CN211595098U - 一种紫外消毒池 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种紫外消毒池,包括消毒本体,所述消毒本体的右端连接进水管,左端连接出水管,所述消毒本体的前后两端设有挡流墙,所述消毒本体自左至右依次包括相连通的第一消毒室、第二消毒室、监测室和静置室,所述第一消毒室与进水管相连通,用于对污水进行一次消毒,所述第二消毒室为紫外线消毒室,包括自下而上依次横向设置的2个~20个紫外线释放机构,所述紫外线释放机构用于对污水进行紫外消毒,所述监测室内设有监测装置用于对第二消毒室消毒后的污水进行检测,所述静置室的左端连通所述出水管,所述静置室包括1个~8个。本实用新型整体结构简单,消毒效率高,消毒彻底,可持续性进水,并可实时监测水质。
Description
技术领域
本实用新型涉及污废水处理技术领域,特别涉及一种紫外消毒池。
背景技术
污水处理厂一般都采用污水生化处理法进行处理后消毒排放,消毒的方式一般是加氯消毒,加氯消毒方式非常有效,但是也存在很大的弊端,经过氯化物的氧化作用会产生有机氯化物,其具有极强的致癌作用。
紫外线消毒作为一种新型物理消毒方法,不会向水中添加任何物质,没有副作用,明显优于加氯消毒,在现有污水消毒过程中得到广泛应用。现有技术中,紫外线消毒是污水处理中必不可少的一个环节,紫外线能够有效杀死污水中的有害细菌,保证排放水体的洁净程度。
但是,目前的紫外线消毒池将紫外线装置悬空设置在池水的上方,对流动的池水进行持续的照射,在污水经过时对水体进行杀菌,因紫外线的穿透性较差,如果出水悬浮物的指数不达标,紫外线将无法完全的穿透水体,导致目前污水处理厂的消毒池消毒不够彻底;现有技术中紫外线消毒过程中污水是从CASS工艺处理后直接进入紫外消毒池,因两者污水流量存在差别,易导致污水处理无法持续进行,现有技术中一般采用建设多个紫外消毒池的办法予以解决,这无疑增加了紫外消毒的成本;再者,现有技术中紫外消毒池因水流平缓,还存在紫外消毒效率低的问题,同时大多采用采样化验的方式对水质进行监测,因采样化验的时间间隔,无法实时监测污水消毒指标情况,当污水消毒不彻底,而进行排放后,对河流内的生物、甚至居民的生活都存在着较大的威胁。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是根据上述技术的不足,提供一种结构简单,消毒效率高,消毒彻底,可持续性进水,并可实时监测水质的紫外消毒池。
为解决上述技术问题,本实用新型的技术方案是:一种紫外消毒池,包括消毒本体,所述消毒本体的右端连接进水管,左端连接出水管,所述消毒本体的前后两端设有挡流墙,所述消毒本体自左至右依次包括相连通的第一消毒室、第二消毒室、监测室和静置室,所述第一消毒室与进水管相连通,用于对污水进行一次消毒,所述第二消毒室为紫外线消毒室,包括自下而上依次横向设置的2个~20个紫外线释放机构,所述紫外线释放机构用于对污水进行紫外消毒,所述监测室内设有监测装置用于对第二消毒室消毒后的污水进行检测,所述静置室的左端连通所述出水管,所述静置室包括1个~8个。
作为对本实用新型的进一步阐述:
优选地,所述进水管与消毒本体之间设有手电一体阀门。
优选地,所述第一消毒室为有氧消毒室,通过设置于内部的曝气装置对污水进行一次消毒。
优选地,所述第二消毒室还包括位于紫外线释放机构上端的紫外模块,所述紫外模块与紫外线释放机构相连通用于产生紫外线释放机构释放的紫外线,对污水进行紫外消毒。
优选地,所述第二消毒室的紫外模块通过位于所述紫外模块左右两端的支撑架固定于紫外线释放机构的上端。
优选地,所述消毒本体挡流墙的前后两端还设有超越渠,用于回收溢出挡流墙的污水。
优选地,所述第二消毒室和监测室之间设有水位传感器,所述水位传感器用于监测消毒本体的水位。
优选地,所述第一消毒室和第二消毒室的进水宽度小于监测室的进水宽度,所述监测室的进水水位高于静置室的进水水位,所述第一消毒室的设计水位高于静置室的设计水位。
优选地,还包括系统控制装置和配电装置,所述系统控制装置和配电装置位于消毒本体的上端,所述系统控制装置分别与紫外模块、水位传感器、配电装置、监测装置电性连接,所述系统控制装置控制配电装置的工作与否。
优选地,所述第一消毒室的右端设有第一储水室,所述第一储水室连通所述进水管,所述第一储水室的上端设有人孔,所述最左端静置室的左端设有第二储水室,所述第二储水室连通所述出水管。
本实用新型的有益效果是:其一、本实用新型包括消毒本体,所述消毒本体的右端连接进水管,左端连接出水管,所述消毒本体自左至右依次包括相连通的第一消毒室、第二消毒室、监测室和静置室,所述第一消毒室与进水管相连通,所述第一消毒室的右端设有第一储水室,所述第一储水室连通所述进水管,所述最左端静置室的左端设有第二储水室,所述第二储水室连通所述出水管,因第一储水室和第二储水室的设置,克服了现有技术中污水处理无法持续进水的情形,其设计结构简单、成本低;其二、所述消毒本体的前后两端设有挡流墙,所述消毒本体挡流墙的前后两端还设有超越渠,用于回收溢出挡流墙的污水,同时所述第二消毒室和监测室之间设有水位传感器,所述水位传感器用于监测消毒本体的水位,进一步保证持续紫外消毒进水的连续性和安全稳定性;其三、所述第一消毒室与进水管相连通,用于对污水进行一次消毒,所述第二消毒室为紫外线消毒室,包括自下而上依次横向设置的2个~20个紫外线释放机构,所述紫外线释放机构用于对污水进行紫外消毒,所述第一消毒室为有氧消毒室,通过设置于内部的曝气装置对污水进行一次消毒,克服了现有技术中,污水从CASS工艺处理后直接进入紫外消毒池导致的消毒不彻底的情形,第二消毒室还包括位于紫外线释放机构上端的紫外模块,所述紫外模块与紫外线释放机构相连通用于产生紫外线释放机构释放的紫外线,对污水进行紫外消毒,多个紫外线释放机构与污水直接接触,本新型结构的设置保证了紫外消毒的彻底,提高了紫外消毒的效率;其四、所述监测室内设有监测装置用于对第二消毒室消毒后的污水进行检测,所述监测装置用于检测污水中各离子含量及PH值,克服了现有技术中因采用采样化验的方式造成的时间间隔,导致超标污水排放对河流内的生物、甚至居民的生活存在的威胁;其五、所述第一储水室的上端设有人孔,便于维修;其六、所述第一消毒室和第二消毒室的进水宽度小于监测室的进水宽度,所述监测室的进水水位高于静置室的进水水位,所述第一消毒室的设计水位高于静置室的设计水位,此结构的设计,使得污水水流起伏,解决了紫外消毒过程中因水流平缓,存在的紫外消毒效率低的问题,本实用新型整体结构简单,消毒效率高,消毒彻底,可持续性进水,并可实时监测水质。
附图说明
图1为本实用新型的整体结构示意图。
图2为图1中A-A剖面示意图。
图3为图1中B-B剖面示意图。
图4为图1中C-C剖面示意图。
图中:1.进水管;2.出水管;3.挡流墙;4.第一消毒室;5.第二消毒室;6.监测室;7.静置室;8.紫外线释放机构;9.手电一体阀门;10.紫外模块;11.支撑架;12.超越渠;13.水位传感器;14.系统控制装置;15.配电装置;16.第一储水室;17.人孔;18.第二储水室。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的结构原理和工作原理作进一步详细说明。
如图1~图4所示,本实用新型为一种紫外消毒池,包括消毒本体,所述消毒本体的右端连接进水管1,左端连接出水管2,所述消毒本体的前后两端设有挡流墙3,本实施例中,挡流墙3为二次浇筑砖砌挡流墙3,所述消毒本体自左至右依次包括相连通的第一消毒室4、第二消毒室5、监测室6和静置室7,所述第一消毒室4与进水管1相连通,用于对污水进行一次消毒,所述第二消毒室5为紫外线消毒室,包括自下而上依次横向设置的2个~20个紫外线释放机构8,所述紫外线释放机构8用于对污水进行紫外消毒,所述监测室6内设有监测装置(图中未示出)用于对第二消毒室5消毒后的污水进行检测,所述监测装置用于检测污水中各离子含量及PH值,所述静置室7的左端连通所述出水管2,所述静置室7包括1个~8个,本实施例中,静置室7包括4个。
如图1~图2所示,所述进水管1与消毒本体之间设有手电一体阀门9。
进一步地,所述第一消毒室4为有氧消毒室,通过设置于内部的曝气装置(图中未示出)对污水进行一次消毒。
如图1~图2、图4所示,所述第二消毒室5还包括位于紫外线释放机构8上端的紫外模块10,所述紫外模块10与紫外线释放机构8相连通用于产生紫外线释放机构8释放的紫外线,对污水进行紫外消毒。进一步地,所述第二消毒室5的紫外模块10通过位于所述紫外模块10左右两端的支撑架11固定于紫外线释放机构8的上端。
如图1~图4所示,所述消毒本体挡流墙3的前后两端还设有超越渠12,用于回收溢出挡流墙3的污水。
如图1~图2所示,所述第二消毒室5和监测室6之间设有水位传感器13,所述水位传感器13用于监测消毒本体的水位。
如图1~图2所示,所述第一消毒室4和第二消毒室5的进水宽度小于监测室6的进水宽度,所述监测室6的进水水位高于静置室7的进水水位,所述第一消毒室4的设计水位高于静置室7的设计水位。
如图1~图2、图4所示,还包括系统控制装置14和配电装置15,所述系统控制装置14和配电装置15位于消毒本体的上端,所述系统控制装置14分别与紫外模块10、水位传感器13、配电装置15、监测装置电性连接,所述系统控制装置14控制配电装置15的工作与否。
如图1~图2所示,所述第一消毒室4的右端设有第一储水室16,所述第一储水室16连通所述进水管1,所述第一储水室16的上端设有人孔17,所述最左端静置室7的左端设有第二储水室18,所述第二储水室18连通所述出水管2。
在本申请的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“左端”、“右端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制,此外,术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。
以上所述,仅是本实用新型较佳实施方式,凡是依据本实用新型的技术方案对以上的实施方式所作的任何细微修改、等同变化与修饰,均属于本实用新型技术方案的范围内。
Claims (10)
1.一种紫外消毒池,其特征在于:包括消毒本体,所述消毒本体的右端连接进水管,左端连接出水管,所述消毒本体的前后两端设有挡流墙,所述消毒本体自左至右依次包括相连通的第一消毒室、第二消毒室、监测室和静置室,所述第一消毒室与进水管相连通,用于对污水进行一次消毒,所述第二消毒室为紫外线消毒室,包括自下而上依次横向设置的2个~20个紫外线释放机构,所述紫外线释放机构用于对污水进行紫外消毒,所述监测室内设有监测装置用于对第二消毒室消毒后的污水进行检测,所述静置室的左端连通所述出水管,所述静置室包括1个~8个。
2.根据权利要求1所述的紫外消毒池,其特征在于:所述进水管与消毒本体之间设有手电一体阀门。
3.根据权利要求2所述的紫外消毒池,其特征在于:所述第一消毒室为有氧消毒室,通过设置于内部的曝气装置对污水进行一次消毒。
4.根据权利要求3所述的紫外消毒池,其特征在于:所述第二消毒室还包括位于紫外线释放机构上端的紫外模块,所述紫外模块与紫外线释放机构相连通用于产生紫外线释放机构释放的紫外线,对污水进行紫外消毒。
5.根据权利要求4所述的紫外消毒池,其特征在于:所述第二消毒室的紫外模块通过位于所述紫外模块左右两端的支撑架固定于紫外线释放机构的上端。
6.根据权利要求5所述的紫外消毒池,其特征在于:所述消毒本体挡流墙的前后两端还设有超越渠,用于回收溢出挡流墙的污水。
7.根据权利要求6所述的紫外消毒池,其特征在于:所述第二消毒室和监测室之间设有水位传感器,所述水位传感器用于监测消毒本体的水位。
8.根据权利要求7所述的紫外消毒池,其特征在于:所述第一消毒室和第二消毒室的进水宽度小于监测室的进水宽度,所述监测室的进水水位高于静置室的进水水位,所述第一消毒室的设计水位高于静置室的设计水位。
9.根据权利要求1~8任意一项所述的紫外消毒池,其特征在于:还包括系统控制装置和配电装置,所述系统控制装置和配电装置位于消毒本体的上端,所述系统控制装置分别与紫外模块、水位传感器、配电装置、监测装置电性连接,所述系统控制装置控制配电装置的工作与否。
10.根据权利要求9所述的紫外消毒池,其特征在于:所述第一消毒室的右端设有第一储水室,所述第一储水室连通所述进水管,所述第一储水室的上端设有人孔,最左端静置室的左端设有第二储水室,所述第二储水室连通所述出水管。
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