CN210760018U - 成像薄膜及电子设备壳体 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及光学薄膜技术领域，尤其涉及一种成像薄膜及电子设备壳体。所述成像薄膜包括本体，所述本体具有相背对的第一表面和第二表面，所述第一表面形成有聚焦层，所述第二表面形成有或所述本体嵌设有图文层；所述聚焦层和所述图文层之间的距离为2～150微米；所述图文层存在渐变，所述图文层与所述聚焦层相适配，以通过所述聚焦层形成影像，且所述影像具有渐变效果。本实用新型提供的成像薄膜的图文层存在渐变，使得形成的影像具有渐变效果，从而使成像薄膜起到渐变且具有立体的效果，用于电子设备外壳时起到美观的作用。

Description

成像薄膜及电子设备壳体

技术领域

本实用新型涉及光学薄膜技术领域，尤其涉及一种成像薄膜及电子设备壳体。

背景技术

现有的很多技术领域要求产品的颜色或者图文呈渐变的效果，这样给人们一个视觉上的过度，在某些程度上也能起到安全的效果；例如，现有产品市场上电器的外壳、手机的外壳、或者一些电子设备上的贴膜、或者交通工具上的贴膜也需要渐变的效果。

现有技术中的颜色渐变采用的技术方案有多种选择，例如：采用印刷技术印刷不同的油墨，通过调色是的颜色或者图案产生渐变；或者通过采用提拉的方式得到颜色的渐变的效果，再或者使用磁粉材料实现颜色的渐变效果。但是这些技术方案都会带来一些技术问题，采用第一种技术方案通过调色来实现的，这样使的产品的分辨率不够高，出现点纹；第二种技术方案所形成的产品在图文之间会出现不稳定以及重复性差；第三种采用磁粉实现渐变的效果成本太高，作为工业生产价格比较高。

因此，目前亟待需要一种成像薄膜及电子设备壳体来解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型提供了一种成像薄膜及电子设备壳体，以实现成像薄膜具有渐变的效果。

本实用新型提供了一种成像薄膜，包括本体，所述本体具有相背对的第一表面和第二表面，所述第一表面形成有聚焦层，所述第二表面形成有或所述本体嵌设有图文层；

所述聚焦层和所述图文层之间的距离为2～150微米；

所述图文层存在渐变，所述图文层与所述聚焦层相适配，以通过所述聚焦层形成影像，且所述影像具有渐变效果。

优选地，所述图文层具有多个微图文，每个所述微图文存在渐变和/或多个所述微图文在所述图文层中的分布存在渐变。

优选地，所述微图文包括凹槽结构和/或凸起结构，所述凹槽结构和/或所述凸起结构形成所述微图文。

优选地，所述凹槽结构填充有填充物，填充有填充物的所述凹槽结构形成所述微图文。

优选地，所述填充物的颜色存在渐变。

优选地，多个所述微图文中的所述凹槽结构在所述图文层中的占空比、凹陷深度、凹陷开口大小、分布周期和分布密度中的一种或多种存在变化设置。

优选地，多个所述微图文中的所述凸起结构在所述图文层中的凸出高度、凸出面积大小、分布周期和分布密度中的一种或多种存在变化设置。

优选地，所述凹槽结构的内表面和/或所述凸起结构的外表面设置有镀膜层。

优选地，所述填充物的外表面和/或所述凸起结构的外表面设置有镀膜层。

优选地，所述微图文通过镀膜方式形成。

优选地，所述微图文包括凹槽结构，所述凹槽结构填充有填充物，所述填充物通过镀膜方式填充于所述凹槽结构中。

优选地，所述微图文包括凸起结构，所述凸起结构通过镀膜方式形成。

优选地，所述聚焦层和所述图文层分别采用一种或多种聚合物制成。

优选地，所述本体还包括间隔层，所述聚焦层和所述图文层分别设置于所述间隔层的两侧。

优选地，所述间隔层和所述聚焦层分别采用一种或多种聚合物制成，所述间隔层和所述图文层分别采用一种或多种聚合物制成。

优选地，所述渐变的种类包括颜色的渐变、灰度的渐变、透过率的渐变、反射率的渐变和明暗的渐变中的一种或几种。

优选地，所述聚焦层具有多个聚焦单元，所述聚焦单元与所述微图文相适配。

优选地，所述聚焦单元为柱面镜、微透镜和菲涅尔透镜中的一种或几种。

优选地，相邻两个所述聚焦单元之间为无间隔设置或有间隔设置。

一种电子设备壳体，包括基层和粘结于所述基层上的成像薄膜，所述成像薄膜为上述的成像薄膜；

所述成像薄膜还包括设置于所述聚焦层上的反射层、设置于所述反射层上的着色层和设置于所述图文层上的粘胶层；

所述成像薄膜通过所述粘胶层粘结于所述基层上。

有益效果：

本实用新型提供的成像薄膜的图文层存在渐变，使得形成的影像具有渐变效果，从而使成像薄膜起到渐变且具有立体的效果，用于电子设备外壳时起到美观的作用。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本实用新型。

附图说明

图1为本实用新型提供的成像薄膜的一种剖面示意图；

图2为本实用新型提供的成像薄膜的又一种剖面示意图；

图3为本实用新型提供的成像薄膜的又一种剖面示意图；

图4为本实用新型提供的成像薄膜的又一种剖面示意图；

图5为本实用新型提供的成像薄膜的又一种剖面示意图；

图6为本实用新型提供的成像薄膜的又一种剖面示意图；

图7为本实用新型提供的成像薄膜的又一种剖面示意图；

图8为本实用新型提供的成像薄膜的又一种剖面示意图；

图9为本实用新型提供的成像薄膜的又一种剖面示意图；

图10为本实用新型提供的成像薄膜的又一种剖面示意图；

图11为本实用新型提供的成像薄膜的又一种剖面示意图；

图12为本实用新型提供的成像薄膜的又一种剖面示意图；

图13为本实用新型提供的成像薄膜的又一种剖面示意图；

图14为本实用新型提供的成像薄膜的又一种剖面示意图；

图15为本实用新型提供的电子设备壳体的剖面示意图。

附图标记：

1-聚焦层；

11-聚焦单元；

12-融合部；

2-图文层；

21-凹槽结构；

22-填充物；

23-凸起结构；

24-镀膜层；

3-间隔层；

4-基层；

5-粘胶层；

6-反射层；

7-着色层。

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本实用新型的实施例，并与说明书一起用于解释本实用新型的原理。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

在本实用新型的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“第一”、“第二”仅用于描述的目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性；除非另有规定或说明，术语“多个”是指两个或两个以上；术语“连接”、“固定”等均应做广义理解，例如，“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接，或电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

本说明书的描述中，需要理解的是，本实用新型实施例所描述的“上”、“下”等方位词是以附图所示的角度来进行描述的，不应理解为对本实用新型实施例的限定。此外，在上下文中，还需要理解的是，当提到一个元件连接在另一个元件“上”或者“下”时，其不仅能够直接连接在另一个元件“上”或者“下”，也可以通过中间元件间接连接在另一个元件“上”或者“下”。

如图1至图14所示，其分别为本实用新型提供的成像薄膜的剖面示意图。

该成像薄膜包括本体，该本体具有相背对相背对的第一表面和第二表面，第一表面形成有聚焦层1，第二表面2或本体的内部形成有图文层2；聚焦层1和图文层2之间的距离为2～150微米，图文层2存在渐变，图文层2与聚焦层1相适配，以通过聚焦层1形成影像，且该影像具有渐变效果。可以理解的是，“渐变效果”可以广义的理解为是存在变化，也就是说，通过存在渐变的图文层2经聚焦层1形成影像后，该影像的视觉效果存在变化(相对单一的视觉效果而言)，以增加用户的体现和成像效果。本实用新型提供的成像薄膜的图文层2存在渐变，使得形成的影像具有渐变效果，从而使成像薄膜起到渐变且具有立体的效果，用于电子设备外壳时起到美观的作用。

可以理解的是，本实用新型由于聚焦层1和图文层2分别设置于本体中相背对的两侧，如此利用莫尔成像的原理使得图文层2经过聚焦层1所成的像具有立体兼有渐变的效果。也就是说，相比现有技术，本实用新型所成的像还具有立体的成像效果。

其中，图文层2与聚焦层1相适配，具体是形成图文层2的最小单元(例如微图文)与形成聚焦层1的最小单元(例如聚焦单元11)相适配，因此可以理解为：每个微图文与每个聚焦单元11均一一对应设置，以利于在切割成像薄膜时，可以保证所切割成的每个成像薄膜中至少含有一个完整的聚焦单元11以及微图文，进而可以保证图文层2能通过聚焦层1(或微图文能通过聚焦单元11)成像。

优选地，微图文设置于聚焦单元11的焦平面处，可以理解为：微图文设置于聚焦单元11的焦平面上或其附近(即预设范围内)，如此可使微图文通过聚焦单元11进行成像，进而在观察时可以观察到微图文的放大图像。

具体地，图文层2可以包括多个相同或不同的微图文，所述微图文可以为图形、文字、数字、网格、风景画和/或logo等易于辨别形状的图文。不同的微图文可以是大小不同、形状不同和/或构成不同，例如第一个微图文是公司名称，第二个微图文是公司Logo。

具体地，微图文通过聚焦单元11成像，可以理解为是微图文通过对应的聚焦单元11成像。每个微图文位于与其对应的聚焦单元11中对应的焦平面附近，该焦平面表示过聚焦单元11的焦点且垂直于聚焦单元11主光轴的平面。

图文层2存在渐变具体为：每个微图文存在渐变和/或多个微图文在图文层2中的分布存在渐变。例如，当每个微图文存在渐变时，可以是每个微图文自身的颜色存在渐变，即每个微图文呈现微观意义上的渐变效果；当多个微图文在图文层2中的分布存在渐变时，可以是多个微图文分布周期和分布密度等方面存在渐变，即多个微图文呈现宏观意义上的渐变效果。当然，当多个微图文在图文层2中的分布存在渐变时，也可以是多个微图文的整体颜色存在渐变。

例如，每个微图文自身的颜色可以是同种颜色也可以是不同种颜色，颜色存在渐变具体指：颜色可以是由深至浅或由浅至深变化设置。而多个微图文的整体颜色也可以是同种颜色也可以是不同种颜色，整体颜色存在渐变具体指：一个微图文的颜色及深浅相同，但每个或部分的微图文的颜色或深浅是不同的，如此从宏观角度而言，整个图文层2的颜色是整体存在渐变。

聚焦层1和图文层2之间的距离为2～150微米，可以理解为：聚焦单元11的顶部与微图文的顶部之间的距离可以为2～150微米。在聚焦单元11和微图文之间的距离很小时，可以理解为微图文嵌设在聚焦单元11中。聚焦单元11和微图文之间的距离越小，则成像薄膜的厚度越薄，这不仅可以节约成本，在烫印时更易于切断。

具体地，微图文包括凹槽结构21(参见图1至图10，其中图5至图9示出的是填充有填充物22的凹槽结构21)和/或凸起结构23(参见图11至图14)，凹槽结构21和/或凸起结构23形成微图文。此时，多个微图文中的凹槽结构21在图文层2中的占空比、凹陷深度、凹陷开口大小、分布周期和分布密度中的一种或多种存在变化设置。或者，多个微图文中的凸起结构23在图文层2中的凸出高度、凸出面积大小、分布周期和分布密度中的一种或多种存在变化设置。

图文层2存在渐变的种类可以包括颜色的渐变、灰度的渐变、透过率的渐变、反射率的渐变、明暗的渐变中的一种或几种。例如颜色由深变浅，或者由明变暗，或者透过率由大变小等，也就是在视觉效果上存在变化，并且该变化中存在一定的过渡或缓冲。也就是说，实现上述渐变效果需要凹槽结构21在图文层2中的占空比、凹陷深度、凹陷开口大小、分布周期和分布密度中的一种或多种存在变化设置，例如凹槽结构21在单位面积内的占空比逐渐变大、开口逐渐变大、密度越来越密等，和/或凸起结构23在单位面积内的凸出高度逐渐变大、凸出面积逐渐变大、密度越来越密等。

其中，透过率的渐变效果为透过率在至少一个方向上变大或变小，可以通过调节凹槽结构21的占空比来控制透过率。占空比可以理解为：在渐变方向的单位面积内，凹槽结构21的面积占整个图文层2的面积的比值。

需要说明的是，图文层2存在渐变的效果有时并不为单一的渐变效果，有可能包括两种及以上的渐变效果，例如同时包括颜色由深至浅的渐变效果和透过率由小变大的渐变效果。

进一步地，当微图文包括凹槽结构21时，凹槽结构21内还可以填充有填充物22，填充有填充物22的凹槽结构21形成微图文。也就是说，微图文既可以是凹槽结构21和/或凸起结构23，还可以是填充有填充物22的凹槽结构21和/或凸起结构23。可以理解的是，凹槽结构21的深度小于等于图文层2的厚度。

具体地，填充物22可以为与成像薄膜采用的制作材料(如聚合物)对光存在折射率差异的材料，可以包括着色材料、染色材料、金属材料或导电材料等，例如油墨。优选地，填充物的颜色可以与聚合物的颜色有所不同，以便于人们在观察微图文的成像时，可以明显的分辨出微图文中的图案。

填充的方式具有多种，例如可以是印刷、涂布、沉积或电镀等。当微图文包括填充有填充物22的凹槽结构21时，可以通过设置填充物22的颜色存在渐变实现每个微图文自身颜色的渐变或实现多个微图文的整体颜色的渐变。需要说明的是，本实用新型中的微图文并不限于填充有填充物22的凹槽结构21部分，也可以包括凹槽结构21的周围部分。

进一步地，微图文通过镀膜方式形成，如此可保证形成的微图文的反射率不小于5％，进而可以增加微图文的亮度。

其中，微图文包括填充有填充物22的凹槽结构21时，填充物22通过镀膜方式填充于凹槽结构21中(例如图2)。

同理，微图文包括凸起结构23时，凸起结构23通过镀膜方式形成(参见图14)，如此可保证形成的微图文的反射率不小于5％，即可以增加微图文的亮度。

具体地，上述镀膜方式包括化学式镀膜和/或物理式镀膜，其中：化学式镀膜可以是但不局限于电沉积法、气相沉积法或脉冲激光沉积法；物理式镀膜可以是但不局限于蒸镀、溅镀、蚀刻、遮镀、离子镀或电镀；也可以是化学式镀膜和物理式镀膜的结合，例如一部分微图文采用化学式镀膜方式，另一部分微图文采用物理式镀膜方式。

进一步地，凹槽结构21的内表面和/或凸起结构23的外表面设置有镀膜层24(参见图3、图4、图12和图13)，如此不仅可保证微图文在图文层2中存在渐变，还能保证微图文具有更高的亮度。此种情况下，如果微图文包括凸起结构23，那么凸起结构23可以是通过压印的方式形成在本体的表面，为提高凸起结构23的亮度，可以在凸起结构23的外表面设置镀膜层24。镀膜层24可以理解的是，通过将含有金属成分的浆料涂覆在结构(例如凹槽结构21和/或凸起结构23)的表面，固化成型后形成镀膜层24。

当微图文包括凹槽结构21时，凹槽结构21内还可以填充有填充物22，填充有填充物22的凹槽结构21形成微图文，所述填充物22的外表面设置有所述镀膜层24(参见图5、图6、图7和图9)。也就是说，微图文既可以是凹槽结构21和/或凸起结构23，还可以是填充有填充物22的凹槽结构21和/或凸起结构23。

需要指出的是，微图文可以采用存在渐变效果的镀膜方式形成，也可以采用不存在渐变效果的镀膜方式形成。同理，镀膜层24可以自身存在渐变效果，也可以不存在渐变效果；当镀膜层24自身不存在渐变效果时，其作用仅是能够能加更高的亮度，因此此时图文层2需使每个微图文存在渐变和/或多个微图文在图文层2中的分布存在渐变。

具体地，镀膜层24的成型方式包括化学式镀膜和/或物理式镀膜，其中：化学式镀膜可以是但不局限于电沉积法、气相沉积法或脉冲激光沉积法；物理式镀膜可以是但不局限于蒸镀、溅镀、蚀刻、遮镀、离子镀或电镀；也可以是化学式镀膜和物理式镀膜的结合，例如一部分微图文采用化学式镀膜方式，另一部分微图文采用物理式镀膜方式。

在其中一实施例中，微透镜随机分布设置且具有一个不动点，微图文与微透镜一一对应设置，且根据微透镜的不动点进行旋转或缩放设置。微图文的大小渐变设置，优选的实施方式中，绕不动点向外扩散，微图文的大小逐渐变大或逐渐变小，从而，微透镜和微图文相适配形成唯一的悬浮图像且能消除悬浮图像周围的莫尔环带，使得悬浮图像清晰，成像质量较高。

在其中一实施例中，微透镜随机分布，所述微图文与所述微透镜对应设置，且所述微透镜与所述微图文对应设置使得形成唯一的悬浮图像或影像，其中，所述微图文以一位置为起点至少向一方向上所述图文大小渐变设置，或者，所述微图文以一位置为起点并且其大小向其周围渐变，再或者，以一固定点为起点或者为中心，所述微图文围绕固定点向外扩散或渐变，这里的渐变可以是变大也可以是变小，这样微透镜和微图文相适配形成唯一的悬浮图像且能消除悬浮图像周围的莫尔环带，使得悬浮图像清晰，成像质量较高。

进一步地，聚焦层1和图文层2分别采用一种或多种聚合物制成。所述聚合物可以为单个聚合物，也可以为由多个不会发生反应的单个聚合物混合成的混合聚合物。所述聚合物的透光率可以大于70％，或聚合物为透明颜色或者在视觉上显示透明。所述聚合物可以为PET(polyethyleneterephthalate，聚对苯二甲酸乙二醇酯)、PVC(Polyvinylchloride，聚氯乙烯)、PC(Polycarbonate，聚碳酸酯)或者PMMA(PolymethylMethacrylate，聚甲基丙烯酸甲酯)等树脂材料，也可以为UV(UltravioletRays)、OCA(OpticallyClearAdhesive)等光固化胶或热固化胶。

在所述聚合物为一种聚合物时，聚焦单元11和微图文可以分别形成于该聚合物形成的本体中相背对的两侧，具体可以是相背对的上下表面(例如图1至图7)，也可以分别形成于本体中的上表面和靠下的内部(参见图8)。此时，本体为一层聚合物层，其中的聚合物可以均匀分布，也可以不均匀分布。聚焦单元11和用于形成微图文的凹槽结构21形成于同一聚合物层，因此在聚焦层1和图文层2之间没有分界面，即聚焦层1和图文层2为一体结构。

在所述聚合物为两种聚合物时，聚焦单元11可以形成于一种聚合物的上表面，微图文可以形成于另一种聚合物下表面或其内部。这两种聚合物之间的相邻部位形成有融合部12(参见图7和图9)。因此，聚焦层1和图文层2可以视为一体结构，在聚焦单元11和用于形成微图文的凹槽结构21之间不会存在分界面，或者成像薄膜的截面上聚焦单元11和凹槽结构21之间不存在明显的层与层的分界线或者所呈现的分界线为规则整齐的分界线。所述融合部可以是这两种聚合物按照预设比例融合形成的区域。所述预设比例可以是N:M，其中N和M分别为聚焦层1和图文层2的相邻部位交接处这两种聚合物的含量，其取值均可以为0～100％，但不包括0和100％。需要说明的是，聚焦层1中聚合物的含量为100％；图文层2中聚合物的含量为100％。所述相邻部位可以是在利用模具挤压这两种聚合物形成聚焦层1和图文层2时，这两种聚合物之间的接触部位。

聚焦层1可以用于对图文层2进行成像，聚焦层1具有多个聚焦单元11，聚焦单元11可以是柱面镜、微透镜和菲涅尔透镜中的一种或几种。多个聚焦单元11之间可以不存在间隙，即无间隔设置(参见图6)，以便于减小所述成像薄膜的整体体积。多个聚焦单元11之间也可以存在间隙，即有间隔设置(例如图5)，以便于在切割所述成像薄膜时可以保证所切割聚焦单元11的完整性，从而可以保证聚焦单元11的后续成像效果。

需要说明的是，对于图8中微图文的结构，可以通过在聚合物的表面形成凹槽结构21，然后在凹槽结构21中填充有填充物22后形成微图文，再在形成微图文的表面涂布聚合物，这样所形成的微图文便能位于图文层2的内部；并且由于微图文两侧是同种聚合物，因此微图文所在表面会因聚合物融合而消失，从而在图文层2的内部不会形成分界面。

可以理解的是，对于图8所示的情况，填充物22可以以镀膜的方式填充到凹槽结构21内，以增强微图文的亮度。

请参阅图10至图14，在另一实施例中，上述成像薄膜还包括间隔层3。聚焦层1和图文层2分别位于间隔层3的两侧(具体分别位于间隔层3的上侧和下侧)。间隔层3可以用于调节聚焦层1和图文层2之间的距离，即用于调节聚焦单元11的焦距。间隔层3还可起到承载聚焦层1和图文层2的作用。

具体地，用于形成聚焦层11、图文层2和间隔层3的聚合物可以相同，也可以不同。也就是说，间隔层3和聚焦层1分别采用一种或多种聚合物制成，间隔层3和图文层2分别采用一种或多种聚合物制成。也就是说，间隔层3可以采用PET(polyethyleneterephthalate，聚对苯二甲酸乙二醇酯)、PVC(Polyvinylchloride，聚氯乙烯)、PC(Polycarbonate，聚碳酸酯)或者PMMA(PolymethylMethacrylate，聚甲基丙烯酸甲酯)等树脂材料，也可以为UV(UltravioletRays)、OCA(OpticallyClearAdhesive)等光固化胶或热固化胶。其中，间隔层3的透光率可以在70％以上。

聚焦层1可以直接形成在间隔层3的上表面或与间隔层3构成一体结构，其中：聚焦单元11的端面可以与间隔层3的上表面直接接触；聚焦单元11的端面可以与间隔层3的上表面不直接接触，即存在一定的距离(例如图10)；聚焦单元11还可直接形成在间隔层3上，此时聚焦层1和间隔层3构成一体结构。

图文层2可以直接形成在间隔层3的下表面或与间隔层3构成一体结构，其中：微图文11的端面可以与间隔层3的下表面直接接触；图文层2还可直接形成在间隔层3上，此时图文层2和间隔层3构成一体结构，且微图文可采用与间隔层3相同或不同的制作材料。

在制备过程中，可以制备出间隔层3后，然后在间隔层3的上下表面上分别制备聚焦层1和图文层2；也可以是首先制备出聚焦层1或图文层2，再在其一表面上依次制备出间隔层3及图文层2或聚焦层1。对于这两种情形，在组成焦层1和图文层2的聚合物与组成间隔层3的聚合物不同时，聚焦层1和图文层2和间隔层3之间存在有分界面。

在制备过程中，可以在同一种聚合物中相背对的两表面分别形成聚焦层1和间隔层3；也还可以在两种聚合物的相邻部位之间形成融合部12或者利用相邻部位之间具有融合部12的两种聚合物，然后在这两种聚合物中相背对的两表面上分别形成聚焦层1和间隔层3。对于这两种情形，聚焦层1和间隔层3构成一体结构，即聚焦层1和间隔层3之间不存在分界面，在形成聚焦层1和间隔层3后，再在间隔层3的下表面上形成图文层2。

在制备过程中，还可以在同一种聚合物中相背对的两表面上分别形成凹槽结构21和间隔层3，在凹槽结构21中填充有填充物，形成微图文；也还可以在两种聚合物的相邻部位之间形成融合部12或者利用相邻部位之间具有融合部23的两种聚合物，然后在这两种聚合物中相背对的两表面上形成凹槽结构21和间隔层3，再在凹槽结构21中填充有填充物22，形成微图文。对于这两种情形，凹槽结构21和间隔层3之间不存在分界面，即图文层2和间隔层3成一体结构。在形成图文层2和间隔层3后，再在间隔层3的上表面上形成聚焦层1。

请参阅图15，本实用新型还提供了一种电子设备壳体(以包括设置有镀膜层24的凸起结构23的成像薄膜为例)，所述电子设备壳体包括基层4和粘结于基层4上的成像薄膜，所述成像薄膜为上述提及的成像薄膜。

所述电子设备包括3C产品，同样也可以是白色家电。例如，电子设备为手机、ipad、笔记本、智能手表、ipod、相机、摄像机或智能手环，电子设备盖板为手机的前盖和/或后盖，或者为平板电脑的前盖和/或后盖。本实用新型提供的成像薄膜同样可以用于防伪、包装等行业，在作为防伪以及包装等行业时，所述成像薄膜可以是透射式或者反射式，反射式成像薄膜即可以在聚焦层1的一侧设有反射层6，这样观察面可以在图文层2的一侧，而且还可以在所述成像薄膜中的空白处设有一些全息图案、图文等标记，来加强成像薄膜的多元化性。

优选地，当所述成像薄膜为反射式成像薄膜时，成像薄膜还包括设置于聚焦层1上的反射层6、设置于反射层6上的着色层7和设置于图文层2上的粘胶层5，成像薄膜通过粘胶层5粘结于基层4上。其中，基层4可以是玻璃片、塑胶片或金属片等；着色层7可以是由油墨形成的打底层；粘胶层5可以是由OCA或者其他透明胶状物体形成。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的图文范围之内。

Claims (20)

1.一种成像薄膜，其特征在于，包括本体，所述本体具有相背对的第一表面和第二表面，所述第一表面形成有聚焦层，所述第二表面形成有或所述本体嵌设有图文层；

所述聚焦层和所述图文层之间的距离为2～150微米；

所述图文层存在渐变，所述图文层与所述聚焦层相适配，以通过所述聚焦层形成影像，且所述影像具有渐变效果。

2.根据权利要求1所述的成像薄膜，其特征在于，所述图文层具有多个微图文，每个所述微图文存在渐变和/或多个所述微图文在所述图文层中的分布存在渐变。

3.根据权利要求2所述的成像薄膜，其特征在于，所述微图文包括凹槽结构和/或凸起结构，所述凹槽结构和/或所述凸起结构形成所述微图文。

4.根据权利要求3所述的成像薄膜，其特征在于，所述凹槽结构填充有填充物，填充有填充物的所述凹槽结构形成所述微图文。

5.根据权利要求4所述的成像薄膜，其特征在于，所述填充物的颜色存在渐变。

6.根据权利要求3所述的成像薄膜，其特征在于，多个所述微图文中的所述凹槽结构在所述图文层中的占空比、凹陷深度、凹陷开口大小、分布周期和分布密度中的一种或多种存在变化设置。

7.根据权利要求3所述的成像薄膜，其特征在于，多个所述微图文中的所述凸起结构在所述图文层中的凸出高度、凸出面积大小、分布周期和分布密度中的一种或多种存在变化设置。

8.根据权利要求3所述的成像薄膜，其特征在于，所述凹槽结构的内表面和/或所述凸起结构的外表面设置有镀膜层。

9.根据权利要求4所述的成像薄膜，其特征在于，所述填充物的外表面和/或所述凸起结构的外表面设置有镀膜层。

10.根据权利要求2所述的成像薄膜，其特征在于，所述微图文通过镀膜方式形成。

11.根据权利要求10所述的成像薄膜，其特征在于，所述微图文包括凹槽结构，所述凹槽结构填充有填充物，所述填充物通过镀膜方式填充于所述凹槽结构中。

12.根据权利要求10所述的成像薄膜，其特征在于，所述微图文包括凸起结构，所述凸起结构通过镀膜方式形成。

13.根据权利要求1-12中任一项所述的成像薄膜，其特征在于，所述聚焦层和所述图文层分别采用一种或多种聚合物制成。

14.根据权利要求1-12中任一项所述的成像薄膜，其特征在于，所述本体还包括间隔层，所述聚焦层和所述图文层分别设置于所述间隔层的两侧。

15.根据权利要求14所述的成像薄膜，其特征在于，所述间隔层和所述聚焦层分别采用一种或多种聚合物制成，所述间隔层和所述图文层分别采用一种或多种聚合物制成。

16.根据权利要求1-12中任一项所述的成像薄膜，其特征在于，所述渐变的种类包括颜色的渐变、灰度的渐变、透过率的渐变、反射率的渐变和明暗的渐变中的一种或几种。

17.根据权利要求2-12中任一项所述的成像薄膜，其特征在于，所述聚焦层具有多个聚焦单元，所述聚焦单元与所述微图文相适配。

18.根据权利要求17所述的成像薄膜，其特征在于，所述聚焦单元为柱面镜、微透镜和菲涅尔透镜中的一种或几种。

19.根据权利要求17所述的成像薄膜，其特征在于，相邻两个所述聚焦单元之间为无间隔设置或有间隔设置。

20.一种电子设备壳体，其特征在于，包括基层和粘结于所述基层上的成像薄膜，所述成像薄膜为如权利要求1-19任一项所述的成像薄膜；

所述成像薄膜还包括设置于所述聚焦层上的反射层、设置于所述反射层上的着色层和设置于所述图文层上的粘胶层；

所述成像薄膜通过所述粘胶层粘结于所述基层上。

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