CN209802320U - 发射单元、传感模组及电子设备 - Google Patents

Abstract

本申请适用于光学和电子技术领域，提供了一种发射单元。所述发射单元包括光源、第一调制元件和第二调制元件，所述第一调制元件对所透过光线的雾度能够在透明和非透明至少两个状态之间进行切换，所述第二调制元件用于将所透过光线的光场进行重新排布，所述第一调制元件处于透明状态时所述光源发出的光线经过第一调制元件和第二调制元件形成结构光光线投射至待测对象上，所述第一调制元件处于非透明状态时所述光源发出的光线经过第一调制元件和第二调制元件形成泛光光线投射至待测对象上。本申请还提供一种包括上述发射单元的传感模组和电子设备。

Description

发射单元、传感模组及电子设备

技术领域

本申请属于光学技术领域，尤其涉及一种发射单元、传感模组及电子设备。

背景技术

现有的三维(Three Dimensional,3D)感测模组通常需要分别设置泛光发射器和结构光发射器，通过两个不同的光路来配合实现3D感测。然而，所述分别设置的泛光发射器和结构光发射器，不仅会增加成本而且所占用的体积也影响了该3D感测模组的小型化设计。

实用新型内容

本申请提供一种发射单元、传感模组及电子设备以解决上述技术问题。

本申请实施方式提供一种发射单元，其包括光源、第一调制元件和第二调制元件。所述第一调制元件对所透过光线的雾度能够在透明和非透明至少两个状态之间进行切换。所述第二调制元件用于将所透过光线的光场进行重新排布。所述第一调制元件处于透明状态时所述光源发出的光线经过第一调制元件和第二调制元件形成结构光光线投射至待测对象上。所述第一调制元件处于非透明状态时所述光源发出的光线经过第一调制元件和第二调制元件形成泛光光线投射至待测对象上。

在某些实施方式中，所述第一调制元件处于透明状态时所述光线可不经改变地透过第一调制元件，所述第一调制元件处于非透明状态时所述光线经过第一调制元件时被散射为泛光光线。

在某些实施方式中，所述第一调制元件包括相对设置的第一电极和第二电极以及设置在所述第一电极和第二电极之间的液晶层，电源未通过所述第一电极和第二电极给液晶层施加电场时，所述第一调制元件处于非透明状态，电源通过所述第一电极和第二电极给液晶层施加预设电场时，所述第一调制元件处于透明状态。

在某些实施方式中，所述液晶层为聚合物分散液晶层。

在某些实施方式中，所述第一调制元件在非透明状态时对所透过光线的雾度大于或等于70％。

在某些实施方式中，所述第一调制元件在透明状态时对所透过光线的雾度小于或等于1％。

在某些实施方式中，所述第二调制元件选自微透镜阵列、光栅及衍射光学元件中的任意一种及其组合。

在某些实施方式中，所述光源包括多个非规则地分布在半导体基底上的发光体。

在某些实施方式中，所述第一调制元件位于光源与第二调制元件之间的出射光路上，或者所述第二调制元件位于光源与第一调制元件之间的出射光路上。

在某些实施方式中，所述泛光光线和结构光光线为红外或近红外光，波长范围为750纳米至2000纳米。

本申请实施方式提供一种传感模组，其包括接收单元及如上述实施方式所述的发射单元。所述接收单元获取发射单元照射在待测对象上所形成的图像进行感测。

在某些实施方式中，所述第一调制元件处于非透明状态时发射单元照射在待测对象上形成泛光图像，所述泛光图像可用于判断待测对象是否为预设的对象类型。

在某些实施方式中，所述第一调制元件处于透明状态时发射单元在待测对象上投射出预设的感测光斑图像，所述感测光斑图像可用于感测待测对象的三维信息。

本申请实施方式提供一种电子设备，其包括如上述实施方式所述的传感模组。所述电子设备根据所述传感模组所感测到的待测对象的三维信息来执行相应功能。

本申请所提供的发射单元、传感模组及电子设备通过在发射结构光的光路上设置能够切换透明状态和非透明状态的第一调制元件，使得原先光路在透明状态时可用于发射结构光，在非透明状态时可用于发射泛光，从而实现结构光发射光路和泛光发射光路的复用，节省了元件，降低了模组成本，同时简化了模组结构，有利于模组的小型化。本申请实施方式的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本申请实施方式的实践了解到。

附图说明

图1是本申请实施方式提供的电子设备的正面结构示意图。

图2是图1中所述传感模组的结构示意图。

图3是图2中所述发射单元的结构示意图。

图4是图3中所述第一调制元件处于非透明状态时的结构示意图。

图5是图3中所述第一调制元件处于透明状态时的结构示意图。

图6是图3中所述光源的结构示意图。

图7是图2中所述光源上发光体的排布示意图。

图8是本申请实施方式提供的一种所述传感模组的感测方法的步骤流程图。

图9是本申请变更实施方式提供的一种所述传感模组的感测方法的步骤流程图。

具体实施方式

下面详细描述本申请的实施方式，所述实施方式的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施方式是示例性的，仅用于解释本申请，而不能理解为对本申请的限制。在本申请的描述中，需要理解的是，术语“第一”、“第二”仅用于描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量或排列顺序。由此，限定有“第一”、“第二”的技术特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述技术特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定或限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体化连接；可以是机械连接，也可以是电连接或相互通信；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件之间的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

下文的公开提供了许多不同的实施方式或示例用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文仅对特定例子的部件和设定进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复使用参考数字和/或参考字母，这种重复使用是为了简化和清楚地表述本申请，其本身不指示所讨论的各种实施方式和/或设定之间的特定关系。此外，本申请在下文描述中所提供的各种特定的工艺和材料仅为实现本申请技术方案的示例，但是本领域普通技术人员应该意识到本申请的技术方案也可以通过下文未描述的其他工艺和/或其他材料来实现。

进一步地，所描述的特征、结构可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施方式中。在下文的描述中，提供许多具体细节以便能够充分理解本申请的实施方式。然而，本领域技术人员应意识到，即使没有所述特定细节中的一个或更多，或者采用其它的结构、组元等，也可以实践本申请的技术方案。在其它情况下，不详细示出或描述公知结构或者操作以避免模糊本申请之重点。

如图1所示，本申请实施方式提供了一种电子设备1，例如：手机、笔记本电脑、平板电脑、触控交互屏、门、交通工具、机器人、自动数控机床等。所述电子设备1包括传感模组2，所述传感模组2用于对一待测对象进行感测。所述电子设备1能够根据该传感模组2的感测结果来对应执行相应的功能。所述相应功能包括但不限于识别待测对象的身份后执行解锁、支付及启动预设应用程序等操作，或者根据感测结果进行避障，或者识别待测对象的脸部表情后利用深度学习技术判断待测对象的情绪和健康情况中的任意一种或多种的组合。在本实施方式中，所述传感模组2为能够感测待测对象表面的三维信息，并据此识别待测对象身份的三维脸部识别模组。

所述传感模组2包括发射单元20和接收单元22。所述发射单元20用于发出感测光线至待测对象上。所述接收单元22用于接收由待测对象反射或从待测对象发出的感测光线以进行感测。例如：所述发射单元20发出的感测光线投射至待测对象上有一部分会直接由待测对象反射而返回，另一部分感测光线会进入待测对象内部后经过一段传播后再从外部对象表面射出。所述感测光线能够用于感测和识别待测对象的二维或三维的生物特征。

所述发射单元20发出的感测光线包括泛光光线和结构光光线。所述泛光光线为光强均匀地向四面八方高度漫射的光线。所述泛光光线投射至待测对象上可形成待测对象的泛光图像。所述泛光图像为二维平面图像，可通过分析所述泛光图像来获取待测对象的特征点。所获取的泛光图像特征点可以用于判断所述待测对象是否为预设的感兴趣的对象类型，比如：人脸等。

所述结构光光线为经过结构编码的光线，能够在待测对象上投射出预设的感测光斑图案。所述预设的感测光斑图案可被用于感测所述待测对象的三维信息。所述三维信息包括但不限于待测对象表面的深度数据、待测对象在空间中的位置信息以及待测对象的尺寸信息等。所感测到的待测对象的三维信息可被用于识别待测对象的身份或构建待测对象的三维模型。

所述泛光光线和结构光光线均由同一个所述发射单元20发出，所以所述发射单元20需要分别在不同的时段发出所述泛光光线和结构光光线。在本实施方式中，所述感测光线为红外或近红外光线，波长范围为750纳米(Nanometer,nm) 至2000nm。

所述接收单元22包括但不限于镜头220、图像传感器222和图像分析处理器223。所述图像传感器222通过镜头220获取投射到待测对象上的所述预设的感测光斑图案。所述图像分析处理器223分析所感测到的感测光斑图案以获取待测对象的三维信息。

可以理解的是，在其他变更实施方式中，所述镜头220内的光学元件也可以集成在所述图像传感器222内从而省略所述镜头220，比如：在图像传感器 222的感光像素上对应设置微型透镜来进行对焦成像。所述图像分析处理器223 可以设置在所述传感模组2内，也可以设置在电子设备1的其他位置，本申请对此不做限定。

请一并参阅图2和图3，所述发射单元20包括光源200、第一调制元件202 和第二调制元件204。所述光源200发出原始光线。所述第一调制元件202和第二调制元件204设置在光源200的出射光路上。所述第一调制元件202对所透过光线的雾度能够在透明和非透明至少两个状态之间进行切换。所述第二调制元件204用于将所透过光线的光场进行重新排布后再投射出去，所述排布方式包括但不限于将所透过光线复制多次并在预设角度范围内将复制的光线进行排布。所述原始光线经过第一调制元件202和第二调制元件204后形成感测光线投射至待测对象上。所述第一调制元件202处于透明状态时所述原始光线经过第一调制元件202和第二调制元件204后形成结构光光线投射至待测对象上。所述第一调制元件202处于非透明状态时所述原始光线经过所述第一调制元件 202和第二调制元件204后形成泛光光线投射至待测对象上。

可选地，所述第一调制元件202还可以具有位于透明状态和非透明状态之间的一个或多个中间状态。在本实施方式中，所述第一调制元件202处于非透明状态时对所透过光线的雾度大于或等于70％。所述第一调制元件202处于非透明状态时对所透过光线的雾度小于或等于1％。所述第一调制元件202处于透明状态和非透明状态之间的一个或多个中间状态时对所透过光线的雾度范围为1％至70％。

可以理解的是，对于所述第一调制元件202和第二调制元件204在光源200 出射光路上的排列顺序可以不做限定。例如，所述第一调制元件202可以设置在所述光源200和第二调制元件204之间。所述第一调制元件202为透明状态时，所述光源200发出的光线可不经散射地透过第一调制元件202，再经由所述第二调制元件204调制成结构光光线。所述第一调制元件202为非透明状态时，所述光源200发出的光线经第一调制元件202时被发散为泛光光线，所述第二调制元件204对泛光光线进行复制和重新排布后形成的仍然是均匀发散的泛光光线以投射至待测对象上。

可选地，所述第二调制元件204也可以设置在所述光源200和第一调制元件202之间。所述光源200发出的光线先经过第二调制元件204被调制为结构光光线。位于后续光路上的第一调制元件202若为透明状态，则所述结构光光线不经散射地透过第一调制元件202后投射至待测对象上。若所述第一调制元件202为非透明状态，则所述结构光光线经过第一调制元件202时被发散为泛光光线。

如图4所示，在本实施方式中，所述第一调制元件202包括第一电极2020、第二电极2022及液晶层2024。所述第一电极2020和第二电极2022相对设置。所述液晶层2024设置在第一电极2020和第二电极2022之间。可选地，所述液晶层2024可以为聚合物分散液晶层(Polymer Dispersed Liquid Crystal,PDLC)，包括聚合物基体2025及分布在所述聚合物基体2025内部间隙中的液晶分子 2026。可以理解的是，在其他变更实施方式中，所述液晶层2024还可以为其他类型的液晶层。

所述液晶分子2026在未加电场的情况下在所述聚合物基体2025内呈无序取向的状态，对透过其中的光线具有明显的散射效果，使得所述液晶层2024 对透过的光线呈非透明的雾化状态。在本实施方式中，所述液晶层2024在未加电场的情况下对所透过光线的雾度大于或等于70％。即，所述第一调制元件202 在非透明状态时对所透过光线的雾度大于或等于70％。

如图5所示，所述液晶分子2026在预设电场的作用下沿电场方向统一排布，使得光线可以几乎不受散射地穿过液晶层2024，此时所述液晶层2024呈现透明状态。在本实施方式中，所述液晶层2024在加电场情况下而处于透明状态时对所透过光线的雾度小于或等于1％。即，所述第一调制元件202在透明状态时对所透过光线的雾度小于或等于1％。因此，通过控制电源给所述第一电极 2020和第二电极2022之间施加预设电场或不施加电场可以使得液晶层2024对应地分别在透明状态和非透明状态之间进行切换。可选地，通过调整所施加电场的强度，还可以使得所述液晶层2024位于透明状态和非透明状态之间的一个或多个中间状态。

如图4所示，所述第一调制元件202还可以包括相对设置的上基板467和下基板468。所述上基板467和下基板468由透光材料制成。所述上基板467 和/或下基板468的材料可以为但不限于玻璃、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)及聚对苯二甲酸类塑料(Polyethylene terephthalate,PET)中的任意一种或多种的组合。可以理解的是，所述上基板467和下基板468可以由相同材料制成，也可以分别由不同的材料制成，本申请对此不做限定。

所述液晶层2024设置在所述上基板467和下基板468之间，形成类似夹心三明治的结构。因所述上基板467和下基板468对设置在其中间的液晶层2024 具有一定的保护作用，可有效减少使用过程中对所述液晶层2024的刮伤，使得所述第一调制元件202具有更好的耐用性。

所述上基板467包括相对设置的第一表面4671和第二表面4672。所述第一表面4671朝向第一调制元件202的外侧，所述第二表面4672朝向所述液晶层2024和下基板468所在的第一调制元件202内侧。所述下基板468包括相对设置的第三表面4681及第四表面4682。所述第四表面4682朝向第一调制元件 202的外侧。所述第三表面4681朝向所述第一调制元件202和下基板468所在的第一调制元件202内侧。

所述第一电极2020和第二电极2022可以分别设置在液晶层2024相对两侧的不同平面上。例如：若所述第一电极2020设置在上基板467的第一表面4671 或第二表面4672上时，所述第二电极2022可以对应设置在下基板468的第三表面4681或第四表面4682上。若所述第一电极2020设置在下基板468的第三表面4681或第四表面4682上时，所述第二电极2022可以对应设置在所述上基板467的第一表面4671或第二表面4672上。

所述第二调制元件204可选自微透镜阵列、光栅及衍射光学元件(DiffractiveOptical Elements,DOE)中的任意一种及其组合。可以理解的是，在其他变更实施方式中，所述发射单元20还可以包括其他光学元件，包括但不限于准直元件、扩束元件、聚焦透镜等。所述光学元件用于对感测光线进行调整，使其传播光学特性，比如扩散角度等，满足预设的要求。

如图6所示，所述光源200包括半导体基底120、形成在所述半导体基底 120上的多个发光体122、阳极124和阴极126。所述发光体122为能够在电激励作用下发光的半导体结构，通过光刻、蚀刻和/或金属有机化学气相沉积等工艺形成在所述半导体基底120上。例如，所述发光体122可以为，但不限于，垂直腔面发射激光器(Vertical Cavity SurfaceEmitting Laser,VCSEL)。所述阳极 124和阴极126分别设置在所述半导体基底120相对的两端面上，以导入电流信号激发所述发光体122进行发光。所述激发电流大于1mA。

可以理解的是，在其他实施方式中，所述发光体122还可以为发光二极管 (LightEmitting Diode,LED)或激光二极管(Laser Diode,LD)。因此，所述发光体 122选自VCSEL、LED及LD中的任意一种及其组合。

如图7所示，所述发光体122非规则地分布在所述半导体基底120的发光区域内。可以理解的是，在其他实施方式中，所述光源200的至少三个相邻的发光体122在半导体基底120上非等间距排布。所述全部发光体122整体上具有相关性，所述全部发光体122整体上的相关性系数大于或等于0.25而小于1。由此，所述光源200发出的原始光线具有与预设的所述发光体122排布图案相对应的空间光场分布。所述原始光线经过第二调制元件204时会被复制多次并在预设角度范围内将复制的原始光线的光场进行重新排布以形成能够投射出预设感测光斑图案的结构光光线。

与现有技术相比，本申请所提供的发射单元20、传感模组2及电子设备1 通过在发射结构光的光路上设置能够切换透明状态和非透明状态的第一调制元件202，使得原先光路在透明状态时可用于发射结构光，在非透明状态时可用于发射泛光，从而实现结构光发射光路和泛光发射光路的复用，节省了元件，降低了模组成本，同时简化了模组结构，有利于模组的小型化。

请一并参阅图2和图8，本申请还提供一种所述传感模组21的感测方法。所述传感模组21包括发射单元20和接收单元22。所述发射单元20包括光源 200、第一调制元件202和第二调制元件204。所述第一调制元件202对所透过光线的雾度可以至少在透明和非透明这两个状态之间进行切换。所述第二调制元件204用于将所透过光线的光场进行重新排布后再投射出去，所述排布方式包括但不限于将所透过光线复制多次并在预设角度范围内将复制的光线进行排布。所述感测方法包括如下步骤：

步骤S10，将所述第一调制元件202切换至透明状态。所述光线可以不经散射地透过处于透明状态的所述第一调制元件202。在本实施方式中，所述第一调制元件202包括相对设置的第一电极2020和第二电极2022以及位于所述第一电极2020和第二电极2022之间的液晶层2024。通过所述第一电极2020 和第二电极2022对液晶层2024施加一预设电场可使得所述液晶层2024处于透明状态。

步骤S12，所述光源200发出的光线经由第二调制元件204形成能够投射出预设感测光斑图像的结构光光线，所述结构光光线在待测对象上投射出预设的感测光斑图案。所述第二调制元件204可选自微透镜阵列、光栅及DOE中的任意一种及其组合。在本实施方式中，所述第二调制元件204为DOE。

步骤S13，所述接收单元22获取投射在待测对象上的感测光斑图案并通过分析所述感测光斑图像得出待测对象的三维信息。所述三维信息包括但不限于待测对象表面的深度数据、待测对象在空间中的位置信息以及待测对象的尺寸信息等。所感测到的待测对象的三维信息可被用于识别待测对象的身份或构建待测对象的三维模型。在本实施方式中，所述待测对象为人脸。

所述感测方法的步骤可以通过设置在传感模组2上的控制器控制对应元件来执行，也可以通过设置在使用该传感模组2的电子设备1的其他位置上的控制器控制对应元件来执行，本申请对此不做限定。

可以理解的是，在其他变更实施方式中，在步骤S10之前还可以执行如下步骤以先判断待测对象是否为想要检测的种类。

步骤S01，将所述第一调制元件202切换至非透明状态。处于非透明状态的所述第一调制元件202可以将所经过的光线发散为泛光光线。在本实施方式中，所述第一调制元件202包括设置于相对的第一电极2020和第二电极2022 之间的液晶层2024。在未施加电场的情况下，所述液晶层2024内的液晶分子 2026呈无序取向状态，对透过的光线具有明显的散射效果从而使得所述第一调制元件202对透过的光线呈非透明的雾化状态。

步骤S02，所述光源200发出的光线经过第一调制元件202发散为泛光光线。所述泛光光线投射在待测对象上形成泛光图像。可以理解的是，所述光源 200所发出的光线在经过第一调制元件202之前或之后还可以经过所述第二调制元件204。先透过第一调制元件202形成的泛光光线再经过第二调制元件204 的光场空间重排后仍为泛光光线，而先经过第二调制元件204形成的结构光光线经过第一调制元件202时也还是会被发散为泛光光线。

步骤S03，所述接收单元22获取待测对象在泛光光线投射下的泛光图像，所获取的泛光图像可存储在存储器内或直接利用传感模组2内的图像分析处理器223进行图像分析。所述存储器可设置在传感模组2上或者设置在使用该传感模组2的电子设备1上。

步骤S04，分析所获取的待测对象的泛光图像判断所述待测对象是否为预设的感兴趣的对象类型。若判断所述待测对象为预设的对象类型则开始执行上述的步骤S10，对待测对象投射结构光进行三维信息感测。若判断所述待测对象不是预设的对象类型，则结束当前感测。

具体地，可以通过对所述待测对象的泛光图像进行图像分析获取其中的边界图样，将所述泛光图像的边界图样与所述预设的感兴趣对象的特征点进行比较来判断待测对象是否为预设的对象类型。比如：所预设的对象类型为人脸，对应的特征点为眼镜、鼻子、嘴巴等，若分析出的泛光图像的边界图样中包括这些特征点则判断所述待测对象为人脸。

与现有技术相比，本申请所提供的传感模组2的感测方法通过切换第一调制元件202的透明状态和非透明状态可以复用同一个光路来发射泛光光线和结构光光线，在进行三维感测前先通过投射泛光光线获取的泛光图像来判断待测对象是否为感兴趣的对象类型，可节省每次需要进行高功率的三维感测而造成的损耗。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施方式”、“某些实施方式”、“示意性实施方式”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合所述实施方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个实施方式或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施方式或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施方式或示例中以合适的方式结合。

以上所述仅为本申请的较佳实施方式而已，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (14)

1.一种发射单元，其特征在于：包括光源、第一调制元件和第二调制元件，所述第一调制元件对所透过光线的雾度能够在透明和非透明至少两个状态之间进行切换，所述第二调制元件用于将所透过光线的光场进行重新排布，所述第一调制元件处于透明状态时所述光源发出的光线经过第一调制元件和第二调制元件形成结构光光线投射至待测对象上，所述第一调制元件处于非透明状态时所述光源发出的光线经过第一调制元件和第二调制元件形成泛光光线投射至待测对象上。

2.如权利要求1所述的发射单元，其特征在于，所述第一调制元件处于透明状态时所述光线可不经改变地透过第一调制元件，所述第一调制元件处于非透明状态时所述光线经过第一调制元件时被散射为泛光光线。

3.如权利要求1所述的发射单元，其特征在于，所述第一调制元件包括相对设置的第一电极和第二电极以及设置在所述第一电极和第二电极之间的液晶层，电源未通过所述第一电极和第二电极给液晶层施加电场时，所述第一调制元件处于非透明状态，电源通过所述第一电极和第二电极给液晶层施加预设电场时，所述第一调制元件处于透明状态。

4.如权利要求3所述的发射单元，其特征在于，所述液晶层为聚合物分散液晶层。

5.如权利要求1所述的发射单元，其特征在于，所述第一调制元件在非透明状态时对所透过光线的雾度大于或等于70％。

6.如权利要求1所述的发射单元，其特征在于，所述第一调制元件在透明状态时对所透过光线的雾度小于或等于1％。

7.如权利要求1所述的发射单元，其特征在于：所述第二调制元件选自微透镜阵列、光栅及衍射光学元件中的任意一种及其组合。

8.如权利要求1所述的发射单元，其特征在于：所述光源包括多个非规则地分布在半导体基底上的发光体。

9.如权利要求1所述的发射单元，其特征在于：所述第一调制元件位于光源与第二调制元件之间的出射光路上，或者

所述第二调制元件位于光源与第一调制元件之间的出射光路上。

10.如权利要求1所述的发射单元，其特征在于：所述泛光光线和结构光光线为红外或近红外光，波长范围为750纳米至2000纳米。

11.一种传感模组，其特征在于，包括接收单元及如权利要求1至10中任意一项所述的发射单元，所述接收单元获取发射单元照射在待测对象上所形成的图像进行感测。

12.如权利要求11所述的传感模组，其特征在于，所述第一调制元件处于非透明状态时发射单元照射在待测对象上形成泛光图像，所述泛光图像可用于判断待测对象是否为预设的对象类型。

13.如权利要求12所述的传感模组，其特征在于，所述第一调制元件处于透明状态时发射单元在待测对象上投射出预设的感测光斑图像，所述感测光斑图像可用于感测待测对象的三维信息。

14.一种电子设备，其特征在于，包括如权利要求11至13中任意一项所述的传感模组，所述电子设备根据所述传感模组所感测到的待测对象的三维信息来执行相应功能。