等离子体射流来进行灭菌，治疗头皮糠疹，不仅具有灭菌高效的优点，同时，治疗过程中不需引入药物，无化学残留、无微生物耐药性，不会产生副作用，安全、高效。

Description

一种头皮糠疹治疗仪

技术领域

本实用新型涉及医疗器械技术领域，具体而言，涉及一种头皮糠疹治疗仪。

背景技术

头部分布有大量皮脂腺，当皮脂腺分泌过于旺盛时，易使卵圆形糠秕孢子菌、马拉色菌等真菌大量生长繁殖，侵犯头部皮肤而引起原发感染和继发过敏，导致头皮糠疹的产生。

头皮糠疹发生于头皮部位，开始为轻度潮红斑片，上面覆盖灰白色糠状鳞屑，伴轻度瘙痒；随着皮疹扩展，可见油腻性鳞屑性地图状斑片，严重者伴有渗出、厚痂、有臭味，可侵犯整个头皮，头发可脱落、稀疏；该病易反复发作，常伴有毛囊炎、睑缘炎，面部常与痤疮、酒糟鼻螨虫性皮炎并发。

治疗头皮糠疹的传统方法为采用外用药物进行局部治疗，达到杀菌、消炎和止痒的目的，如使用复方硫磺洗剂，2％酮康唑洗剂以及各类糖皮质激素制剂。由于头皮糠疹由真菌感染所致，而真菌感染类皮肤病具有治疗难以彻底、易反复发作的特点，长期的局部用药具有各种副作用。如复方硫磺洗剂气味刺鼻，易让患者及身边人员产生不适感，长期使用易导致患者头发褪色，皮肤干燥；2％酮康唑洗剂会导致用药局部皮肤烧灼感、瘙痒、刺激、油腻或干燥，用药局部头发纹理异常、干燥或油腻，长期使用还会加重皮脂腺分泌，客观上给真菌繁殖提供了繁殖条件；而一旦停止使用药物，易出现症状反弹且加重；糖皮质激素制剂长期使用会出现激素依赖性皮炎，如痤疮、毛细血管扩张、皮肤萎缩及色素改变等。药物的长期使用除了上述副作用外，还易导致耐药性，使得治疗效果越来越差。

总之，头皮糠疹的病程长、易复发，同时用药副作用大；因此，如何实现安全、无副作用的头皮糠疹治疗，成为本领域研究人员亟待解决的一个问题。

实用新型内容

本实用新型解决的问题是如何提供过一种无副作用的头皮糠疹治疗仪。

为解决上述问题，本实用新型提供一种头皮糠疹治疗仪，包括头盔状的治疗仪本体，以及设置于所述治疗仪本体内部的低温等离子体发生装置；

所述低温等离子体发生装置包括进气口和离子体喷头，其中所述进气口设置于所述治疗仪本体的外侧，所述等离子体喷头设置于所述治疗仪本体的内侧。

可选地，所述头皮糠疹治疗仪还包括按摩装置，所述按摩装置设置于所述治疗仪本体的内侧。

可选地，所述按摩装置包括按摩头，以及驱动所述按摩头活动的驱动单元；所述驱动单元的一端与所述治疗仪本体相连，另一端与所述按摩头相连。

可选地，所述按摩头与所述等离子体喷头相邻设置。

可选地，所述按摩头与相邻所述等离子体之间的距离为1cm。

可选地，所述按摩头的结构为半球形。

可选地，所述按摩头的直径为2cm。

可选地，所述按摩头的材质为硅胶。

可选地，所述等离子体喷头以及所述按摩头的数量均为九个；九个所述按摩头的位置与人体头部的穴位位置相对应。

可选地，所述低温等离子体发生装置的放电反应气体选自空气、氩气、氦气、水蒸气、氧气中的一种。

与现有技术相比，本实用新型提供的头皮糠疹治疗仪具有如下优势：

本实用新型提供的头皮糠疹治疗仪，通过低温等离子体发生装置喷出的低温等离子体射流来进行灭菌，治疗头皮糠疹，不仅具有灭菌高效的优点，同时，治疗过程中不需引入药物，无化学残留、无微生物耐药性，不会产生副作用，安全、高效。

附图说明

图1为本实用新型所述的头皮糠疹治疗仪的结构简图；

图2为本实用新型所述的按摩装置与等离子体喷头示意图；

图3为本实用新型所述的头皮糠诊治疗仪的内侧结构简图。

附图标记说明：

1-治疗仪本体；2-低温等离子体发生装置；21-进气口；22-等离子体喷头；3-按摩装置；31-按摩头；311-第一按摩头；312-第二按摩头；313-第三按摩头；314-第四按摩头；315-第五按摩头；316-第六按摩头；317-第七按摩头；318-第八按摩头；319-第九按摩头；32-驱动单元。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施例做详细的说明。

为解决目前头皮糠疹的治疗方法具有副作用的问题，本实用新型提供一种头皮糠疹治疗仪，参见图1所示，该头皮糠疹治疗仪包括头盔状的治疗仪本体1，以及设置于治疗仪本体1内部的低温等离子体发生装置2；该低温等离子体发生装置2包括进气口21和离子体喷头22，其中进气口21设置于治疗仪本体1的外侧，等离子体喷头22设置于治疗仪本体1的内侧。

其中治疗仪本体1的内侧是指使用过程中贴近使用者头部的一侧；相反，治疗仪本体1的外侧是指使用过程中远离使用者头部，暴露于外部的一侧。

为避免对头皮糠疹进行治疗的过程中产生副作用，本实用新型提供的头皮糠疹治疗仪通过设置低温等离子体发生装置2，利用低温等离子体发生装置2喷出低温等离子体射流来对使用者的头部进行灭菌，达到对头皮糠疹进行治疗的目的。

为便于使用，本实用新型将等离子体发生装置2设置于治疗仪本体1的内部，并将该头皮糠疹治疗仪的治疗仪本体1设置为头盔状，使用该头皮糠疹治疗仪时，将头盔状的治疗仪本体1戴在使用者的头部，一方面有助于对头部皮肤进行包围，使得低温等离子体发生装置2喷出的低温等离子体射流能够完全覆盖在使用者的头发及头皮，从而提高治疗效果；另一方面使使用者在使用过程中能够在一定的范围内独自自由活动和操作，而无需他人帮助，操作简单、方便。

由于该低温等离子体发生装置2使用过程中需要通入放电反应气体来产生低温等离子体射流，本实用新型将低温等离子体发生装置2的进气口21设置为治疗仪本体1的外侧，并将等离子体喷头22设置于治疗仪本体1的内侧，从而使得使用过程中，通过进气口21通入放电反应气体，通入的放电反应气体，使得低温等离子体发生装置2低温等离子体，并进一步使产生的低温等离子体从位于治疗仪本体1内侧的等离子体喷头喷出，形成低温等离子体射流，该低温等离子体射流到达头部皮肤，利用低温等离子体射流中的带电粒子、活性粒子、自由基(如氧原子、羟基、活性氧、活性氮)，通过放电产生的热效应、带电粒子的轰击、交替变化的电场等作用，等离子体射流携带的活性粒子会极大程度的损害微生物细胞的完整性，导致微生物失活，达到灭菌的目的，实现对头皮糠疹的治疗。

其中低温等离子发生装置2的具体结构以及工作原理均为现有技术，本文不再赘述。

本实用新型提供的头皮糠疹治疗仪，通过低温等离子体发生装置2喷出的低温等离子体射流来进行灭菌，治疗头皮糠疹，不仅具有灭菌高效的优点，同时，治疗过程中不需引入药物，无化学残留、无微生物耐药性，不会产生副作用，安全、高效。

此外，低温等离子体发生装置2产生的低温等离子体，温度适中，与激光和射频的高温灭菌作用机制不同，温度适中的低温等离子体不会引起人体不适；而且，低温等离子体中存在的活性氧自由基成分还能够有效调控皮脂腺的分泌，同时有效促进真皮胶原蛋白新生，加速创面伤口的愈合，减少瘢痕组织的形成。

为提高对头皮糠疹的治疗效果，还可根据引起头皮糠疹的菌种的不同，制定不同的治疗方案；具体的，可通过从进气口21通入不同的放电反应气体来产生不同种类的低温等离子体，以有针对性的对不同的菌种进行有效灭菌；本实用新型优选低温等离子体发生装置2的放电反应气体选自空气、氩气、氦气、水蒸气、氧气中的一种。

为提高对头皮糠疹进行治疗的效果，本文中的头皮糠疹治疗仪还包括按摩装置3，该按摩装置3设置于治疗仪本体1的内侧。

使用过程中，通过设置于治疗仪本体1内侧的按摩装置3对使用者的头部进行按摩，以松缓头部神经、促进头皮血液循环、改善毛囊营养状况以及缓解毛囊堵塞，从而对头皮糠疹的治疗起辅助作用，提高对头皮糠疹的治疗效果。

具体的，参见图2所示，按摩装置3包括按摩头31，以及驱动按摩头31活动的驱动单元32；驱动单元32的一端与治疗仪本体1相连，另一端与按摩头31相连。

驱动单元32需与电源相连，其中电源线的排布可隐藏于治疗仪本体1的内部；接通电源后，驱动单元32工作，驱动按摩头31进行振荡，按摩头31在振荡过程中轻轻敲击使用者的头部，以实现对头部的按摩。

为提高头皮糠疹治疗仪的治疗效果，本文进一步优选按摩头31与等离子体喷头22相邻设置。

其中按摩头31与等离子体喷头22的距离根据治疗仪的尺寸而定，本实用新型进一步优选按摩头31与相邻等离子体22之间的距离为1cm。

将按摩头31与等离子体喷头22相邻设置，一方面能够通过突出于治疗仪本体1内侧的按摩头31能够将治疗仪本体1顶起，使与该按摩头31相邻设置的等离子体喷头22能够与头皮保持适当的距离，从而保证低温等离子体射流能够顺畅的从等离子体喷头22中喷出，并使低温等离子体射流能够与头皮和头发充分接触，增强灭菌效果；另一方面，有利于使等立体喷头22喷出的低温等离子体与按摩后的头部接触，以有助于促进皮肤对低温等离子体中存在的活性氧自由基成分进行吸收。

为保证低温等离子体射流能够从等离子体喷头22中顺畅喷出，本文提供的头皮糠疹治疗仪在使用过程中，等离子体喷头22与头皮保持1cm左右的距离，从而使得等离子体射流可以从等离子体喷头22中自由喷出而不发生堵塞。

为提高按摩装置3的按摩效果，本实用新型优选按摩头31的结构为半球形。

通过半球形的按摩头31对头部进行按摩，有利于减小按摩过程中按摩头31与头部皮肤的摩擦力，提高使用的舒适度。

按摩头31的尺寸可根据头皮糠疹治疗仪的大小进行设定，本实用新型优选按摩头31的直径为2cm。

为进一步提高使用的舒适度，优选按摩头31的材质为硅胶。

为提高头皮糠疹治疗仪的治疗效果，位于治疗仪本体1内侧的等离子体喷头22以及按摩头31的数量均可以为多个，且等离子体喷头22与按摩头31的数量相等，等离子体喷头22与按摩头31成组设置。

多组等离子体喷头22与按摩头31可以均匀于治疗仪本体1的内侧，也可以以其他规律进行分布；本文优选等离子体喷头22以及按摩头31按照人体头部穴位的位置进行分布；具体的，本文优选等离子体喷头22以及按摩头31的数量均至少为九个；九个按摩头31的位置与人体头部的穴位位置相对应。

如此，使用该头皮糠疹治疗仪时，九个按摩头31分别位于人体头部的九个穴位处，对头部的九个穴位进行按摩，以松缓头部神经、促进头皮血液循环、改善毛囊营养状况及缓解毛囊堵塞；同时，通过九个与按摩头31相邻设置的等离子体喷头22对头部的头发和皮肤进行全方位的覆盖，做到治疗无死角，提高对头皮糠疹的治疗效果。

具体的，参见图3所示，九个按摩头31对应的穴位分别为：第一按摩头311对应的穴位为右头维穴；第二按摩头312对应的穴位为神庭穴；第三按摩头313对应的穴位为百会穴；第四按摩头314对应的穴位为右承灵穴；第五按摩头315对应的穴位为右风池穴；第六按摩头316对应的穴位为风府穴；第七按摩头317对应的穴位为左头维穴；第八按摩头318对应的穴位为左承灵穴；第九按摩头319对应的穴位为左风池穴。

通过九个按摩头31分别对上述九个穴位进行按摩，一方面可以促使低温等离子体射流中的有效成分与头发及头皮充分接触，另一方则起到按摩、松缓头部神经、促进头皮血液循环、改善毛囊营养状况及缓解毛囊堵塞的作用。

虽然本公开披露如上，但本公开的保护范围并非仅限于此。本领域技术人员，在不脱离本公开的精神和范围的前提下，可进行各种变更与修改，这些变更与修改均将落入本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种头皮糠疹治疗仪，其特征在于，包括头盔状的治疗仪本体(1)，以及设置于所述治疗仪本体(1)内部的低温等离子体发生装置(2)；

所述低温等离子体发生装置(2)包括进气口(21)和等离子体喷头(22)，其中所述进气口(21)设置于所述治疗仪本体(1)的外侧，所述等离子体喷头(22)设置于所述治疗仪本体(1)的内侧。

2.如权利要求1所述的头皮糠疹治疗仪，其特征在于，所述头皮糠疹治疗仪还包括按摩装置(3)，所述按摩装置(3)设置于所述治疗仪本体(1)的内侧。

3.如权利要求2所述的头皮糠疹治疗仪，其特征在于，所述按摩装置(3)包括按摩头(31)，以及驱动所述按摩头(31)活动的驱动单元(32)；所述驱动单元(32)的一端与所述治疗仪本体(1)相连，另一端与所述按摩头(31)相连。

4.如权利要求3所述的头皮糠疹治疗仪，其特征在于，所述按摩头(31)与所述等离子体喷头(22)相邻设置。

5.如权利要求3所述的头皮糠疹治疗仪，其特征在于，所述按摩头(31)与相邻所述等离子体喷头(22)之间的距离为1cm。

6.如权利要求3所述的头皮糠疹治疗仪，其特征在于，所述按摩头(31)的结构为半球形。

7.如权利要求6所述的头皮糠疹治疗仪，其特征在于，所述按摩头(31)的直径为2cm。

8.如权利要求3所述的头皮糠疹治疗仪，其特征在于，所述按摩头(31)的材质为硅胶。

9.如权利要求3所述的头皮糠疹治疗仪，其特征在于，所述等离子体喷头(22)以及所述按摩头(31)的数量均为九个；九个所述按摩头(31)的位置与人体头部的穴位位置相对应。

10.如权利要求1～9任一项所述的头皮糠疹治疗仪，其特征在于，所述低温等离子体发生装置(2)的放电反应气体选自空气、氩气、氦气、水蒸气、氧气中的一种。

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