CN212160320U - 一种投影光学系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种投影光学系统,包括显示芯片、棱镜、第一子光学系统和第二子光学系统,所述显示芯片的一端设置为棱镜,所述棱镜的一端设置为第一子光学系统,所述第一子光学系统一端设置为第二子光学系统,所述显示芯片的物通过棱镜和所述第一子光学系统放大成第一实像,所述第二子光学系统对所述第一实像再次放大成第二实像。本实用新型解决了现有技术中分辨率高和投射比低无法兼顾的问题。
Description
技术领域
本实用新型涉及光学系统技术领域,具体的说,是一种投影光学系统。
背景技术
投影显示相较于其它显示技术,更胜任大尺寸、高分辨率的显示需求。近二十年来,投影显示得到广泛应用,一方面,显示分辨率显著提升,从最初的480p发展到目前的4k;另一方面,投射比持续减小,投射比<0.4的投影光学系统被发明且已经上市。由于畸变和倍率色差的问题,光学投影系统的高分辨和小投射比是相互矛盾的指标。公开资料显示,投射比<0.4的投影光学系统,都采用折反混合设计,且最后一个光学元件为非球面或自由曲面的反射镜,以实现对畸变的良好校正,同时尽量少地引入色差。比如专利CN101395516A揭示的投影光学系统,投射比<0.4,只满足XGA分辨率显示。又比如CN105158884A揭示的投影光学系统,投射比<0.4,分辨率只达到1080P。又比如CN105974560A揭示的投影光学系统,甚至没有给出分辨率。专利CN207181796U揭示的投影光学系统实际分辨率只达到1080P。为此,发明人采用折反混合设计,提供一种小投射比,高分辨率的投影光学系统,该光学系统能够满足原生4k和像素漂移8k分辨率的投影显示需求。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种投影光学系统,用于解决现有技术中分辨率高和投射比低无法兼顾的问题。
本实用新型通过下述技术方案解决上述问题:
一种投影光学系统,包括显示芯片、棱镜、第一子光学系统和第二子光学系统,所述显示芯片的一端设置为棱镜,所述棱镜的一端设置为第一子光学系统,所述第一子光学系统一端设置为第二子光学系统,所述显示芯片的物通过棱镜和所述第一子光学系统放大成第一实像,所述第二子光学系统对所述第一实像再次放大成第二实像。
所述第一子光学系统包括第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组,所述第二子光学系统包括反射镜,所述第一透镜组一端设置为为棱镜,所述第一透镜组的另一端设置为光阑,所述第一透镜组包含多个透镜,其中一个为非球面透镜,所述光阑的另一端设置为第二透镜组,所述第二透镜组包含多个透镜,所述第三透镜组位于第二透镜组和反射镜之间,所述第三透镜组包含多个透镜,其中一个为非球面透镜,所述第三透镜组的光焦度为负,所述反射镜位于第一实像之后。
所述第一透镜组设置为8个透镜,所述第二透镜组包含7个透镜,所述第三透镜组包含3个透镜。
所述第一透镜组设置为6个透镜,所述6个透镜中,第2、3透镜胶合,第4、5透镜胶合,所述第二透镜组设置为8个透镜,其中2个透镜设置为非球面透镜,所述第三透镜组设置为4个透镜。
所述第一实像的放大率>5,所述第二实像的放大率>5,整个投影光学系统的放大率>25。
所述显示芯片上物的最大物高为H,第一透镜组焦距为F1,0.2<H/F1<0.35。
所述显示芯片上物的最大物高主光线在反射镜上的入射角小于35度。
投影系统的工作波长设置为长波W1、中波W2和短波W3,最大物高长波W1主光线入射到第一子光学系统最后折射镜的高度为y1,最大物高长波W1主光线入射到反射镜上的高度为y2,最大物高短波W3主光线入射到第一光学最后折射镜的高度为y3,最大物高短波W3主光线入射到反射镜上的高度为y4,当y1>y3时,y2<y4,当y1<y3时,y2>y4。
本实用新型与现有技术相比,具有以下优点及有益效果:
本实用新型采用折反混合得设计,提供得小投射比,高分辨率得投影光学系统,能够满足原生4K和像素漂移8K分辨率得投影显示需求,解决了现有技术中小投射比和高分辨率无法兼顾得技术问题,提高了用户的使用感,提高了设备的适用性。
附图说明
图1为本实用新型的投影显示光路示意图。
图2为本实用新第一实施列的结构示意图。
图3为采用本实用新型第一实施列时的畸变曲线图。
图4为采用本实用新型第二实施列时的方波调制传递函数曲线图。
图5为本实用新型第二实施列的结构示意图。
图6为采用本实用新型第二实施列时的畸变曲线图。
图7为采用本实用新型第二实施列时的方波调制传递函数曲线图。
具体实施方式
下面结合实施例对本实用新型作进一步地详细说明,但本实用新型的实施方式不限于此。
实施例1:
结合图1和图2所示,一种投影光学系统,包括显示芯片100、棱镜200、第一子光学系统300和第二子光学系统500,所述显示芯片100的一端设置为棱镜200,所述棱镜200的一端设置为第一子光学系统300,所述第一子光学系统300一端设置为第二子光学系统500,所述显示芯片100的物通过棱镜200和所述第一子光学系统300放大成10倍的第一实像,所述第二子光学系统500对所述第一实像再次放大成145倍的第二实像,第二子光学系统500是反射系统,所以第一实像和第二子光学系统500处理以后的最终实像均在同一侧。
所述第一子光学系统300包括第一透镜组301、第二透镜组302和第三透镜组303,所述第二子光学系统500包括反射镜,所述第一透镜组301一端设置为为棱镜200,所述第一透镜组301的另一端设置为光阑,所述第一透镜组301包含多个透镜,其中一个为非球面透镜,所述光阑的另一端设置为第二透镜组302,所述第二透镜组302包含多个透镜,所述第三透镜组303位于第二透镜组302和反射镜之间,所述第三透镜组303包含多个透镜,其中一个为非球面透镜,所述第三透镜组303的光焦度为负,所述反射镜位于第一实像之后。
在本实施列中,所述第一透镜组301设置为8个透镜,所述第二透镜组302包含7个透镜,所述第三透镜组303包含3个透镜。
所述第一实像的放大率>5,所述第二实像的放大率>5,整个投影光学系统的放大率>25。
所述显示芯片100上物的最大物高为H,所述第一透镜组301焦距为F1,0.2<H/F1<0.35。
所述显示芯片上物的最大物高主光线在反射镜上的入射角小于35度。
投影系统的工作波长设置为长波W1、中波W2和短波W3,最大物高长波W1主光线入射到第一子光学系统最后折射镜的高度为y1,最大物高长波W1主光线入射到反射镜上的高度为y2,最大物高短波W3主光线入射到第一光学最后折射镜的高度为y3,最大物高短波W3主光线入射到反射镜上的高度为y4,当y1>y3时,y2<y4,当y1<y3时,y2>y4。
将上述的投影光学系统应用于实际场景中,该投影系统的最大物高H为13.8mm,第一透镜组的焦距F1为58mm,满足关系0.2<H/F1<0.35。光阑布置在第一透镜组和第二透镜组之间,简化地,光阑布置在第一透镜组301最后一个透镜表面上,由镜框担任光阑的作用。第二透镜组在平衡系统畸变和像散上起到重要作用。本实例最大物高主光线入射到反射镜的入射角为28度。本实例设置了三个工作波长,长波W1为641nm,中波W2为550nm,,短波W3为446nm.最大物高长波W1主光线入射第一子光学系统最后折射表面的高度y1为-44.983mm,入射到反射镜上的高度y2为-82.775mm,最大物高短波W3主光线入射到第一子光学系统最后折射表面的高度为y3为-45.483mm,入射到反射镜上的高度为y4为-82.191mm,各高度关系按数字大小有y1>y3,y2<y4。
本实例所有非球面透镜和非球面反射镜表面都由如下曲线方程表示:
该方程表示的非球面为旋转对称非球面,以Z轴为对称轴。其中,Z(r)表示曲面在Z轴方向的矢高,r表示曲面任意点的旋转半径,c为球面曲率,k为二次曲面常数,A、B、C、D、E、F、G、H、J为非球面高次项系数。
本实例光学系统参数如表1所示。
表1:
本实例内环物高2.3mm,外环物高13.8mm,畸变如图3所示,全视场畸变都控制在0.5%以内。
将本实例光学系统倒置,分析得到显示芯片处的方波传递函数如图4所示:从图中可以看到,180线对传递函数值超过0.4,满足对比度要求。结合本实例的物高,135线对已经满足原生4k和像素漂移8k显示分辨率要求,180线对明显超出这一需求。
实施列2:
结合图1和图5所示,在本实施列中,所述第一透镜组301设置为6个透镜,所述6个透镜中,第2、3透镜胶合,第4、5透镜胶合,所述第二透镜组302设置为8个透镜,其中2个透镜设置为非球面透镜,所述第三透镜组303设置为4个透镜。
所述第一实像的放大率>5,所述第二实像的放大率>5,整个投影光学系统的放大率>25。
所述显示芯片100上的最大物高为H,所述第一透镜组301焦距为F1,0.2<H/F1<0.35。
所述显示芯片上物的最大物高主光线在反射镜上的入射角小于35度。
投影系统的工作波长设置为长波W1、中波W2和短波W3,最大物高长波W1主光线入射到第一子光学系统最后折射镜的高度为y1,最大物高长波W1主光线入射到反射镜上的高度为y2,最大物高短波W3主光线入射到第一光学最后折射镜的高度为y3,最大物高短波W3主光线入射到反射镜上的高度为y4,当y1>y3时,y2<y4,当y1<y3时,y2>y4。
本实例中,该投影系统最大物高H为13.8mm,第一透镜组301的焦距F1为46mm,满足关系0.2<H/F1<0.35。系统光阑可以布置在第一透镜组和第二透镜组之间,简化地,系统光阑布置在第一透镜组301的最后一个透镜表面上,由镜框担任光阑的作用。第二透镜组在平衡系统畸变和像散上起到重要作用,第三透镜组光焦度为负,从而减小最大物高主光线入射到第二子光学系统500反射镜的入射角。本实例最大物高主光线入射到反射镜的入射角为31度,小于35度。本实例设置了三个工作波长,长波W1为641nm,中波W2为550nm,,短波W3为446nm.最大物高长波W1主光线入射第一子光学系统最后折射表面的高度y1为-60.749mm,入射到反射镜上的高度y2为-74.685mm,最大物高短波W3主光线入射到第一子光学系统最后折射表面的高度为y3为-60.493mm,入射到反射镜上的高度为y4为-75.405mm,各高度关系按数字大小有y1<y3,Y2>Y4。
第二子光学系统500为非球面反射镜。
本实例所有非球面透镜和非球面反射镜表面都由如下曲线方程表示:
该方程表示的非球面为旋转对称非球面,以Z轴为对称轴。其中,Z(r)表示曲面在Z轴方向的矢高,r表示曲面任意点的旋转半径,c为球面曲率,k为二次曲面常数,A、B、C、D、E、F、G、H、J为非球面高次项系数。
本实例光学系统参数如表2所示。
表2:
本实例内环物高2.3mm,外环物高13.8mm,畸变如图6所示,全视场畸变都控制在0.5%以内。
将本实例光学系统倒置,分析得到显示芯片处的方波传递函数如图7所示:从图中可以看到,200线对传递函数值超过0.5,满足对比度要求。结合本实例的物高,135线对已经满足原生4k和像素漂移8k显示分辨率要求,200线对明显超出这一需求。
本实用新型采用折反混合得设计,提供得小投射比,高分辨率得投影光学系统,能够满足原生4K和像素漂移8K分辨率得投影显示需求,解决了现有技术中小投射比和高分辨率无法兼顾得技术问题,提高了用户的使用感,提高了设备的适用性。
尽管这里参照本实用新型的解释性实施例对本实用新型进行了描述,上述实施例仅为本实用新型较佳的实施方式,本实用新型的实施方式并不受上述实施例的限制,应该理解,本领域技术人员可以设计出很多其他的修改和实施方式,这些修改和实施方式将落在本申请公开的原则范围和精神之内。
Claims (8)
1.一种投影光学系统,其特征在于:包括显示芯片、棱镜、第一子光学系统和第二子光学系统,所述显示芯片的一端设置为棱镜,所述棱镜的一端设置为第一子光学系统,所述第一子光学系统一端设置为第二子光学系统,所述显示芯片的物通过棱镜和所述第一子光学系统放大成第一实像,所述第二子光学系统对所述第一实像再次放大成第二实像。
2.根据权利要求1所述的一种投影光学系统,其特征在于:所述第一子光学系统包括第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组,所述第二子光学系统包括反射镜,所述第一透镜组一端设置为为棱镜,所述第一透镜组的另一端设置为光阑,所述第一透镜组包含多个透镜,其中一个为非球面透镜,所述光阑的另一端设置为第二透镜组,所述第二透镜组包含多个透镜,所述第三透镜组位于第二透镜组和反射镜之间,所述第三透镜组包含多个透镜,其中一个为非球面透镜,所述第三透镜组的光焦度为负,所述反射镜位于第一实像之后。
3.根据权利要求2所述的一种投影光学系统,其特征在于:所述第一透镜组设置为8个透镜,所述第二透镜组包含7个透镜,所述第三透镜组包含3个透镜。
4.根据权利要求2所述的一种投影光学系统,其特征在于:所述第一透镜组设置为6个透镜,所述6个透镜中,第2、3透镜胶合,第4、5透镜胶合,所述第二透镜组设置为8个透镜,其中2个透镜设置为非球面透镜,所述第三透镜组设置为4个透镜。
5.根据权利要求1所述的一种投影光学系统,其特征在于:所述第一实像的放大率>5,所述第二实像的放大率>5,整个投影光学系统的放大率>25。
6.根据权利要求1所述的一种投影光学系统,其特征在于:所述显示芯片上物的最大物高为H,第一透镜组焦距为F1,0.2<H/F1<0.35。
7.根据权利要求1所述的一种投影光学系统,其特征在于:所述显示芯片上物的最大物高主光线在反射镜上的入射角小于35度。
8.根据权利要求1所述的一种投影光学系统,其特征在于:投影系统的工作波长设置为长波W1、中波W2和短波W3,最大物高长波W1主光线入射到第一子光学系统最后折射镜的高度为y1,最大物高长波W1主光线入射到反射镜上的高度为y2,最大物高短波W3主光线入射到第一光学最后折射镜的高度为y3,最大物高短波W3主光线入射到反射镜上的高度为y4,当y1>y3时,y2<y4,当y1<y3时,y2>y4。
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CN202021312713.9U CN212160320U (zh) | 2020-07-07 | 2020-07-07 | 一种投影光学系统 |
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CN202021312713.9U CN212160320U (zh) | 2020-07-07 | 2020-07-07 | 一种投影光学系统 |
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CN212160320U true CN212160320U (zh) | 2020-12-15 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2023124807A1 (zh) * | 2021-12-29 | 2023-07-06 | 青岛海信激光显示股份有限公司 | 投影设备 |
-
2020
- 2020-07-07 CN CN202021312713.9U patent/CN212160320U/zh active Active
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WO2023124807A1 (zh) * | 2021-12-29 | 2023-07-06 | 青岛海信激光显示股份有限公司 | 投影设备 |
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