CN210754163U - 一种用于激光清洗的气体保护装置 - Google Patents
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Abstract
本申请提出了一种用于激光清洗的气体保护装置，包括箱体、箱体顶部设置有透波玻璃窗，箱体前部设有密封门，密封门上设有观察窗，箱体左右两侧的壁上分别设有气体入口和气体出口。样品放入此密封装置内，通入保护气体，对激光清洗过程进行保护。小试样清洗时，激光头不动，可以通过移动行走台来改变试样的清洗位置；稍大的试样清洗时，可以通过改变激光的入射角度来清洗试样的不同位置。采用本申请采用特殊的气体保护装置对正在进行激光清洗的样品进行保护，可避免样品与大气中的氧接触，减少甚至避免二次氧化膜的生成，从而提升清洗效果。
Description
技术领域
本申请涉及激光清洗技术领域，特别是激光清洗的气体保护的装置。
背景技术
高效环保的激光清洗技术，是近年来激光技术应用的重点发展方向之一，由于其特殊的工作原理，在加工过程中与工件无接触、无研磨、无需化学试剂，可以自动化控制，去除工件表面的材料和漆皮、氧化膜等。因此激光清洗具有对清洗工件无损伤、加工精度高、清洗环保、高效稳定以及运营成本低的优势。
激光清洗是一种新型的表面预处理方法，具有清洗效率高、清洁质量好、适用对象广、基体损伤小、劳动强度低、不污染环境和便于实现自动化等一系列优点，可在航空航天、核能、大型海洋工程装备、全自动工业生产等领域推广应用。
现有的激光清洗设备几乎都采用1064nm波长的激光光源，功率为200W，并且是在大气条件下进行清洗。对于一些易氧化的金属（比如铝合金、钛合金），在对其表面进行清洗后，又生成新的氧化膜（二次氧化膜）的情况，导致氧化膜一直存在，清洗不彻底。
现有的激光清洗设备都是在大气条件下进行清洗。对于一些易氧化的金属（比如铝合金、钛合金），在对其表面进行清洗后，又生成新的氧化膜（二次氧化膜）的情况，导致氧化膜一直存在，清洗不彻底。本申请采用特殊的气体保护装置对正在进行激光清洗的样品进行保护，避免样品与大气中的氧接触，减少甚至避免二次氧化膜的生成，从而提升清洗效果。
发明内容
本申请采用气体保护装置对正在进行激光清洗的样品进行保护，避免样品与大气中的氧接触，减少甚至避免二次氧化膜的生成，从而提升清洗效果。
本申请的技术方案为：
一种用于激光清洗的气体保护装置，包括箱体、箱体顶部设置有透波玻璃窗3，箱体前部设有密封门，密封门上设有观察窗6，箱体左右两侧的壁上分别设有气体入口4和气体出口5。
所述气体入口4处安装有流量计。
所述气体出口处安装有阀门。
所述箱体上还设置有压力表，用于监控箱体内气压。
使用时，将样品放入本申请的装置内，通入保护气体，进行激光清洗。小试样清洗时，激光头不动，通过移动箱体来改变试样的清洗位置；稍大的试样清洗时，可以通过改变激光的入射角度来清洗试样的不同位置。
本申请解决了现有一些易氧化的金属，如铝合金、钛合金，在对其表面进行清洗后，又生成新的氧化膜的情况，导致氧化膜一直存在，清洗不彻底的问题。
本申请装置的可以透过特定波长的激光，不影响激光器的输出功率，提高清洗速度和效率；同时没有二次氧化膜的生成，不用反复清洗，也提高了清洗速度和效率。本申请采用气体保护装置对样品的激光清洗过程进行保护，防止二次氧化的发生，提升了清洗效果；并且不用进行二次清洗，提高了清洗速度和效率、节约了清洗成本。
附图说明
图1是本申请一种用于激光清洗的气体保护装置的示意图。
图中：1、激光清洗头；2、激光束；3、透波玻璃窗；4、气体入口；5、气体出口；6、观察窗；7、密封门。
具体实施方式
下面结合附图对本申请作进一步说明。
实施例1
一种用于激光清洗的气体保护装置，包括箱体、箱体顶部设置有透波玻璃窗3，箱体前部设有密封门7，密封门7上设有观察窗6，箱体左右两侧的壁上分别设有气体入口4和气体出口5。
实施例2
一种用于激光清洗的气体保护装置的箱体左右面各一个孔，气体入口4处于箱体一侧面靠近底部；气体出口5处于相对侧面靠近顶部，并在外面配有阀门。
实施例3
一种用于激光清洗的气体保护装置的箱体顶部的玻璃窗3，装透波镜片，镜片直径50mm、厚度为2mm；保证密封的情况下，镜片可更换、拆卸。
实施例4
一种用于激光清洗的气体保护装置的密封门7上设有观察窗6，观察窗6为石英玻璃，直径80mm。
实施例5
一种用于激光清洗的气体保护装置的箱体顶部设有一个通孔，通孔上装有压力表，用于监控箱体内气压。
Claims (4)
1.一种用于激光清洗的气体保护装置，其特征在于，包括箱体、箱体顶部设置有透波玻璃窗，箱体前部设有密封门，密封门上设有观察窗，箱体左右两侧的壁上分别设有气体入口和气体出口。
2.根据权利要求1所述一种用于激光清洗的气体保护装置，其特征在于，所述气体入口处安装有流量计。
3.根据权利要求1所述一种用于激光清洗的气体保护装置，其特征在于，所述气体出口处安装有阀门。
4.根据权利要求1所述一种用于激光清洗的气体保护装置，其特征在于，所述箱体上还设置有压力表，用于监控箱体内气压。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201921544564.6U CN210754163U (zh) | 2019-09-17 | 2019-09-17 | 一种用于激光清洗的气体保护装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201921544564.6U CN210754163U (zh) | 2019-09-17 | 2019-09-17 | 一种用于激光清洗的气体保护装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN210754163U true CN210754163U (zh) | 2020-06-16 |
Family
ID=71063929
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201921544564.6U Active CN210754163U (zh) | 2019-09-17 | 2019-09-17 | 一种用于激光清洗的气体保护装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| CN (1) | CN210754163U (zh) |
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2019
- 2019-09-17 CN CN201921544564.6U patent/CN210754163U/zh active Active
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