CN2120799U - 水处理装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种水处理装置,它由阳电极
(1)、阴电极(2)、绝缘层(3)、电极连接导体(4)、两端固
定接头(5)和外壳(6)构成。阳电极(1)是炭基的,阴电
极(2)是铝基的。本实用新型具有结构简单、造价低、
适用范围广、使用安装方便等优点,可用于饮用水、冷
却塔、洗浴水、锅炉用水、热交换器、冷凝器等多种水
处理领域。
Description
本实用新型涉及一种水处理装置。
目前,有些方案采用离子法和磁化法对水进行处理。它们均需外加电源或磁场,结构复杂,造价高。因此,其使用受到一定的限制。
本实用新型的任务是提供一种结构简单、造价低的水处理装置。
本实用新型的任务是这样实现的:它由阳电极[1]、阴电极[2]、绝缘层[3]、电极连接导体[4]、两端固定接头[5]和外壳[6]构成。阳电极[1]是碳基的,阴电极[2]是铝基的,绝缘层[3]是由耐热PVC制成的。
本实用新型具有结构简单、造价低、适用范围广、使用安装方便等优点。
图1:水处理装置结构原理图;
图2:水处理装置结构原理图的截面图;
图3:阳电极、阴电极和电极连接导体组装图;
图4:阳电极、阴电极和电极连接导体组装图的侧视图。
实施例:
如图1、2所示,水处理装置由阳电极[1]、阴电极[2]、绝缘层[3]、电极连接导体[4]、两端固定接头[5]和外壳[6]构成。阳电极[1]是碳基的,阴电极[2]是铝基的。外壳[6]由钢管制成,其两端具有螺纹,与固定接头[5]联接。绝缘层[3]的材料采用耐热PVC,制成圆筒形放入外壳[6]中。铝基阴电极[2]亦制成圆筒形,与碳基阳电极[1]、电极连接导体[4]组装后,同时放入绝缘层[3]的内腔中。绝缘层[3]与铝基阴电极[2]是等长的,通过两端的固定接头[5]将铝基阴电极[2]和绝缘层[3]固定在外壳[6]中。固定接头[5]具有中心通孔,以便水流通过。
阳电极[1]、阴电极[2]与电极连接导体[4]的组装如图3、4所示,阴电极[2]两端各有均匀分布的四个槽,电极连接导体[4]具有内孔及四个径向的叶片,阴电极[1]是一碳基材料制成的圆柱体,其两端各有一台阶。装配时,通过电极连接导体[4]的内孔,分别将两个电极连接导体[4]套在阳电极[1]两端的台阶处,同时使电极连接导体[4]的径向叶片放入阴电极[2]两端的槽中,阳电极[1]、阴电极[2]与两个电极连接导体[4]成为一个组装件。在安装与维修时将它们同时放入和取出。固定接头[5]在压紧绝缘层[3]和阴电极[2]的同时,也固定住了电极连接体[4]的叶片,进而将阳电极[1]固定在两个电极连接导体[4]之间。固定接头[5]可制成两端螺纹式,或一端螺纹另一端法盘联接式。通过接头螺纹或法兰盘将水处理装置接入水管之间。
在工作时,待处理水从水处理装置的一端流入,通过阴电极[2]与阳电极[1]的空间,然后从另一端流出。阳电极[1]是用与H+等正离子亲合力较强的碳基材料制成,阴电极[2]是用与负离子亲合力较强的铝基材料制成。当水从阳电极[1]和阴电极[2]之间流过时,正离子自动靠近碳基阳电极[1]而使其显正电极,OH-等负离子向铝基阴电极[2]靠近而使其显负电性,这样,在阳电极[1]和阴电极[2]之间形成一个微电场,该电场均匀分布,两极间电压在0.7伏左右。一般情况下,电极连接导体[4]是不导通的。当两极间电压超1伏时,电极连接导体[4]将自动导通,以免H+集聚过多而产生氢气。水从电场中流过后,即被软化处理,将溶于水中的钙盐及镁盐类成份变成浮游状单结晶体成为淤渣,而不吸附于管壁,随水沉淀。另外OH-吸附于金属管的内壁,处于还原状态,防止了铁锈的生成。经水处理装置处理后的水,再经附加的过滤装置过滤后除去,或经供水系统末端将沉淀物排出。
本实用新型可用于饮用水、冷却塔、洗浴水、锅炉用水、热交换器、冷凝器等多种水处理领域。
Claims (2)
1、一种水处理装置,其特征是它由阳电极[1]、阴电极[2]、绝缘层[3]、电极连接导体[4]、两端固定接头[5]和外壳[6]构成。
2、如权利要求1所述的水处理装置,其特征是阳电极[1]是碳基的,阴电极[2]是铝基的。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 92204523 CN2120799U (zh) | 1992-03-08 | 1992-03-08 | 水处理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 92204523 CN2120799U (zh) | 1992-03-08 | 1992-03-08 | 水处理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN2120799U true CN2120799U (zh) | 1992-11-04 |
Family
ID=4950914
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN 92204523 Granted CN2120799U (zh) | 1992-03-08 | 1992-03-08 | 水处理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN2120799U (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102020361A (zh) * | 2010-10-25 | 2011-04-20 | 苏州高新区禾云设备设计事务所 | 冷却水电化处理装置 |
CN101712512B (zh) * | 2008-09-30 | 2012-07-11 | 三洋电机株式会社 | 水处理装置 |
CN103482731A (zh) * | 2013-09-11 | 2014-01-01 | 吴正新 | 扰流净水装置 |
-
1992
- 1992-03-08 CN CN 92204523 patent/CN2120799U/zh active Granted
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101712512B (zh) * | 2008-09-30 | 2012-07-11 | 三洋电机株式会社 | 水处理装置 |
CN102020361A (zh) * | 2010-10-25 | 2011-04-20 | 苏州高新区禾云设备设计事务所 | 冷却水电化处理装置 |
CN103482731A (zh) * | 2013-09-11 | 2014-01-01 | 吴正新 | 扰流净水装置 |
CN103482731B (zh) * | 2013-09-11 | 2015-10-28 | 吴正新 | 扰流净水装置 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C19 | Lapse of patent right due to non-payment of the annual fee | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |