CN210246759U - 一种光模块中的Mux/Demux - Google Patents
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Abstract
本实用新型提出一种光模块中的Mux/Demux,包括至少一个第一光缆、至少一个第二光缆和本体(2),所述至少一个第一光缆和所述至少一个第二光缆分别设置在本体(2)的两端,所述Mux/Demux还包括高反膜(3)、增透膜(4)、至少一个镀膜(51‑54);其中,所述高反膜(3)和所述增透膜(4)设置在本体(2)的一端;所述至少一个镀膜(51‑54)分别设置在本体(2)的另一端。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种光模块中的Mux/Demux,尤其涉及一种用于通信领域的光模块中的Mux/Demux。
背景技术
常见的光模块(例如参见文献CN208707643U)包括光发射组件和光接收组件以及分别与光发射组件、光接收组件电连接的线路板11,线路板11上设有集成电路芯片;光发射组件包括依次连接的光发射接头7、MUX复用器6和分别连接到该MUX复用器6的多个激光器,这些激光器都电连接线路板11上的集成电路芯片;光接收组件包括依次连接的光接收接头5、DEMUX解复用器4和光接收芯片,光接收芯片焊接在线路板11上且电连接线路板11上的集成电路芯片。
WDM波分复用器在光通信中起着非常重要的作用,多束波长的光的传输可以通过复用器(Mux)合成一束,再耦合到一根光纤中,为干路传输节省大量的光纤资源,同样在接收端,干路上传输的多个波长的光可以通过解复用器(Demux)解复用,将多个波长分别提取出来进行分析和使用。
滤波片是实现波分复用的重要的途径之一,传统的实现方式如图1所示(例如可参见CN109212670A、CN107076930A、CN205941977U),其包括Mux/Demux本体10,在本体10的一端设置有多个波长(图中是4个)的滤波片11,本体10的另一端设置有高反膜12和增透膜13。Mux的过程为:多个波长(图中示出λ1~λ4)的光通过增透膜13射入本体10,经过高反膜12的来回反射,分别由多个滤波片11射出多个波长(图中示出λ1~λ4)的光。Demux的过程与之相反,在此不再赘述。但是,这种采用滤波片形式的Mux/Demux成本较高,需要胶粘组装的过程,工艺操作复杂。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是克服上述现有技术中的缺陷,提供一种光模块中的Mux/Demux。
为解决上述技术问题,本实用新型提出的技术方案为:
一种光模块中的Mux/Demux,包括至少一个第一光缆、至少一个第二光缆和本体(2),所述至少一个第一光缆和所述至少一个第二光缆分别设置在本体(2)的两端,所述Mux/Demux还包括高反膜(3)、增透膜(4)、至少一个镀膜(51-54);其中,所述高反膜(3)和所述增透膜(4)设置在本体(2)的一端;所述至少一个镀膜(51-54)分别设置在本体(2)的另一端。
进一步地,所述高反膜(3)设置在所述增透膜(4)的上方。
进一步地,所述高反膜(3)设置在所述增透膜(4)的下方。
进一步地,每个镀膜(51-54)具有使具有期望波长的光通过而使波长高于或低于截止波长的光反射的截止波长。
进一步地,每个镀膜(51-54)的所述截止波长互相不同。
与传统Mux/Demux相比,本实用新型将镀膜做在载体上,即将本体和镀膜合成一体可以提升器件的集成度,节省物料成本、切割成本及组装成本;同时减少一步胶粘组装的过程,可以带来可靠性的提升;镀膜的厚度远小于滤波片,即本方案的光阑要比滤波片大,可以提升光斑在Y方向的装配冗余度。
附图说明
在下文中将基于实施例并参考附图来对本实用新型进行更详细的描述。其中:
图1是现有技术中的Mux/Demux。
图2是实用新型的Mux/Demux的结构示意图。
图3是实用新型的Mux/Demux的原理图。
图4是本实用新型的光阑比较图。
图中各标号表示:
10、Mux/Demux本体;11、滤波片;12、高反膜;13、增透膜;
1、光缆;2、本体;3、高反膜;4、增透膜;51-54、镀膜。
具体实施方式
为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。
本说明书中使用的术语用于说明实施例,并非要限定本实用新型。在本说明书中,只要在句子中未特别言及,单数型也包括复数型。说明书中使用的“包括(comprises)”及/或“包含的(comprising)”,是指言及的构成元件、步骤、动作及/或元件不排除存在或追加一个以上的其他构成元件、步骤、动作及/或元件。下面参照附图,详细说明本实用新型的实施例。
如图2所示,光线经由光缆1在Mux/Demux中波分复用,尽管图中仅示出了1:4的光缆布置,但是也可以根据实际需要布置其他数量配比的光缆,例如1:5、1:6、2:5、2:6等等,即可以是N:M,N和M均是大于等于1的自然数。
如图3所示,本实用新型的Mux/Demux包括本体2、高反膜3、增透膜4、镀膜51-54。其中,高反膜3和增透膜4设置在本体2的一端,尽管图中示出高反膜3设置在增透膜4的上方,但是也可以将高反膜3设置在增透膜4的下方;镀膜51-54分别设置在本体2的另一端。
每个镀膜可具有使具有期望波长的光通过而使波长高于或低于截止波长的光反射的截止波长。每个镀膜包括短波镀膜,也可包括长波镀膜,还可包括具有合适通过波带的带通镀膜,从而使期望通道通过并拒绝其他通道。
其中,MUX的过程为:包含有λ1、λ2、λ3、λ4的4个波长的光从增透膜4入射,波长λ4的光从镀膜54射出,波长λ1、λ2、λ3的光被镀膜54反射到高反膜3,再从高反膜3被反射到镀膜53,波长λ3的光从镀膜53出射,波长λ1、λ2的光被镀膜53反射到高反膜3,再从高反膜3被反射到镀膜52,波长λ2的光从镀膜52出射,波长λ1的光被镀膜52反射到高反膜3,再从高反膜3反射到镀膜51,波长λ1的光从镀膜51射出。
其中,DEMUX的过程为:包含有波长λ1的光从镀膜51入射,被高反膜3和镀膜52-54来回反射,最后从增透膜4射出,同理,波长λ2、λ3、λ4的光分别从镀膜52-54入射,再分别被高反膜3和镀膜来回反射,最后都从增透膜4射出。
与传统Mux/Demux相比,本实用新型将镀膜做在载体上,即将本体和镀膜合成一体可以提升器件的集成度,节省物料成本、切割成本及组装成本;同时减少一步胶粘组装的过程,可以带来可靠性的提升。
如图4所示,长工作距离的光线的光斑有一定的直径,当光线从镀膜通过时,本方案由于是在Block上直接镀膜,光线在竖直方向上的可调节区域是b,而传统滤波片由于边界的束缚,光路在竖直方向上的调整空间是a,显然b大于a。
与传统Mux/Demux相比,本实用新型将镀膜做在载体上,镀膜的厚度远小于滤波片,即本方案的光阑要比滤波片大,可以提升光斑在Y方向的装配冗余度。
前面对本实用新型具体示例性实施方式所呈现的描述是出于说明和描述的目的。前面的描述并不想要成为毫无遗漏的,也不是想要把本实用新型限制为所公开的精确形式,显然,根据上述教导很多改变和变化都是可能的。选择示例性实施方式并进行描述是为了解释本实用新型的特定原理及其实际应用,从而使得本领域的其它技术人员能够实现并利用本实用新型的各种示例性实施方式及其不同选择形式和修改形式。本实用新型的范围意在由所附权利要求书及其等价形式所限定。
Claims (5)
1.一种光模块中的Mux/Demux,包括至少一个第一光缆、至少一个第二光缆和本体(2),所述至少一个第一光缆和所述至少一个第二光缆分别设置在本体(2)的两端,其特征在于,所述Mux/Demux还包括高反膜(3)、增透膜(4)、至少一个镀膜;其中,所述高反膜(3)和所述增透膜(4)设置在本体(2)的一端;所述至少一个镀膜分别设置在本体(2)的另一端。
2.根据权利要求1所述的一种光模块中的Mux/Demux,其特征在于,所述高反膜(3)设置在所述增透膜(4)的上方。
3.根据权利要求1所述的一种光模块中的Mux/Demux,其特征在于,所述高反膜(3)设置在所述增透膜(4)的下方。
4.根据权利要求1-3任一项所述的一种光模块中的Mux/Demux,其特征在于,每个镀膜具有使具有期望波长的光通过而使波长高于或低于截止波长的光反射的截止波长。
5.根据权利要求4所述的一种光模块中的Mux/Demux,其特征在于,每个镀膜的所述截止波长互相不同。
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CN201921472590.2U CN210246759U (zh) | 2019-09-05 | 2019-09-05 | 一种光模块中的Mux/Demux |
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CN201921472590.2U Active CN210246759U (zh) | 2019-09-05 | 2019-09-05 | 一种光模块中的Mux/Demux |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112213824A (zh) * | 2020-10-29 | 2021-01-12 | 苏州伽蓝致远电子科技股份有限公司 | 一种波分组件及波分组件的制备方法 |
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2019
- 2019-09-05 CN CN201921472590.2U patent/CN210246759U/zh active Active
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CN112213824A (zh) * | 2020-10-29 | 2021-01-12 | 苏州伽蓝致远电子科技股份有限公司 | 一种波分组件及波分组件的制备方法 |
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