CN210386828U - 一种转镜结构以及激光清洗系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型实施例提供了一种转镜结构以及激光清洗系统，其中，所述激光清洗系统包括光源组件以及清洗组件，清洗组件包括一反射结构，以及一由若干组反射不同波长的镜片组成的转镜结构，其中，转镜结构同一组镜片中各个镜片的尺寸不同，光源组件发射的激光，可以通过反射结构反射至转镜结构，由转镜结构将激光输出，通过转镜结构上不同尺寸的镜片，可以满足不同种类与面积的加工件，同时通过转镜结构上若干组反射不同波长的镜片，可以适用于各种类型的激光器，兼容性强，在满足清洗要求的情况下，提高了清洗系统的清洗效率。

Description

一种转镜结构以及激光清洗系统

技术领域

本实用新型涉及光能清洗技术领域，特别是涉及一种转镜结构以及激光清洗系统。

背景技术

激光清洗作为一种新型的表面清洗技术，具有无机械接触、无基底损伤、选择性清洗及绿色环保等优点，在文物保护、光电子元器件制备和轮胎模具清洗等领域应用广泛。

目前，主要作为激光清洗的激光器有光纤激光器、Nd:YAG激光器、CO₂激光器以及准分子激光器。光纤激光器主要作用于金属表面除锈，后者因为波长短、峰值功率高等优点可用于集成电路、液晶显示器线路板等微电子基板的清洗。然而，现有的激光清洗装置中存在以下问题：

1、扫描范围有限，且不可调节，不利于多种尺寸的工件进行加工；

2、镜片镀膜单一，适应性低；

3、激光反射存在随机性，容易对操作者造成伤害。

综上所述，当前的激光清洗设备仍然存在许多缺陷及不足，需要一种可配合多类型激光器的清洗设备。

实用新型内容

本实用新型实施例提供了一种用于清洗的转镜结构以及激光清洗系统，以解决当前激光清洗装置扫描范围有限，适应性低以及反射存在随机性的问题。

为了解决上述技术问题，本实用新型是这样实现的：一种用于激光清洗的转镜结构，其特征在于，包括可沿中心轴转动的固定单元，以及沿所述固定单元的转动方向，依次设置在所述固定单元表面的若干组可反射不同波长的镜片；

其中，所述转镜结构同一组镜片中各个镜片的尺寸不同。

可选地，所述镜片的镜面垂直于所述镜片的中心与所述固定单元的中心轴的连线，且相对于所述固定单元的另一侧设有反射区域，以及与所述反射区域两侧连接的保留区域；

其中，所述转镜结构的同一组镜片中，各个镜片在所述固定单元的转动方向上的尺寸不同。

可选地，所述转镜结构按照预设角速度ω进行周期双向钟摆式转动。

本实用新型实施例还公开了一种激光清洗系统，包括光源组件以及清洗组件；

所述清洗组件包括：一反射结构，以及一由若干组反射不同波长的镜片组成的转镜结构，其中，所述转镜结构同一组镜片中各个镜片的尺寸不同；所述光源组件发射的激光，通过所述反射结构反射至所述转镜结构，由所述转镜结构将所述激光输出。

可选地，所述反射结构为可转动的反射镜，所述反射镜由多个反射不同波长的第一反射区域构成。

可选地，所述转镜结构还包括可沿中心轴转动的固定单元；

所述镜片的镜面垂直于所述镜片的中心与所述固定单元的中心轴的连线，且相对于所述固定单元的另一侧设有第二反射区域，以及与所述第二反射区域两侧连接的保留区域；所述第二反射区域的面积大于所述激光的光斑面积；

所述镜片沿所述固定单元的转动方向依次设置在所述固定单元的表面；且在同一组镜片中，在各个镜片在所述固定单元的转动方向上的尺寸不同。

可选地，还包括与所述光源组件配合的校准组件，以及与所述光源组件、所述校准组件以及清洗组件连接的控制组件；

所述校准组件包括可调光阑以及三维调节平台，所述可调光阑设置于所述光源组件与所述反射结构之间，所述光源组件设置于所述三维调节平台上。

可选地，所述清洗组件还包括传送结构，以及设置在所述传送结构传送方向一侧的吹风结构，以及设置在所述传送结构另一侧与所述吹风结构对应的吸尘结构；

通过所述转镜结构将所述激光输出至所述传动结构。

可选地，所述转镜结构中各个镜片为平面镜或凸面镜。

可选地，所述光源组件包括光纤激光器、固体激光器以及气体激光器中的至少一种。

本实用新型实施例包括以下优点：

在本实用新型实施例的激光清洗系统，可以通过转镜结构上不同尺寸的镜片，可以满足不同种类与面积的加工件，还可以同时通过转镜结构上若干组反射不同波长的镜片，可以适用于各种类型的激光器，兼容性强，在满足清洗要求的情况下，提高了清洗系统的清洗效率。

附图说明

图1是本实用新型的一种激光清洗系统实施例的结构框图；

图2是本实用新型的一种激光清洗系统实施例中校准组件的结构示意图；

图3是本实用新型的一种激光清洗系统实施例中清洗组件的结构示意图；

图4是本实用新型的一种激光清洗系统实施例中反射结构的结构示意图；

图5是本实用新型的一种用于激光清洗系统的转镜结构的结构示意图；

图6是本实用新型的一种激光清洗系统实施例中传送结构的局部结构示意图；

图7是本实用新型的一种激光清洗系统实施例中动态清洗模式的示意图；

图8是本实用新型的一种激光清洗系统实施例中固定单元的示意图。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。

参照图5，示出了本实用新型的一种用于激光清洗系统的转镜结构的结构示意图，所述转镜结构22包括可沿中心轴转动的固定单元222，以及沿所述固定单元的转动方向，依次设置在所述固定单元表面的若干组可反射不同波长的镜片221；其中，所述转镜结构中同一组镜片中各个镜片的尺寸不同。

在本实用新型实施例中，转镜结构22为激光清洗系统用于将激光反射至待加工物件的装置。其中，转镜结构可以包括可沿中心轴转动的固定单元222，以及沿固定单元的转动方向依次设置在固定单元表面的若干块镜片221，从而构成了一半径为R的转镜鼓。

在具体实现中，半径为R的转镜鼓圆周表面可以镶有N块扫描镜片221，镜片221的长度远远小于转镜鼓的直径，N的数值由转镜鼓的直径、转镜鼓与传送结构23的距离、预留激光器波长种类及对应X方向扫描的长度共同决定。

在本实用新型实施例中，可以将若干块镜片221组合构成一组反射相同波长的反射单元，同一反射单元中采用相同的高反膜，相邻反射单元之间采用不同高反膜，同一反射单元中，各个镜片221在固定单元222的转动方向上的尺寸不同，从而通过在转镜结构22中设置不同尺寸的镜片221，可以满足不同种类与面积的加工件，同时通过转镜结构22上若干组反射不同波长的镜片221，可以适用于各种类型的激光器，提高了激光清洗系统的兼容性。

在具体实现中，转镜鼓可以按照预设角度ω进行周期钟摆式双向转动，当加工件在传送结构23按照预设方向以及传动时，转镜鼓可以通过钟摆式双向转动对加工件进行逐区域全面的清洗，从而对加工件进行全方位的清洗。

在本实用新型实施例中，转镜结构22中各镜片221的镜面垂直于镜片221的中心与固定单元222的中心轴的连线，如镜片221的镜面与转镜结构22的圆柱面相切，且相对于固定单元222的另一面设有反射区域，以及与反射区域两侧连接的保留区域。其中，镜片221的中心可以为镜片的左右对称轴与上下对称轴的交点。

在具体实现中，如图8所示，示出了本实用新型的一种激光清洁系统实施例中固定单元的示意图，转镜结构22的固定单元222可以为规则的棱柱体或直圆柱体，镜片221可以设置于棱柱体或直圆柱体的表面，且镜片221的镜面垂直于镜片221与固定单元222的中心轴的连线。

在具体实现中，每一块扫描镜片可以有保留区域1、反射区域以及保留区域2组成，保留区域1和保留区域2的面积相等，且分别与反射区域的两侧连接，激光可以在反射区域中进行反射，而不会在两个保留区域中进行反射，并且，反射区域可以根据实际需要进行面积比例的设计，如反射区域的面积可以为镜片总面积的80％、60％等等，从而可以保证激光不会照射在两镜片221之间的空隙或者衔接处，提高了激光输出的安全性。

同时，激光可以输入至反射区域的中间位置，在静态清洗模式下，激光只需要输入至反射区域的中间位置即可实现对待清洗工件的清洗；而在动态清洗模式下，激光可以先输入至反射区域的中间位置，接着转镜鼓可以按照预设角速度ω进行周期钟摆式双向转动，由所述反射结构21射入所述转镜结构22后，被转镜结构反射的激光随着所述转镜结构22的转动，反射至不同的区域，在移动的过程中，以反射区域的中间位置为基点，进行对称移动，使得激光可以均等地辐射在待清洗工件上，实现对工件的全方位清洗。

在本实用新型实施例中，通过转镜结构中不同组反射不同波长的镜片，可以适用于各种类型的激光器，兼容性强，同时，通过设置不同尺寸的镜片，可以满足不同种类与面积的加工件，进一步提高了兼容性。

参照图1，示出了本实用新型的一种激光清洗系统实施例的结构框图，所述激光清洗系统可以包括光源组件1以及清洗组件2；所述清洗组件2包括：一反射结构21，以及一由若干组反射不同波长的镜片组成的转镜结构22，其中，所述转镜结构22同一组镜片中各个镜片的尺寸不同；所述光源组件1发射的激光，通过所述反射结构21反射至所述转镜结构22，由所述转镜结构22将所述激光输出。

在本实用新型实施例中，激光清洗系统还包括校准组件3，光源组件1发射激光至校准组件3，激光可以通过校准组件3校准后，输入至清洗组件2中的反射结构21，接着可以由反射结构22将激光反射至转镜结构22，再由转镜结构22将激光反射至加工件，从而可以通过激光对加工件进行清洗处理。

在本实用新型实施例中，光源组件1可以包括光纤激光器、固体激光器以及气体激光器中的至少一种，用于提供高功率密度的激光，当光源组件1提供的激光辐射到加工件表面时，加工件吸收激光能量后温度极具升高，进而产生一系列物理效应，如膨松、气化、热冲击与热震动等，从而实现除锈清洗的目的。

其中，激光器具体可以包括光纤激光器、Nd:YAG激光器、CO₂激光器以及准分子激光器。光纤激光器主要作用于金属表面除锈，其中，Nd:YAG激光器和准分子激光器，因为波长短、峰值功率高等优点可用于集成电路、液晶显示器线路板等微电子基板的清洗。

在本实用新型实施例中，参考图2示出了本实用新型实施例中一种激光清洗系统实施例中校准组件3的结构示意图，校准组件3可以包括可调节光阑31和三维调节平台32，其中，可调节光阑31的位置相对于清洗组件2是固定的，设置于光源组件1与反射结构21之间，为了适应不同激光器发射光斑大小的不同，可以通过选择可调节光阑31调整入射光路准直，从而实现粗略调整激光方向的目的。同时，可以将光源组件1的激光头放置在三维调节平台32上，对激光头进行x-y-z三维坐标的调节，以实现精准调整入射光路的目的。

在本实用新型实施例中，参考图3示出了本实用新型实施例中一种激光清洗系统实施例中清洗组件2的结构示意图，清洗组件2可以包括反射结构21、转镜结构22、传送结构23、吹风结构24以及吸尘结构25。

具体的，光源组件1发射出的激光通过校准组件3的校准后，可以由反射结构21反射至转镜结构22对应的区域后，再由转镜结构22将激光反射至位于传送结构23清洗区域的加工件，对加工件进行清洗处理，接着吹风结构24可以将加工件上清洗出来的尘粒污垢吹向吸尘结构25，由吸尘结构25将尘粒污垢吸进排除，从而达到既清洗工作又保护环境的双重目的。

在本实用新型实施例中，参考图4示出了本实用新型实施例中一种激光清洗系统实施例中反射结构的结构示意图，反射结构21可以为可转动的反射镜，反射镜可以由多个反射不同波长的第一反射区域构成，反射镜的空间位置可以呈水平设置，且可以通过外围机械装置进行沿Z轴方向进行调整。此外，反射镜中沿X轴方向可以依次设置安全区、反射不同波长的第一反射区域以及预留区域，其中，安全区为激光不会照射到的区域，通过在反射结构21中设置安全区，可以提高操作人员的安全性；不同的第一反射区域对应反射不同波长的高反膜，通过不同的高反膜可以与不同激光器进行配合，从而可以适用于各种类型的激光器，同时预留部分区域作为拓展区域，可以根据实际需要进行镀膜，进一步提高了激光清洗系统的兼容性。

在具体实现中，反射镜可以进行转动，参考图4，示出了本实用新型的一种激光清洗系统实施例中反射结构的结构示意图，以x-z轴所在平面为水平面，反射镜可以以z轴为转动轴，进行转动，在保持反射镜与转镜鼓的镜面在x-y平面内不变的情况下，对光源组件发射的激光进行反射角度的调节。此外，反射镜还可以以x轴为转动轴，进行转动，从而可以通过控制反射镜与转镜鼓的镜面在x-y平面内的角度，实现多维度的清洗工作。

在本实用新型实施例中，参考图5示出了本实用新型的一种激光清洗系统实施例中转镜结构22的结构示意图，转镜结构22可以包括可沿中心轴转动的固定单元，以及沿固定单元222的转动方向依次设置在固定单元222表面的若干块镜片221，从而构成一半径为R的转镜鼓。

在具体实现中，半径为R的转镜鼓圆周表面可以镶有N块扫描镜片221，镜片221的长度远远小于转镜鼓的直径，N的数值由转镜鼓的直径、转镜鼓与传送结构23的距离、预留激光器波长种类及对应X方向扫描的长度共同决定。

在本实用新型实施例中，可以将若干块镜片221组合构成一组反射相同波长的反射单元，同一反射单元中采用相同的高反膜，相邻反射单元之间采用不同高反膜，同一反射单元中，各个镜片221在固定单元222的转动方向上的尺寸不同，从而通过在转镜结构22中设置不同尺寸的镜片221，可以满足不同种类与面积的加工件，同时通过转镜结构22上若干组反射不同波长的镜片221，可以适用于各种类型的激光器，提高了激光清洗系统的兼容性。

在具体实现中，反射镜中各第一反射区域的工作波长与转镜鼓中各组镜片221的工作波长对应，如反射镜包括第一反射区域1、第一反射区域2以及第一反射区域3等，转镜鼓中包括反射单元1、反射单元2以及反射单元3等，则反射区域1和反射单元1采用相同的高反膜，反射区域2和反射单元2采用相同的高反膜，反射区域3和反射单元3采用相同的高反膜。

在具体实现中，转镜鼓可以按照预设角度ω进行周期钟摆式双向转动，当加工件在传送结构23按照预设方向以及传动时，转镜鼓可以通过钟摆式双向转动对加工件进行逐区域全面的清洗，从而对加工件进行全方位的清洗。

在本实用新型实施例中，转镜结构22中各镜片221的镜面垂直于镜片221的中心与固定单元222的中心轴的连线，如镜片221的镜面与转镜结构22的圆柱面相切，且相对于固定单元222的另一面设有反射区域，以及与反射区域两侧连接的保留区域。其中，镜片221的中心可以为镜片的左右对称轴与上下对称轴的交点。

在具体实现中，如图8所示，示出了本实用新型的一种激光清洁系统实施例中固定单元的示意图，转镜结构22的固定单元222可以为规则的棱柱体或直圆柱体，镜片221可以设置于棱柱体或直圆柱体的表面，且镜片221的镜面垂直于镜片221与固定单元222的中心轴的连线。

需要说明的是，本实用新型实施例中图8仅作示例，本领域技术人员可以根据实际需求，对转镜结构的固定单元进行设计，本实用新型对此不作限制。

在具体实现中，每一块扫描镜片可以有保留区域1、第二反射区域以及保留区域2组成，保留区域1和保留区域2的面积相等，且分别与第二反射区域的两侧连接，激光可以在反射区域中进行反射，而不会在两个保留区域中进行反射，并且，第二反射区域可以根据实际需要进行面积比例的设计，如第二反射区域的面积可以为镜片总面积的80％、60％等等，从而可以保证激光不会照射在两镜片221之间的空隙或者衔接处，提高了激光输出的安全性。

需要说明的是，保留区域与第二反射区域镀有相同的高反膜，可以理解的是，在本实用新型的思想下，本领域技术人员可以根据实际需要，调节保留的面积，实现在保证激光输出的安全性前提下，适配不同的待清洗工件。

在本实用新型实施例中，激光清洗系统可以具有静态清洗模型和动态清洗模式，在静态清洗模式下，光源组件发射的激光依次经过反射结构、转镜结构，并照射与传送结构上，其中，反射结构将光源组件发射的激光反射至转镜结构对应镜片的第二反射区域的中间位置。在动态清洗模式下，光源组件发射的激光依次经过反射结构、转镜结构，并照射与传送结构上，其中，转镜结构按照预设角速度ω进行周期双向钟摆式转动，使反射结构21射入转镜结构22后，被转镜结构22反射的激光随着转镜结构22的转动，在镜片两个保留区域之间的第二反射区域进行移动，从而使照射于传送结构上的光斑进行移动，对待清洗工件进行动态清洗。

在具体实现中，通过多种模式可以适应不同的清洗工作，从而进一步提高了激光清洗系统的兼容性。在静态清洗模式下，激光只需要输入至第二反射区域的中间位置即可实现对待清洗工件的清洗；而在动态清洗模式下，激光可以先输入至第二反射区域的中间位置，接着转镜鼓可以按照预设角度ω进行周期钟摆式双向转动，使得激光在第二反射区域中进行往返移动，在移动的过程中，激光光斑不超过第二反射区域，以反射区域的中间位置为基点，进行对称移动，使得激光可以均等地辐射在待清洗工件上，实现对工件的全方位清洗。

在本实用新型实施例的一种示例中，对于不同类型的激光器或同类型的激光器，由于存在发散角，激光器输出的光斑面积可能不同，因此，需要对转镜鼓中的镜片尺寸、面积进行调整，或对激光器发射的光斑大小进行调整。具体的，可以将转镜鼓中镜片的面积大小设置为大于激光器发射的激光光斑的3-5倍，此外，当激光光束存在发散角时，可以设置外设光学镜片，如聚焦准直镜等，对光斑的尺寸进行放大或缩小处理，使得光斑能够保持固定大小，从而使得转镜鼓上不同镀膜的镜片组中镜片的尺寸保持基本相同。

在具体实现中，为了清洗后的污垢及时地清理，在传送结构23上方的一侧设置了吹风结构24，可以为吹风机，另一侧设置了吸尘结构25，可以为吸尘器，操作人员可以根据实际需要对风速和吸尘效率进行调节，本实用新型对此不作限制。

在本实用新型实施例中，激光清洗系统还包括与光源组件1、校准组件3以及清洗组件2连接的控制组件，其中，控制组件可以为单片机、微控制单元等。具体的，操作人员可以将清洗参数输入控制组件中，由控制组件控制光源组件1、校准组件3以及清洗组件2自动搭建对应的光路，接着可以通过实际清洗效果调节对应的清洗速度，从而实现智能化的加工作业，进而可以提高清洗效率，以及提高操作的安全性。

在本实用新型实施例的一种优选实施例中，参考图6示出了本实用新型的一种激光清洗系统实施例中传送结构的局部结构示意图，以X轴和Z轴所在平面为水平面，Y轴垂直于水平面，传送带可以绕X轴进行转动，使得位于传送带上的加工件可以沿着Z轴方向进行传送。

在静态清洗模式下，激光器发射的激光经过反射后照射在传送带中心点D处时，其光斑足以覆盖整个待清洗物件，且对应的光功率密度也足够强，此时，不需要转镜鼓转动，通过传送带的转动即可实现Z轴方向上的扫描，从而实现对待清洗物件进行清洗。

在本实用新型实施例的一种示例中，采用功率1W的深紫外YAG激光器清洗PCB背板的镀金焊盘。首先，操作人员可以根据激光器的波长控制反射镜，保持反射镜空间角度不变的情况下将266nm高反膜区域平移至光路中(方形反射镜垂直与X-Y平面，与X-Z的夹角为Σ)。其次，将激光器的激光头放置在三维调节平台上，先通过手动调整激光头的空间位置，使得该激光器的紫外指示光顺利通过两个可调光阑，从而实现粗略调整激光方向的目的。接着可以通过三维调节平台调整细调，实现精准调整光路，使出射的激光经反射后能够准确的照射在转鼓镜的A点处。假如光斑过大，激光照射在D点处的光斑远远大于清洗工件的尺寸，可调整传送带在Y轴上的位置，将其靠近转鼓镜从而缩小对应照射光斑，直至调整至合适为止，再调整激光器出射激光的功率因子、重复频率等激光器参数，使之射出合适的光密度激光。还可以根据加工的需要，选择合适的传送带传送的速度，从而完成清洗的目的。

在动态清洗模式下，由于待清洗物件的清洗面积较大，需要激光在X-Z平面内进行二维扫描清洗，具体的，参考图7示出了本实用新型的一种激光清洗系统动态清洗模式的示意图，当转鼓镜以ω的角速度由镜片221的中心点A点转至右边安全点B点时，对应扫过的角度为θ，其对应所花时间为：

ι＝θ/ω (1)式

根据几何关系可知对应镜片221的长度D＝2*R*Tanθ，为保证转鼓镜转动的时候激光能够完全照射在转鼓镜片221，因而镜片221左右两端预留出20％的安全距离，修正后的镜片221长度为：

D＝2*R*Tanθ/0.8≈2*R*Sinθ/0.8 (2)式

转鼓镜由A至B转动θ角，对应激光扫过传送带的角度为2θ，对应扫描距离为：L’＝g*Tan(2θ)。因为转镜鼓扫描的方式为钟摆式扫描，所以对应单行扫描(即由E点至F点)可加工工件的有效距离为：

L＝2*g*Tan(2θ) (3)式

所花的时间为：

T＝2*θ/ω (4)式

假设此时照射在传送带的光斑大小为S，即可计算出传送带对应的线速度：

V＝S/(2*θ/ω) (5)式

通过上述方式即可实现对大面积待清洗物件进行清洗处理。

在本实用新型实施例的另一种示例中，当需要清洗面积较大的工件时，可以根据加工件附着物的属性、所需激光能量密度，最大可能地拉长传送带与转鼓镜的Y向距离g，从而以最大光斑进行单行扫描，保证单行扫描时Z轴向长度最大，再根据加工件所需的X轴方向尺寸L后，便可以通过(3)式确定转鼓镜需要转动的角度θ。

接着可以通过(2)式确定对应所需转鼓镜上镶入镜片221的尺寸。控制组件可以根据光源的波长属性判断确认转鼓镜的具体扫描镜片221和反射镜具体反射区域。具体的，转镜鼓可以以三块镀有相同高反膜的镜片221为一组，长度依次增加，通过选择合适转鼓镜的镜片221以实现Z轴向最大距离的扫描，从而适应激光功率较低，不可拉长传送带的距离的清洗场景，实现增加转鼓镜Z轴扫描长度。

然后操作人员可以根据清洗结果通过控制组件控制转鼓镜和传送带的速度，从而达到更好的清洗效果，而传送带与转鼓镜的速度存在(5)式的逻辑关系。

需要说明的是，在本实用新型实施例中，转鼓镜转动的角度θ存在最大值，根据几何关系可知

为了保证使用的安全，转镜鼓实际可转动的角度θ小于θmax。

需要说明的是，在本实用新型实施例中，以三块镀有相同高反膜为例进行示例性说明，可以理解的是，本领域技术人员可以根据实际需要对反射单元中镜片221的数量进行设置，本实用新型对此不作限制。

在本实用新型实施例的激光清洗系统，包括光源组件以及清洗组件，清洗组件包括一反射结构，以及一由若干组反射不同波长的镜片组成的转镜结构，其中，转镜结构同一组镜片中各个镜片的尺寸不同,光源组件发射的激光，可以通过反射结构反射至转镜结构，由转镜结构将激光输出，通过转镜结构上不同尺寸的镜片，可以满足不同种类与面积的加工件，同时通过转镜结构上若干组反射不同波长的镜片，可以适用于各种类型的激光器，兼容性强，在满足清洗要求的情况下，提高了清洗系统的清洗效率。

Claims (10)

1.一种用于激光清洗的转镜结构，其特征在于，包括可沿中心轴转动的固定单元，以及沿所述固定单元的转动方向，依次设置在所述固定单元表面的若干组可反射不同波长的镜片；

其中，所述转镜结构同一组镜片中各个镜片的尺寸不同。

2.根据权利要求1所述的转镜结构，其特征在于，所述镜片的镜面垂直于所述镜片的中心与所述固定单元的中心轴的连线，且相对于所述固定单元的另一侧设有反射区域，以及与所述反射区域两侧连接的保留区域；

其中，所述转镜结构的同一组镜片中，各个镜片在所述固定单元的转动方向上的尺寸不同。

3.根据权利要求1所述的转镜结构，其特征在于，所述转镜结构按照预设角速度ω进行周期双向钟摆式转动。

4.一种激光清洗系统，其特征在于，包括光源组件以及清洗组件；

所述清洗组件包括：一反射结构，以及一由若干组反射不同波长的镜片组成的转镜结构，其中，所述转镜结构同一组镜片中各个镜片的尺寸不同；所述光源组件发射的激光，通过所述反射结构反射至所述转镜结构，由所述转镜结构将所述激光输出。

5.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，所述反射结构为可转动的反射镜，所述反射镜由多个反射不同波长的第一反射区域构成。

6.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，所述转镜结构还包括可沿中心轴转动的固定单元；

所述镜片的镜面垂直于所述镜片的中心与所述固定单元的中心轴的连线，且相对于所述固定单元的另一侧设有第二反射区域，以及与所述第二反射区域两侧连接的保留区域；所述第二反射区域的面积大于所述激光的光斑面积；

所述镜片沿所述固定单元的转动方向依次设置在所述固定单元的表面；且在同一组镜片中，各个镜片在所述固定单元的转动方向上的尺寸不同。

7.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，还包括与所述光源组件配合的校准组件，以及与所述光源组件、所述校准组件以及清洗组件连接的控制组件；

所述校准组件包括可调光阑以及三维调节平台，所述可调光阑设置于所述光源组件与所述反射结构之间，所述光源组件设置于所述三维调节平台上。

8.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，所述清洗组件还包括传送结构，以及设置在所述传送结构传送方向一侧的吹风结构，以及设置在所述传送结构另一侧与所述吹风结构对应的吸尘结构；

通过所述转镜结构将所述激光输出至所述传送结构。

9.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，所述转镜结构中各个镜片为平面镜或凸面镜。

10.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，所述光源组件包括光纤激光器、固体激光器以及气体激光器中的至少一种。

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