CN209879040U - 复合折射结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种复合折射结构，包括基底、涂布在基底上的反射层和布设在反射层上的折射层，所述折射层由M和W两种折射率材料周期交替叠加组成。本实用新型结构简单，加工难度低，且具有很好的散热效果，可以达到节能减排的目的，具有广阔的市场前景和应用前景。
Description
技术领域
本实用新型涉及制冷技术领域，特别涉及一种复合折射结构。
背景技术
随着科学的发展，一种夜间的被动降温材料已经被发现了，它是基于一种名为“大气窗口”的物理机制而实现的，机理是暴露在天空中的装置通过将8至13微米的波长的电磁波辐射至大气层中的透明窗口，来实现向外部空间辐射热量，以达到被动降温的目的。然而白天由于太阳光的能量辐射使得温度上升的被动制冷的材料很难被突破。因此解决太阳热辐射的问题成为白天被动降温材料研制的一大难点。
现代微纳加工技术的不断成熟化，使得一些微观的结构材料的研发来实现在白天的被动降温已经被一些研发人员所提出。微纳材料具有体积小、性能优越、结构多样化、加工成本低，已经被广泛应用于工业生产的很多领域。
随着光子晶体的提出，为一些微纳加工带来了巨大的研究前景，光子晶体是一种具有特殊属性的微纳结构，光子晶体由不同折射率的介质周期性排列而成的人工微结构。光子晶体即光子禁带材料，从材料结构上看，光子晶体是一类在光学尺度上具有周期性介电结构的人工设计和制造的晶体。与半导体晶格对电子波函数的调制相类似，光子带隙材料能够调制具有相应波长的电磁波，当电磁波在光子带隙材料中传播时，由于存在布拉格散射而受到调制，电磁波能量形成能带结构。能带与能带之间出现带隙，即光子带隙。所具能量处在光子带隙内的光子，不能进入该晶体。
实用新型内容
技术问题：本实用新型公开了一种复合折射结构，针对合金材料与隔热层的辐射散热薄膜，此种降温材料耗材多，结构较为复杂，且实用场合比较单一，使得操作性比较复杂，使用范围受限。本实用新型提出了由M和W两种折射率材料周期交替叠加组成的折射层结构，其结构简单，加工难度低，且具有很好的散热效果，可以达到节能减排的目的，具有广阔的市场前景和应用前景。
技术方案：本实用新型公开了一种复合折射结构，包括基底、涂布在基底上的反射层和布设在反射层上的折射层，所述折射层由M和W两种折射率材料周期交替叠加组成。
所述折射率材料M为Si3N4层，其厚度为30nm-200nm；折射率材料W为ZrO2层，其厚度为30nm-160nm。反射层为Ag涂层、Al涂层，Au涂层或Cu涂层的任意一种。反射层的厚度为30nm-160nm。基底为SiC基板。
有益效果：本实用新型提供了一种复合折射结构，该结构材料在可见光波段有好的反射率，以避免吸收具有高能量的可见光，且在大气窗口有很高的辐射效率，这里光波段有好的反射率，以避免吸收具有高能量的可见光，且在大气窗口有很高的辐射效率，在某一波段范围内好的吸收体必定是好的辐射体，因此需要在大气窗口波段采用一个具有高吸收率的材料与结构，本技术方案的材料具备很好的选择透过性能。相对于现有技术铝薄膜与二氧化硅、二氧化钡颗粒的一种多层结构，该结构颗粒均匀性，以及涂层的厚薄受到了很大的挑战，制作工艺相当繁琐，不适合生产实践；多层膜的被动降温材料，其薄膜参数太多且材料制备繁琐，不利于实际加工。而本实用新型结构简单，加工难度低，且具有很好的散热效果，可以达到节能减排的目的，具有广阔的市场前景和应用前景。
附图说明
图1为本实用新型的复合折射结构示意框图。其中有：基底(1)、反射层(2)、折射层M折射率材料、折射层W折射率材料。
具体实施方式
为了能够更清楚地理解本实用新型的上述目的和特征，下面结合具体实施方式对本实用新型进行进一步地详细描述。
本实用新型公开了一种复合折射结构，包括基底、涂布在基底上的反射层和布设在反射层上的折射层，所述折射层由M和W两种折射率材料周期交替叠加组成。
所述折射率材料M为Si3N4层，其厚度为30nm-200nm；折射率材料W为Zr02层，其厚度为30nm-160nm。反射层为Ag涂层、Al涂层，Au涂层或Cu涂层的任意一种。反射层的厚度为30nm-160nm。基底为SiC基板。
实施例1：
所述折射率材料M为Si3N4层，其厚度为30nm；折射率材料W为ZrO2层，其厚度为160nm。反射层为Ag涂层。反射层的厚度为160nm。基底为SiC基板。
实施例2：
所述折射率材料M为Si3N4层，其厚度为200nm；折射率材料W为ZrO2层，其厚度为30nm。反射层为Al涂层。反射层的厚度为30nm。基底为SiC基板。
实施例3：
所述折射率材料M为Si3N4层，其厚度为130nm；折射率材料W为ZrO2层，其厚度为60nm。反射层为Au涂层。反射层的厚度为100nm。基底为SiC基板。
实施例4：
所述折射率材料M为Si3N4层，其厚度为180nm；折射率材料W为ZrO2层，其厚度为110nm。反射层为Cu涂层。反射层的厚度为120nm。基底为SiC基板。
Claims (6)
1.一种复合折射结构，其特征在于：包括基底、涂布在基底上的反射层和布设在反射层上的折射层，所述折射层由M和W两种折射率材料周期交替叠加组成，其中所述基底的材料、所述反射层的材料及所述折射层的材料不同。
2.如权利要求1所述的复合折射结构，其特征在于：M折射率材料为Si3N4层，其厚度为30nm-200nm。
3.如权利要求1所述的复合折射结构，其特征在于：W折射率材料为ZrO2层，其厚度为30nm-160nm。
4.如权利要求1所述的复合折射结构，其特征在于：所述反射层为Ag涂层、Al涂层，Au涂层或Cu涂层的任意一种。
5.如权利要求1所述的复合折射结构，其特征在于：所述反射层的厚度为30nm-160nm。
6.如权利要求1所述的复合折射结构，其特征在于：所述基底为SiC基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201920347273.1U CN209879040U (zh) | 2019-03-19 | 2019-03-19 | 复合折射结构 |
Applications Claiming Priority (1)
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| CN201920347273.1U CN209879040U (zh) | 2019-03-19 | 2019-03-19 | 复合折射结构 |
Publications (1)
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| CN209879040U true CN209879040U (zh) | 2019-12-31 |
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ID=68955540
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| CN201920347273.1U Active CN209879040U (zh) | 2019-03-19 | 2019-03-19 | 复合折射结构 |
Country Status (1)
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2019
- 2019-03-19 CN CN201920347273.1U patent/CN209879040U/zh active Active
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