CN211005700U - 一种电镀槽清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种电镀槽清洗装置，包括装置主体，所述装置主体上端设置有外接套筒，外接套筒前侧壁设置有密封旋钮，装置主体右侧壁设置有控速阀，装置主体上设置有上清洗头、中清洗头和下清洗头。该装置结构简单，便于操作，该装置采用外接水源的方法，利用装置主体与外接水源连通，通过设置在装置主体上的上清洗头、中清洗头和下清洗头来对电镀槽内壁各个角落进行喷水清洗，而且在装置主体下端设置有高压清洗头，能够对电镀槽下壁进行高压清洗，清洗的效率较高，清洗的效果较好，降低了电镀槽清洗的成本。

Description

一种电镀槽清洗装置

技术领域

本实用新型涉及一种电镀槽清洗技术领域，特别是涉及一种电镀槽清洗装置。

背景技术

电镀就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程，是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化（如锈蚀），提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性（硫酸铜等）及增进美观等作用；

在电镀过程中电镀槽是最基础的设备，主要功能是装置溶液。 镀槽的使用方式有按手工操作的工艺流程生产线直线排列，也有因地制宜的根据现场空间分开镀种排列，由于电镀槽内电解液长期的积淀和其他杂质的污染，电镀槽内壁和角落里会出现难以清洗的污渍，因此电镀槽需要进行定期清洗，传统的电镀槽清洗手段过于落后，清洗的效率较低，给电镀槽清洗带来较大的难度。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种电镀槽清洗装置，以解决上述背景技术中提出的问题，该装置结构简单，便于操作，该装置采用外接水源的方法，利用装置主体与外接水源连通，通过设置在装置主体上的上清洗头、中清洗头和下清洗头来对电镀槽内壁各个角落进行喷水清洗，而且在装置主体下端设置有高压清洗头，能够对电镀槽下壁进行高压清洗，清洗的效率较高，清洗的效果较好，降低了电镀槽清洗的成本。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：包括装置主体，所述装置主体上端设置有外接套筒，外接套筒前侧壁设置有密封旋钮，装置主体右侧壁设置有控速阀，装置主体上设置有上清洗头、中清洗头和下清洗头，且中清洗头位于上清洗头下侧，下清洗头位于中清洗头下侧，下清洗头下端设置有连通管，且连通管下端与高压清洗头连通，高压清洗头下端设置有挡流板，挡流板下侧设置有支撑腿，高压清洗头内部设置有集流仓，且集流仓与连通管连通，集流仓内设置有洗洁剂添加网，洗洁剂添加网右端设置有密封盖，集流仓下端设置有增压槽，增压槽下端设置有高压喷嘴，且高压喷嘴位于高压清洗头底部；

下清洗头内部设置有下喷嘴缓流仓，且下喷嘴缓流仓与装置主体连通，下喷嘴缓流仓外侧设置有下喷嘴，中清洗头内部设置有中喷嘴缓流仓，且中喷嘴缓流仓与装置主体连通，中喷嘴缓流仓外侧设置有中喷嘴，上清洗头内部设置有上喷嘴缓流仓，且上喷嘴缓流仓与装置主体连通，上喷嘴缓流仓外侧设置有上喷嘴。

较佳地，所述装置主体采用钢化玻璃材料制成，这样设置使得可以通过外界直接观察装置主体内部的情况，便于装置主体内部发生堵塞时随时清理。

较佳地，所述外接套筒上侧壁设置有密封垫圈，密封垫圈的设置可以增强外接套筒与外界水源外接时的密封性，增强水流的压力。

较佳地，所述支撑腿下端设置有稳定支垫，稳定支垫的设置可以增大支撑腿下端与电镀槽下壁的接触面积，增强支撑腿的支撑稳定性。

较佳地，所述洗洁剂添加网右端设置有漏斗槽，漏斗槽的设置可以便于洗洁剂导入洗洁剂添加网内，从而使得穿过集流仓内的水流能够更均匀的带走洗洁剂添加网内的洗洁剂。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该装置结构简单，便于操作，该装置采用外接水源的方法，利用装置主体与外接水源连通，通过设置在装置主体上的上清洗头、中清洗头和下清洗头来对电镀槽内壁各个角落进行喷水清洗，而且在装置主体下端设置有高压清洗头，能够对电镀槽下壁进行高压清洗，清洗的效率较高，清洗的效果较好，降低了电镀槽清洗的成本。

附图说明：

图1为本实用新型整体结构示意图；

图2为本实用新型的高压清洗头内部结构示意图；

图3为本实用新型的下清洗头结构示意图；

图4为本实用新型的中清洗头结构示意图；

图5为本实用新型的上清洗头结构示意图。

图中：1、装置主体，2、外接套筒，3、密封旋钮，4、控速阀，5、上清洗头，6、中清洗头，7、下清洗头，8、连通管，9、高压清洗头，10、挡流板，11、支撑腿，12、集流仓，13、洗洁剂添加网，14、密封盖，15、增压槽，16、高压喷嘴，17、下喷嘴缓流仓，18、下喷嘴，19、中喷嘴缓流仓，20、中喷嘴，21、上喷嘴缓流仓，22、上喷嘴。

具体实施方式：

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-5，当使用本装置时，通过位于装置主体1上端的外接套筒2与外界水源连通，利用位于外接套筒2前侧壁的密封旋钮3来将外接套筒2固定密封，在外接套筒2上侧壁设置有密封垫圈，密封垫圈的设置可以增强外接套筒2与外界水源外接时的密封性，增强水流的压力，将该装置放置在需要进行清洗的电镀槽内，利用位于挡流板10下侧的支撑腿11进行支撑，在支撑腿11下端设置有稳定支垫，稳定支垫的设置可以增大支撑腿11下端与电镀槽下壁的接触面积，增强支撑腿11的支撑稳定性，当外界水源输送到装置主体1内时，水流进入位于装置主体1上的上清洗头5、中清洗头6和下清洗头7内，并且通过分别设置在上清洗头5、中清洗头6和下清洗头7外侧壁上的上喷嘴22、中喷嘴20和下喷嘴18喷出，由于上清洗头5、中清洗头6和下清洗头7均呈盘状设置，在上清洗头5、中清洗头6和下清洗头7外侧壁设置有多个喷嘴，从而能够全方位的对电镀槽侧壁进行喷淋清洗，该装置中装置主体1采用钢化玻璃材料制成，这样设置使得可以通过外界直接观察装置主体1内部的情况，便于装置主体1内部发生堵塞时随时清理；

由于装置主体1的内径比位于下清洗头7下侧的连通管8的内径要大，因此装置主体1内的水流量大于连通管8内的水流量，清洗的水源通过连通管8导入到位于装置主体1下侧的高压清洗头9内，进入高压清洗头9内的水流会进入位于高压清洗头9内的集流仓12内，向位于集流仓12内的洗洁剂添加网13内加入需要使用的洗洁剂，经过集流仓12内的水流会均匀的带走洗洁剂添加网13内的洗洁剂，然后进入增压槽15，最后通过位于高压清洗头9底部的高压喷嘴16喷出，混有洗洁剂的高压水流会持续冲刷电镀槽下壁，从而将附着在电镀槽下壁的顽固污渍清洗掉，而且通过高压喷嘴喷16出的水流与电镀槽下壁接触时会四溅开来，在挡流板10的作用下保持平行飞溅，使得清洗面积变大，从而提高了电镀槽下壁的清洗效率，在洗洁剂添加网13右端设置有漏斗槽，漏斗槽的设置可以便于洗洁剂导入洗洁剂添加网13内，从而使得穿过集流仓12内的水流能够更均匀的带走洗洁剂添加网13内的洗洁剂。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (5)

1.一种电镀槽清洗装置，包括装置主体（1），其特征在于，所述装置主体（1）上端设置有外接套筒（2），外接套筒（2）前侧壁设置有密封旋钮（3），装置主体（1）右侧壁设置有控速阀（4），装置主体（1）上设置有上清洗头（5）、中清洗头（6）和下清洗头（7），且中清洗头（6）位于上清洗头（5）下侧，下清洗头（7）位于中清洗头（6）下侧，下清洗头（7）下端设置有连通管（8），且连通管（8）下端与高压清洗头（9）连通，高压清洗头（9）下端设置有挡流板（10），挡流板（10）下侧设置有支撑腿（11），高压清洗头（9）内部设置有集流仓（12），且集流仓（12）与连通管（8）连通，集流仓（12）内设置有洗洁剂添加网（13），洗洁剂添加网（13）右端设置有密封盖（14），集流仓（12）下端设置有增压槽（15），增压槽（15）下端设置有高压喷嘴（16），且高压喷嘴（16）位于高压清洗头（9）底部；

下清洗头（7）内部设置有下喷嘴缓流仓（17），且下喷嘴缓流仓（17）与装置主体（1）连通，下喷嘴缓流仓（17）外侧设置有下喷嘴（18），中清洗头（6）内部设置有中喷嘴缓流仓（19），且中喷嘴缓流仓（19）与装置主体（1）连通，中喷嘴缓流仓（19）外侧设置有中喷嘴（20），上清洗头（5）内部设置有上喷嘴缓流仓（21），且上喷嘴缓流仓（21）与装置主体（1）连通，上喷嘴缓流仓（21）外侧设置有上喷嘴（22）。

2.根据权利要求1所述的一种电镀槽清洗装置，其特征在于，所述装置主体（1）采用钢化玻璃材料制成。

3.根据权利要求1所述的一种电镀槽清洗装置，其特征在于，所述外接套筒（2）上侧壁设置有密封垫圈。

4.根据权利要求1所述的一种电镀槽清洗装置，其特征在于，所述支撑腿（11）下端设置有稳定支垫。

5.根据权利要求1所述的一种电镀槽清洗装置，其特征在于，所述洗洁剂添加网（13）右端设置有漏斗槽。

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