CN210275443U - 一种应用于石斛栽培的温室立体栽培装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种应用于石斛栽培的温室立体栽培装置，其中，所述装置包括一个培养架主体，所述培养架主体包括方形的第一侧面架和方形的第二侧面架，所述第一侧面架和第二侧面架通过各自的一条水平侧边相互搭接，两者的另一条水平侧边分别支承于地面上；所述第一侧面架和第二侧面架都具有能够放置栽培植料的网格结构；并且所述网格结构的最低处距离地面的高度为0.2～0.4米；该装置采用简单的结构实现了扩大单位种植面积，隔绝了石斛植料与土壤的直接接触，在石斛栽培过程中可以无需使用农药，能够在自然光源条件下实现石斛的立体种植，更有效地利用种植空间，在保证了石斛种植品质的基础之上，降低种植成本，大大提高石斛产量。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种应用于石斛栽培的温室立体栽培装置，属于植物种植技术领域。
背景技术
铁皮石斛是兰科石斛属的一种阴生植物，多生长于阴湿的岩石或树干上。因其具有极高的药用价值，被大量开发利用，从而造成了目前野生石斛资源稀缺，主要依靠人工栽培的方式来供应市场对于石斛的需求。
现有技术中，最常见的石斛栽培技术是将石斛组培苗种植在温室大棚内或者天然环境内进行种植，通常采用平面种植技术，无法有效利用种植空间。
为了实现种植利益的最大化，也有尝试着利用多层平面棚架外加LED光源进行立体种植的技术，此类技术能源需求较大，大大增加了种植成本。
另外，本领域也有尝试着将石斛与蔬菜或水果一同进行立体种植，这种模式下获得的作物投入产出比最高。然而，石斛依然为单层种植，无法实现石斛种植的利益最大化，并且混种的物种容易为石斛种植带来其他的病虫害。
因此，亟待一种新的应用于石斛栽培的温室立体栽培装置，能够在自然光源条件下实现石斛的立体种植，更有效地利用种植空间，获得更高的石斛产量以及品质。
发明内容
为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种应用于石斛栽培的温室立体栽培装置，其中，所述装置包括一个培养架主体，所述培养架主体包括方形的第一侧面架和方形的第二侧面架，所述第一侧面架和第二侧面架各自具有两条平行的且水平设置的侧边；所述第一侧面架和第二侧面架通过各自的一条水平侧边相互搭接，且两者之间在搭接处形成一锐角的二面角，两者的另一条水平侧边分别支承于地面上；所述第一侧面架和第二侧面架都具有能够放置栽培植料的网格结构；并且所述网格结构的最低处距离地面的高度为0.2～0.4米。
优选的，所述网格结构的最低处距离地面的高度为0.3米。
优选的，所述培养架主体与其在地面的投影形成三棱柱结构，且所述三棱柱结构在竖直方向的截面为等腰三角形。
优选的，所述等腰三角形截面的底边长度为30-50cm，高度为2-3m，所述三棱柱结构的水平方向的棱长为6-15米。
优选的，所述装置还包括安装在所述培养架主体上的营养液喷灌设备；所述营养液喷灌设备包括营养液管道和排布在所述营养液管道上的数个微型喷头；所述营养液管道布设在所述网格结构中的网格边框上。
优选的，所述装置还包括营养液回收设备，所述营养液回收设备包括集水槽，所述集水槽位于所述培养架主体的下方并嵌入地面中，所述培养架主体在地面的投影落入所述集水槽的覆盖范围中。
优选的，所述营养液回收设备还包括一营养液回收蓄积池和水泵，所述集水槽通过一管道连通所述营养液回收蓄积池，所述水泵用于将所述营养液回收蓄积池内的液体泵送到所述营养液喷灌设备的营养液管道中。
优选的，所述集水槽的底面为一倾斜面，且深度较深的一侧通过所述管道连通所述营养液回收蓄积池。
优选的，所述集水槽内铺设了防水布。
优选的，所述培养架主体下方中固定设置一竖直支柱以支撑所述培养架主体。
本实用新型的应用于石斛栽培的温室立体栽培装置，采用简单的结构实现了扩大单位种植面积，隔绝了石斛植料与土壤的直接接触，在石斛栽培过程中可以无需使用农药，在温室中培养也可以不使用外部光源，从而能够在自然光源条件下实现石斛的立体种植，更有效地利用种植空间，在保证了石斛种植品质的基础之上，降低种植成本，大大提高石斛产量。
附图说明
图1为本实用新型实施例1的应用于石斛栽培的温室立体栽培装置的立体图。
具体实施方式
以下将结合附图所示的具体实施方式对本实用新型进行详细描述。但这些实施方式并不限制本实用新型，本领域的普通技术人员根据这些实施方式所做出的结构、方法、或功能上的变换均包含在本实用新型的保护范围内。
现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本实用新型将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。在图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略对它们的重复描述。
所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施方式中。在下面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本实用新型的实施方式的充分理解。然而，本领域技术人员应意识到，没有特定细节中的一个或更多，或者采用其它的方法、组元、材料等，也可以实践本实用新型的技术方案。在某些情况下，不详细示出或描述公知结构、材料或者操作以避免模糊本实用新型。
实施例1
如图1所示，本实用新型的实施例1提供的一种应用于石斛栽培的温室立体栽培装置，该装置包括一个培养架主体10，培养架主体10包括方形的第一侧面架11和方形的第二侧面架12。
第一侧面架11和第二侧面架12可以为长方形，也可以为正方形，在本实施例中，如图1所示，两者都为长方形。
如图1所示，第一侧面架11和第二侧面架12各自具有两条平行的且水平设置的侧边；第一侧面架11和第二侧面架12通过各自的一条水平侧边相互搭接，且两者之间在搭接处形成一锐角的二面角，两者的另一条水平侧边分别支承于地面G(图中虚线所示平面G表示为地平面)上。
采用这样的结构，两个侧面架之间通过相互搭接并相互支撑的方式，可以稳定地安放在地面上。
如图1所示，第一侧面架11和第二侧面架12都具有能够放置栽培植料的网格结构；例如，采用木片、竹片或者钢丝之类将两个侧面架分隔出数个格子，例如20cm*20cm左右大小的方形格子。
关于石斛栽培的植料，可以将马尾松枝条利用粉碎机打成碎屑，进行高温浸泡消毒后，按照重量份，将马尾松碎屑93份，磷酸二铵复合肥2份，苔藓5份的质量比例混匀，并喷洒一定量的共生菌液，放入4目的尼龙筛网中。马尾松和苔藓都是石斛野外生长的原生基质，具有很强的保水能力，可以长时间保证石斛生长的水分需求。共生菌液主要目的是与石斛根部形成菌根系统，促进石斛的生根与生长。植料制作完成后，选取生长健壮，无病虫害的石斛苗，种植在植料上(例如，可以每个格子种植2株石斛苗)。培养10天左右，当植料与石斛稳定后，将种植有石斛的植料塞入第一侧面架11和第二侧面架12中的每一个网格。根据石斛生长情况，不定期喷施以复合肥为主的叶面肥；同时，根据植料湿度和石斛生长情况，不定期喷水以保证植料处于合适的水分状态。
另外，可以根据根据温室采光情况，悬挂遮阴网调控光照强度，保证石斛正常生长。
考虑到两个侧面架上放置的植料若接触地面，地面的虫子会爬上侧面架，从而导致虫害，因此，发明人经过多次试验发现，第一侧面架11和第二侧面架12的网格结构的最低处距离地面的高度最好为0.2～0.4米。
优选的，在本实施例中，第一侧面架11和第二侧面架12的网格结构的最低处距离地面的高度为0.3米，如图1中所标注h的高度。
在本实施例中，第一侧面架11和方形的第二侧面架12的尺寸基本相同，两者以对称的方式相互搭接，从而培养架主体10与其在地面的投影形成三棱柱结构，且该三棱柱结构在竖直方向的截面为等腰三角形(顶角为锐角)。在本实用新型的一个具体实施方案中，该等腰三角形截面的底边长度为30-50cm，高度为2-3m，三棱柱结构的水平方向的棱长为6-15米。在本实施例中，三棱柱结构中，等腰三角形截面的底边长度为40cm，高度为2.6m；水平方向的棱长为10m。
在本实用新型的一个优选实施方案中，该装置还包括安装在培养架主体10上的营养液喷灌设备，该营养液喷灌设备包括营养液管道21和排布在营养液管道21上的数个微型喷头22，如图1所示，营养液管道21布设在网格结构中的网格边框上。
关于营养液管道21的排布以节省为原则，尽量以最短的管道长度来布设整个网格结构区域，以便能够将营养液喷洒到整个网格结构区域。在本实施例中，如图1所示，营养液管道21以曲折蛇形的方式排布在网络边框上，例如，每一个网格的尺寸约20cm*20cm，在水管上每20cm布设一个喷射半径为20cm微型喷头，以保证每次喷洒能喷到每一个网格。
关于石斛培植，喷洒的营养液配方可以为沼液与花多多(肥料商标名)的混合液(两者体积比可以为1:3000)。
在本实用新型的一个优选实施方案中，该装置还包括营养液回收设备，如图1所示，营养液回收设备包括集水槽31，集水槽31位于培养架主体10的下方并嵌入地面中，培养架主体10在地面的投影落入集水槽31的覆盖范围中，从而保证培养架主体10上流下来的营养液都能落入集水槽31中。
在本实用新型的一个更优选实施方案中，集水槽31内铺设了防水布，例如，塑料布，可以防止从培养架主体10上流下来的营养液渗入到地下。
在本实用新型的一个优选实施方案中，培养架主体10的下方中固定设置一竖直支柱(图中未示出)以支撑培养架主体10。在本实施例中，竖直支柱的下端固定在集水槽31中，上端支撑于第一侧面架11和方形的第二侧面架12的搭接处。
如图1所示，营养液回收设备还包括一营养液回收蓄积池32和水泵33，集水槽31通过一管道34连通营养液回收蓄积池32，水泵33用于将营养液回收蓄积池32内的液体泵送到营养液喷灌设备的营养液管道21中。
采用这样的结构，每次喷施后从培养架主体10上流下来的营养液可以回收到营养液回收蓄积池32，积累到一定量时，开启水泵33，将营养液回收蓄积池32中的营养液泵送到营养液喷灌设备，再进行喷施。
在本实施例中，集水槽31的底面为一倾斜面，如图1所示，且深度较深的一侧通过管道34连通营养液回收蓄积池32。
本实施例的应用于石斛栽培的温室立体栽培装置，采用简单的结构实现了扩大单位种植面积，隔绝了石斛植料与土壤的直接接触，在石斛栽培过程中可以无需使用农药，在温室中培养也可以不使用外部光源，从而能够在自然光源条件下实现石斛的立体种植，更有效地利用种植空间，在保证了石斛种植品质的基础之上，降低种植成本，大大提高石斛产量。
应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施方式中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
上文所列出的一系列的详细说明仅仅是针对本实用新型的可行性实施方式的具体说明，它们并非用以限制本实用新型的保护范围，凡未脱离本实用新型技艺精神所作的等效实施方式或变更均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种应用于石斛栽培的温室立体栽培装置，其特征在于：所述装置包括一个培养架主体，所述培养架主体包括方形的第一侧面架和方形的第二侧面架，所述第一侧面架和第二侧面架各自具有两条平行的且水平设置的侧边；
所述第一侧面架和第二侧面架通过各自的一条水平侧边相互搭接，且两者之间在搭接处形成一锐角的二面角，两者的另一条水平侧边分别支承于地面上；
所述第一侧面架和第二侧面架都具有能够放置栽培植料的网格结构；并且所述网格结构的最低处距离地面的高度为0.2～0.4米。
2.如权利要求1所述的应用于石斛栽培的温室立体栽培装置，其特征在于：所述网格结构的最低处距离地面的高度为0.3米。
3.如权利要求1所述的应用于石斛栽培的温室立体栽培装置，其特征在于：所述培养架主体与其在地面的投影形成三棱柱结构，且所述三棱柱结构在竖直方向的截面为等腰三角形。
4.如权利要求3所述的应用于石斛栽培的温室立体栽培装置，其特征在于：所述等腰三角形截面的底边长度为30-50cm，高度为2-3m，所述三棱柱结构的水平方向的棱长为6-15米。
5.如权利要求1-4中任意一项所述的应用于石斛栽培的温室立体栽培装置，其特征在于：所述装置还包括安装在所述培养架主体上的营养液喷灌设备；所述营养液喷灌设备包括营养液管道和排布在所述营养液管道上的数个微型喷头；所述营养液管道布设在所述网格结构中的网格边框上。
6.如权利要求5所述的应用于石斛栽培的温室立体栽培装置，其特征在于：所述装置还包括营养液回收设备，所述营养液回收设备包括集水槽，所述集水槽位于所述培养架主体的下方并嵌入地面中，所述培养架主体在地面的投影落入所述集水槽的覆盖范围中。
7.如权利要求6所述的应用于石斛栽培的温室立体栽培装置，其特征在于：所述营养液回收设备还包括一营养液回收蓄积池和水泵，所述集水槽通过一管道连通所述营养液回收蓄积池，所述水泵用于将所述营养液回收蓄积池内的液体泵送到所述营养液喷灌设备的营养液管道中。
8.如权利要求7所述的应用于石斛栽培的温室立体栽培装置，其特征在于：所述集水槽的底面为一倾斜面，且深度较深的一侧通过所述管道连通所述营养液回收蓄积池。
9.如权利要求6所述的应用于石斛栽培的温室立体栽培装置，其特征在于：所述集水槽内铺设了防水布。
10.如权利要求1-4中任意一项所述的应用于石斛栽培的温室立体栽培装置，其特征在于：所述培养架主体下方中固定设置一竖直支柱以支撑所述培养架主体。
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