CN209673631U - 一种铜箔电解液中铜离子实时监测设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种铜箔电解液中铜离子实时监测设备,包括以旁通的方式连接在进液阀和保安过滤器之间管道上的分流阀,分流阀的出口连接上液阀的入口和平衡阀的入口,上液阀的出口连接有排气阀一的入口和光学传感器,光学传感器之后连接有排气阀二的入口,所述排气阀一的出口和排气阀二的出口均与大气贯通,平衡阀的出口与排气阀二的入口连接,光学传感器连接有光学控制器,平衡阀的出口连接观察罐的进液口,观察罐的溢流口通过回液管与低位槽连接。本实用新型通过增设管道阀门系统、光学传感器和光学控制器,实现了电解液铜离子参数的实时监测,节约了人力,有效的保证了铜离子参数的稳定,从而保证了铜箔产品质量一致性。
Description
技术领域
本实用新型涉及光电信号自动监测技术领域,具体来说,涉及一种铜箔电解液中铜离子实时监测设备。
背景技术
在电解铜箔的生产工艺中,电解生箔是最为重要的工段。电解工艺不但影响到电解铜箔的物理性能,如抗拉强度、延伸率等,还会影响到铜箔的外观,如颜色、光泽度等。精良的电解工艺是获得高品质铜箔的必要条件。而对于电解工艺,铜离子浓度是需要监测和控制的关键参数之一,铜离子参数波动对铜箔的物性一致性影响很大。现有间隔性人工滴定检测铜离子参数的方式,无法掌握铜离子参数的实时变化情况,难以保证铜箔的物性一致性,且滴定过程耗费人力,产生废固废水,对环境不利。
针对相关技术中的问题,目前尚未提出有效的解决方案。
实用新型内容
针对相关技术中的上述技术问题,本实用新型提出一种铜箔电解液中铜离子实时监测设备,能够克服现有技术的上述不足。
为实现上述技术目的,本实用新型的技术方案是这样实现的:
一种铜箔电解液中铜离子实时监测设备,包括以旁通的方式连接在进液阀和保安过滤器之间管道上的分流阀,所述分流阀的出口连接上液阀的入口和平衡阀的入口,所述上液阀的出口连接有排气阀一的入口和光学传感器,所述光学传感器之后连接有排气阀二的入口,所述排气阀一的出口和排气阀二的出口均与大气贯通,所述平衡阀的出口与排气阀二的入口连接,所述光学传感器连接有光学控制器,所述平衡阀的出口连接观察罐的进液口,所述观察罐的溢流口通过回液管与低位槽连接。
进一步的,所述光学控制器通过导线与光学传感器连接。
进一步的,所述进液阀和分流阀为蝶阀,所述平衡阀、上液阀、排气阀一和排气阀二为球阀。
进一步的,所述观察罐为非封闭结构,且进液口设在所述观察罐的底部,溢流口设在所述观察罐的侧面。
本实用新型的有益效果:本实用新型通过增设管道阀门系统、光学传感器和光学控制器,实现了电解液铜离子参数的实时监测,节约了人力,有效的保证了铜离子参数的稳定,从而保证了铜箔产品质量一致性。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是根据本实用新型实施例所述的一种铜箔电解液中铜离子实时监测设备的结构示意图;
图中:1、进液阀;2、保安过滤器;3、分流阀;4、上液阀;5、平衡阀;6、排气阀一;7、光学传感器;8、排气阀二;9、观察罐;10、光学控制器;11、回液管;12、低位槽。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
如图1所示,根据本实用新型实施例所述的一种铜箔电解液中铜离子实时监测设备,包括以旁通的方式连接在进液阀1和保安过滤器2之间管道上的分流阀3,保安过滤器2的末端流向电解槽,所述分流阀3的出口连接上液阀4的入口和平衡阀5的入口,所述上液阀4的出口连接有排气阀一6的入口和光学传感器7,所述光学传感器7之后连接有排气阀二8的入口,所述排气阀一6的出口和排气阀二8的出口均与大气贯通,所述平衡阀5的出口与排气阀二8的入口连接,所述光学传感器7连接有光学控制器10,所述平衡阀5的出口连接观察罐9的进液口,所述观察罐9的溢流口通过回液管11与低位槽12连接。
在一具体实施例中,所述光学控制器10通过导线与光学传感器7连接。
在一具体实施例中,所述进液阀1和分流阀3为蝶阀,所述平衡阀5、上液阀4、排气阀一6和排气阀二8为球阀。
在一具体实施例中,所述观察罐9为非封闭结构,且进液口设在所述观察罐9的底部,溢流口设在所述观察罐9的侧面。
为了方便理解本实用新型的上述技术方案,以下通过具体使用方式上对本实用新型的上述技术方案进行详细说明。
根据本实用新型所述的一种铜箔电解液中铜离子实时监测设备,通过调节分流阀、上液阀、平衡阀,在光学传感器中通过一稳定流量的电解液液柱,通过调节排气阀和目测观察罐内电解液,排除管道中空气,以保证液柱中没有气体,光学传感器将此液柱的色度转化为电信号,通过导线传输到光学控制器,光学控制器将此信号转化为吸光度值和铜离子浓度(g/L),并在显示屏上显示;调节时,通过目测观察罐内的流量情况,可以合理调节分流阀、上液阀和平衡阀的开度,保持液柱中的溶液始终和保安过滤器前溶液一致,本实用新型可以实现实时监测电解液铜离子浓度的目的。
综上所述,本实用新型通过增设管道阀门系统、光学传感器和光学控制器,实现了电解液铜离子参数的实时监测,节约了人力,有效的保证了铜离子参数的稳定,从而保证了铜箔产品质量一致性。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (4)
1.一种铜箔电解液中铜离子实时监测设备,其特征在于,包括以旁通的方式连接在进液阀(1)和保安过滤器(2)之间管道上的分流阀(3),所述分流阀(3)的出口连接上液阀(4)的入口和平衡阀(5)的入口,所述上液阀(4)的出口连接有排气阀一(6)的入口和光学传感器(7),所述光学传感器(7)之后连接有排气阀二(8)的入口,所述排气阀一(6)的出口和排气阀二(8)的出口均与大气贯通,所述平衡阀(5)的出口与排气阀二(8)的入口连接,所述光学传感器(7)连接有光学控制器(10),所述平衡阀(5)的出口连接观察罐(9)的进液口,所述观察罐(9)的溢流口通过回液管(11)与低位槽(12)连接。
2.根据权利要求1所述的一种铜箔电解液中铜离子实时监测设备,其特征在于,所述光学控制器(10)通过导线与光学传感器(7)连接。
3.根据权利要求2所述的一种铜箔电解液中铜离子实时监测设备,其特征在于,所述进液阀(1)和分流阀(3)为蝶阀,所述平衡阀(5)、上液阀(4)、排气阀一(6)和排气阀二(8)为球阀。
4.根据权利要求1所述的一种铜箔电解液中铜离子实时监测设备,其特征在于,所述观察罐(9)为非封闭结构,且进液口设在所述观察罐(9)的底部,溢流口设在所述观察罐(9)的侧面。
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CN201822215380.7U CN209673631U (zh) | 2018-12-27 | 2018-12-27 | 一种铜箔电解液中铜离子实时监测设备 |
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Publications (1)
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CN209673631U true CN209673631U (zh) | 2019-11-22 |
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ID=68563795
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CN201822215380.7U Active CN209673631U (zh) | 2018-12-27 | 2018-12-27 | 一种铜箔电解液中铜离子实时监测设备 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112813466A (zh) * | 2020-12-22 | 2021-05-18 | 九江德福科技股份有限公司 | 一种锂电箔一体机 |
CN114214673A (zh) * | 2022-01-11 | 2022-03-22 | 广东嘉元科技股份有限公司 | 一种电解铜箔纵向尺度均匀性测量方法、系统、生箔机 |
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2018
- 2018-12-27 CN CN201822215380.7U patent/CN209673631U/zh active Active
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CN114214673A (zh) * | 2022-01-11 | 2022-03-22 | 广东嘉元科技股份有限公司 | 一种电解铜箔纵向尺度均匀性测量方法、系统、生箔机 |
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GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
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Denomination of utility model: Real-time monitoring equipment for copper ions in copper foil electrolyte Effective date of registration: 20200529 Granted publication date: 20191122 Pledgee: Bank of Jiangxi Co., Ltd. Jiujiang Development Zone sub branch Pledgor: JIUJIANG DEFU TECHNOLOGY Co.,Ltd. Registration number: Y2020980002605 |
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PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right |