CN210131618U - 一种可测量介质密度及液位的密闭容器 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种可测量介质密度及液位的密闭容器,用以解决由于介质本身的特点而产生的密闭容器内介质密度及液位不易测量的问题,适用于高温、高压及盛放复杂介质容器液位及介质密度的测量;包括密闭容器本体,密闭容器本体的底部设置有第一压力计,中部设置有第二压力计,顶部设置有第三压力计,第一压力计与第二压力计之间的密闭容器本体上设置由透明可视窗,透明可视窗上设置有高度尺;本装置在利用容易测量的压力值间接对不易测量的介质密度和液位进行计算得出,整个装置只需要在密闭容器的底部、中部和顶部设置压力装置和底部与中部之间的高度尺就可以实现,更为方便,装置简单。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种密闭反应容器,尤其涉及一种可以测量内部介质密度及液位的高温、高压、高液位的反应容器。
背景技术
在化工生产领域中,经常遇到具有高温、高压、高液位的反应容器,而且多属于不稳定介质,介质成分不稳定,介质密度会随着温度而改变。在这种情况出现时,容器液位的测量往往会遇到困难。如果利用雷达液位,高温介质的凝结物会堵死雷达发射口;如果利用导播雷达,对于过高的液位,导播雷达的钢缆无法做的太长;如果利用差压式双法兰液位计,一是传感器的毛细管无法做的太长,二是随着温度的变化,介质的密度也在变化,所以运用差压式液位计也无法取得好的测量结果。
实用新型内容
本实用新型克服现有技术存在的不足,提供一种可测量介质密度及液位的密闭容器,适用于高温、高压及盛放复杂介质容器液位及介质密度的测量。解决了由于介质本身的特点而产生的密闭容器内介质密度及液位不易测量的问题。
本实用新型是通过如下技术方案实现的。
一种可测量介质密度及液位的密闭容器,包括密闭容器本体,所述的密闭容器本体的底部设置有第一压力计,所述的密闭容器本体的中部设置有第二压力计,所述的密闭容器本体的顶部设置有第三压力计,所述第一压力计与第二压力计之间的密闭容器本体上设置由透明可视窗,所述的透明可视窗上设置有高度尺。
进一步优选的结构,所述的密闭容器本体的外壁上设置有透明保护罩,所述的第一压力计、第二压力计和第三压力计设置在所述的透明保护罩内。透明保护罩可有效的对三处不同位置的压力装置进行保护。
进一步优选的结构,所述的透明保护罩内设置有温湿度测量装置。用于监控透明保护罩内的环境情况,保证压力测量装置所处环境条件适宜。
进一步优选的结构,所述的透明保护罩连接有电子监控装置,所述电子监控装置的监控探头设置在第三压力计的上方,用于监测第三压力计的压力数值。对于顶部设置的第三压力计,由于位置的原因,通过电控探头的设置可以更方便的对第三压力计的数值进行反馈和获取。
本实用新型将密闭容器本身与测量装置相结合,间接对容易变化不易测量的介质密度和液位高度进行测量。主要是利用介质密度、液位、及液位产生的压强之间的关系:P=ρgh, 通过三个测压点测出密闭容器的液位及介质的密度。适用于高温、高压及盛放复杂介质容器液位及介质密度的测量。
测量的具体原理为:在密闭容器中取三个压力点,分别是第一压力计测量的P1(底部压力)、第二压力计测量的P2(中部压力)、第三压力计测量的P3(顶部压力)。
∆P1=P1-P2;
当液位未到达第二压力计的位置时,P2接近于P3;
当液位到达第二压力计的位置时,P2大于P3,所以可以根据三个压力计的数值情况来判定液位此时是否到达第二压力计位置,也可以通过透明可视窗观察,同时∆P1保持不变;这时,可根据公式:ρ=∆P1/gh1 就可以算出容器中介质的密度。∆P1可根据P1、P2算出,h1可通过外部高度尺测绘得出,g是重力常数。
得到了容器内介质的密度,可进一步计算出后续液位的高度。
∆P2=P1-P3;
当液位大于第二压力计的位置时,此时,容器中的液位可根据公式:H=∆P2/ρg得出。
所以,在密闭容器中,分别第一压力计、第二压力计和第三压力计检测到上中下(P1、P2、P3)三个压力点,然后根据压强和密度的关系就可以算出容器中介质的密度和液位。
本实用新型相对于现有技术所产生的有益效果为。
本实用新型在利用容易测量的压力值间接对不易测量的介质密度和液位进行计算得出,整个装置只需要在密闭容器的底部、中部和顶部设置压力装置和底部与中部之间的高度尺就可以实现,更为方便,装置简单。解决了目前对于具有高温、高压、高液位的反应容器中盛装的不稳定介质,密度及液位不易测量的问题。
附图说明
图1为本实用新型可测量介质密度及液位的密闭容器的结构示意图。
其中,1为第一压力计,2为第二压力计,3为第三压力计,4为密闭容器本体,5为透明可视窗,6为高度尺,7为透明保护罩,8为监控探头。
具体实施方式
为了使本实用新型所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,结合实施例和附图,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。下面结合实施例及附图详细说明本实用新型的技术方案,但保护范围不被此限制。
如图1所示的是一种可测量介质密度及液位的密闭容器,包括密闭容器本体4,密闭容器本体4为一种高温、高压及盛放复杂介质容器,所述的密闭容器本体4的底部设置有第一压力计1,密闭容器本体4的中部设置有第二压力计2,密闭容器本体4的顶部设置有第三压力计3,第一压力计1与第二压力计2之间的密闭容器本体4上设置由透明可视窗5,透明可视窗5上设置有高度尺6。密闭容器本体4的外壁上设置有透明保护罩7,第一压力计1、第二压力计2和第三压力计3设置在透明保护罩7内。透明保护罩可有效的对三处不同位置的压力计进行保护。透明保护罩7内设置有温湿度计,用于监控透明保护罩内的环境情况,保证压力测量装置所处环境条件适宜。温湿度计在图中未标示。透明保护罩7连接有电子监控设备,电子监控设备的监控探头8安装在第三压力计3的上方,用于监测第三压力计3的压力数值。
本装置及测量计算的具体步骤为:本装置主要是利用介质密度、液位、及液位产生的压强之间的关系:P=ρgh, 通过三个测压点测出密闭容器的液位及介质的密度。适用于高温、高压及盛放复杂介质容器液位及介质密度的测量。
具体测量过程为:第一压力计1测量底部压力P1、第二压力计2测量中部压力P2、第三压力计3测量顶部压力P3。
∆P1=P1-P2;
当液位未到达第二压力计2的位置时,P2接近于P3。
当液位到达第二压力计2的位置时,P2大于P3,所以可以根据三个压力计的数值情况来判定液位此时是否到达第二压力计2的位置,也可以通过透明可视窗5观察,同时∆P1保持不变;这时,可根据公式:ρ=∆P1/gh1 就可以算出容器中介质的密度。∆P1可根据P1、P2算出,h1可通过外部高度尺6读出,g是重力常数。
得到了容器内介质的密度ρ,可进一步计算出后续液位的高度H。
∆P2=P1-P3;
当液位大于第二压力计2的位置时,此时,容器中的液位可根据公式:H=∆P2/ρg得出。
本实用新型在利用容易测量的压力值间接对不易测量的介质密度和液位进行计算得出,整个装置只需要在密闭容器的底部、中部和顶部设置压力装置和底部与中部之间的高度尺就可以实现,更为方便,装置简单。解决了目前对于具有高温、高压、高液位的反应容器中盛装的不稳定介质,密度及液位不易测量的问题。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本实用新型所做的进一步详细说明,不能认定本实用新型的具体实施方式仅限于此,对于本实用新型所属技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型的前提下,还可以做出若干简单的推演或替换,都应当视为属于本实用新型由所提交的权利要求书确定专利保护范围。
Claims (4)
1.一种可测量介质密度及液位的密闭容器,包括密闭容器本体(4),其特征在于,所述的密闭容器本体(4)的底部设置有第一压力计(1),所述的密闭容器本体(4)的中部设置有第二压力计(2),所述的密闭容器本体(4)的顶部设置有第三压力计(3),所述第一压力计(1)与第二压力计(2)之间的密闭容器本体(4)上设置由透明可视窗(5),所述的透明可视窗(5)上设置有高度尺(6)。
2.根据权利要求1所述的一种可测量介质密度及液位的密闭容器,其特征在于,所述的密闭容器本体(4)的外壁上设置有透明保护罩(7),所述的第一压力计(1)、第二压力计(2)和第三压力计(3)设置在所述的透明保护罩(7)内。
3.根据权利要求2所述的一种可测量介质密度及液位的密闭容器,其特征在于,所述的透明保护罩(7)内设置有温湿度测量装置。
4.根据权利要求2所述的一种可测量介质密度及液位的密闭容器,其特征在于,所述的透明保护罩(7)连接有电子监控装置,所述电子监控装置的监控探头(8)设置在第三压力计(3)的上方,用于监测第三压力计(3)的压力数值。
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