CN210639408U - 投影机光源系统 - Google Patents

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张可根
黄宗荣
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Chengdu Jiutian Optical Technology Co ltd
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Abstract

本实用新型公开了一种投影机光源系统,包括光源模组、光棒、第一聚焦整形单元、反射镜、第二聚焦整形单元、DMD芯片、棱镜和镜头;光源模组产生的光线依次通过光棒和第一聚焦整形单元后达到反射镜,反射镜的反射光线通过第二聚焦整形单元后达到棱镜,棱镜将入射光线反射到DMD芯片上,DMD芯片将入射光线反射至棱镜并通过棱镜达到镜头;所述光棒出射光线轴与到达镜头的入射光线轴是平行的。本实用新型的光路中只有一个反射镜片,能够减少光线在光路中的反射次数,从而大大减少能量的损失,降低能耗;同时也使得光源系统在结构上更加紧凑,体积更加小巧。

Description

投影机光源系统
技术领域
本实用新型属于激光投影技术领域,特别涉及一种投影机光源系统。
背景技术
激光投影机是使用激光光束来透射出画面。其中激光投影机的光学部件主要由红绿蓝三色光阀、合束X棱镜、投影镜头和驱动光阀。在激光投影机中有红、绿、蓝三色激光。激光在机器内经过相应的光学元件和处理芯片的扩束后再透射到X棱镜将三束激光整合,然后再由投影物镜将整合后的激光透射到投影幕布上,完成整个激光投影机显示过程。
目前激光投影机相比传统投影机,具有寿命长、色域广和维护方便等优点。但是现有的投影机光源输出都是入射光和最后的输出光成垂直状态,其光路复杂,光线经过多次反射,会造成多次光损失,增加光传输过程中的能耗;同时也导致投影机结构复杂,体积较大,制造成本偏高。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有技术的不足,提供一种光路中只有一个反射镜片,能够减少光线在光路中的反射次数,从而大大减少能量的损失,降低能耗;同时也使得光源系统在结构上更加紧凑,体积更加小巧的投影机光源系统。
本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现的:投影机光源系统,包括光源模组、光棒、第一聚焦整形单元、反射镜、第二聚焦整形单元、DMD芯片、棱镜和镜头;
光源模组产生的光线依次通过光棒和第一聚焦整形单元后达到反射镜,反射镜的反射光线通过第二聚焦整形单元后达到棱镜,棱镜将入射光线反射到DMD芯片上,DMD芯片将入射光线反射至棱镜并通过棱镜达到镜头。
进一步地,所述光棒用于对入射光进行整形和均匀化。
进一步地,所述光棒的出射光线轴与到达镜头的入射光线轴相平行。
本实用新型的有益效果是:本实用新型的投影机光源系统的光路中只有一个反射镜片,能够减少光线在光路中的反射次数,从而大大减少能量的损失,降低能耗;同时也使得光源系统在结构上更加紧凑,体积更加小巧。
附图说明
图1为本实用新型的投影机光源系统结构示意图;
如图标记说明:1-光源模组,2-光棒,3-第一聚焦整形单元,4-反射镜,5-第二聚焦整形单元,6-DMD芯片,7-棱镜,8-镜头。
具体实施方式
下面结合附图进一步说明本实用新型的技术方案。
如图1所示,本实用新型的一种投影机光源系统,包括光源模组1、光棒2、第一聚焦整形单元3、反射镜4、第二聚焦整形单元5、DMD芯片6、棱镜7和镜头8;
光源模组1产生的光线依次通过光棒2和第一聚焦整形单元3后达到反射镜4,反射镜4的反射光线通过第二聚焦整形单元5后达到棱镜7,棱镜7将入射光线反射到DMD芯片6上,DMD芯片6将入射光线反射至棱镜7并通过棱镜7达到镜头8。
进一步地,所述第一聚焦整形单元和第二聚焦整形单元可以只采用一片聚焦整形镜片,也可以采用多片聚焦整形镜片。
进一步地,所述光棒2用于对入射光进行整形和均匀化。棱镜7用于将DMD芯片的入射光线和反射光线分开。
通常DLP投影机的照明光路是光棒2出射光与镜头8的光轴垂直,这样造成外壳机械零件尺寸较大,不利于光机尺寸做小。采用本申请所述的光源系统,光棒2的出射光线轴与到达镜头8的入射光线轴相平行,能够减少中间光学器件的数量,减小光源系统的体积。
本领域的普通技术人员将会意识到,这里所述的实施例是为了帮助读者理解本实用新型的原理,应被理解为本实用新型的保护范围并不局限于这样的特别陈述和实施例。本领域的普通技术人员可以根据本实用新型公开的这些技术启示做出各种不脱离本实用新型实质的其它各种具体变形和组合,这些变形和组合仍然在本实用新型的保护范围内。

Claims (3)

1.投影机光源系统,其特征在于,包括光源模组(1)、光棒(2)、第一聚焦整形单元(3)、反射镜(4)、第二聚焦整形单元(5)、DMD芯片(6)、棱镜(7)和镜头(8);
光源模组(1)产生的光线依次通过光棒(2)和第一聚焦整形单元(3)后达到反射镜(4),反射镜(4)的反射光线通过第二聚焦整形单元(5)后达到棱镜(7),棱镜(7)将入射光线反射到DMD芯片(6)上,DMD芯片(6)将入射光线反射至棱镜(7)并通过棱镜(7)达到镜头(8)。
2.根据权利要求1所述的投影机光源系统,其特征在于,所述光棒(2)用于对入射光进行整形和均匀化。
3.根据权利要求1所述的投影机光源系统,其特征在于,所述光棒(2)的出射光线轴与到达镜头(8)的入射光线轴相平行。
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