CN209276621U - 一种磁控溅射镀膜治具 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种磁控溅射镀膜治具,包括支架，支架两端设有安装槽，支架本体中间均匀开有若干镀膜孔，镀膜孔边缘设有卡紧阶梯，镀膜边缘设有若干压槽，压槽一侧对应设有卡槽，压槽内部压紧有卡墩，卡墩内部固定有弹簧，弹簧内插有螺杆，螺杆底部与压槽底部固定，螺杆顶端旋紧有螺母，螺母下端与弹簧过盈贴合，结构简单，操作方便，能有效的固定镜片，大大提高了镀膜效率，较为实用。
Description
技术领域
本实用新型涉及镜片镀膜辅助装置，尤其是一种磁控溅射镀膜治具。
技术背景
手机镜片在生产过程中有一道工序是镀膜，是必不可少的，在镀膜过程中需要将镜片固定好，才能进行这一道工序，现在固定镜片一般采用粘胶固定，不仅固定不牢固，同时也导致了资源的浪费。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术镜片镀膜辅助装置所存在的缺陷，提供一种磁控溅射镀膜治具。
为了实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种磁控溅射镀膜治具,包括支架，所述支架两端设有安装槽，所述支架本体中间均匀开有若干镀膜孔，所述镀膜孔边缘设有卡紧阶梯，所述镀膜边缘设有若干压槽，所述压槽一侧对应设有卡槽，所述压槽内部压紧有卡墩，所述卡墩内部固定有弹簧，所述弹簧内插有螺杆，所述螺杆底部与所述压槽底部固定，所述螺杆顶端旋紧有螺母，所述螺母下端与所述弹簧过盈贴合。
上述的一种磁控溅射镀膜治具,所述镀膜孔为矩形。
上述的一种磁控溅射镀膜治具,所述压槽数量为四。
上述的一种磁控溅射镀膜治具,所述卡墩采用铁氟龙材质制成。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果为：本实用新型设有卡墩，利用卡墩将晶片卡紧固定，方便镀膜，同时卡墩内部固定有有弹簧，可手动随意调节卡墩的位置，使得更换镜片更加方便，大大提高了生产效率。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图；
图2是本实用新型的横截面图。
附图中：1、支架；2、安装槽；3、镀膜孔；4、卡紧阶梯；5压槽；6、卡槽；7、卡墩；8、弹簧；9、螺杆；10、螺母。
具体实施方式
参阅图1至图2，一种磁控溅射镀膜治具,包括支架1，支架1两端设有安装槽2，支架1本体中间均匀开有若干镀膜孔3，镀膜孔3边缘设有卡紧阶梯4，镀膜孔3边缘设有若干压槽5，压槽5一侧对应设有卡槽6，压槽5内部压紧有卡墩7，卡墩7内部固定有弹簧8，弹簧8内插有螺杆9，螺杆9底部与压槽5底部固定，螺杆9顶端旋紧有螺母10，螺母10下端与弹簧8过盈贴合。
本实施例中一种磁控溅射镀膜治具,镀膜孔3为矩形。
本实施例中一种磁控溅射镀膜治具,压槽5数量为四。
本实施例中一种磁控溅射镀膜治具,卡墩7采用铁氟龙材质制成。
具体工作原理:在安装镜片时，将卡墩从压槽里面取出，旋转至卡槽内固定，放入镜片至镀膜孔，使得镜片与卡紧阶梯贴合，将卡墩从卡槽内取出，旋转至压槽，通过弹簧的弹力使得卡墩压紧在牙槽内部，从而达到固定镜片的目的。
综上，仅为本实用新型的较佳实施例而已，并非用来限定本实用新型实施的范围，凡依本实用新型权利要求范围的形状、构造、特征及精神所为的均等变化与修饰，均应包括于本实用新型的权利要求范围内。
Claims (4)
1.一种磁控溅射镀膜治具,其特征在于：包括支架(1)，所述支架(1)两端设有安装槽(2)，所述支架(1)本体中间均匀开有若干镀膜孔(3)，所述镀膜孔(3)边缘设有卡紧阶梯(4)，所述镀膜孔(3)边缘设有若干压槽(5)，所述压槽(5)一侧对应设有卡槽(6)，所述压槽(5)内部压紧有卡墩(7)，所述卡墩(7)内部固定有弹簧(8)，所述弹簧(8)内插有螺杆(9)，所述螺杆(9)底部与所述压槽(5)底部固定，所述螺杆(9)顶端旋紧有螺母(10)，所述螺母(10)下端与所述弹簧(8)过盈贴合。
2.根据权利要求1上述的一种磁控溅射镀膜治具,其特征在于：所述镀膜孔(3)为矩形。
3.根据权利要求1上述的一种磁控溅射镀膜治具,其特征在于：所述压槽(5)数量为四。
4.根据权利要求1上述的一种磁控溅射镀膜治具,其特征在于：所述卡墩(7)采用铁氟龙材质制成。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201821952266.6U CN209276621U (zh) | 2018-11-26 | 2018-11-26 | 一种磁控溅射镀膜治具 |
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN209276621U true CN209276621U (zh) | 2019-08-20 |
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ID=67602723
Family Applications (1)
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| CN201821952266.6U Active CN209276621U (zh) | 2018-11-26 | 2018-11-26 | 一种磁控溅射镀膜治具 |
Country Status (1)
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| CN (1) | CN209276621U (zh) |
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2018
- 2018-11-26 CN CN201821952266.6U patent/CN209276621U/zh active Active
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right |
Denomination of utility model: A magnetron sputtering coating fixture Effective date of registration: 20220520 Granted publication date: 20190820 Pledgee: Gaoyou park enterprise investment fund 2 (L.P.) Pledgor: JIANGSU STAR WAVE OPTICAL INSTRUMENT CO.,LTD. Registration number: Y2022320000226 |
|
| PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right |