CN209254206U - 一种标牌显像液自动沉淀处理机构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种标牌显像液自动沉淀处理机构,包括第一沉淀池、第二沉淀池、第三沉淀池、第四沉淀池、进液管、出液管,进液管、第一沉淀池、第二沉淀池、第三沉淀池、第四沉淀池、出液管依次相连;各个沉淀池均为长方体形状箱体,第一沉淀池、第二沉淀池、第三沉淀池、第四沉淀池高度呈阶梯分布;第一沉淀池的出液口与第二沉淀池的进液口无缝对接;第二沉淀池的出液口与第三沉淀池的进液口无缝对接;第三沉淀池设置有出液口,第四沉淀池设置有进液口,第三沉淀池的出液口与第四沉淀池的进液口无缝对接;第四沉淀池设置有出液口,第四沉淀池通过出液口连接出液管。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种液体处理机构,特别涉及一种标牌显像液自动沉淀处理机构。
背景技术
现有的标牌的废旧显像液里面含有大量沉淀物和可回收物,不能直接废弃或者直接再利用,需要进行沉淀,再处理后才能再利用。
为了尽可能让可沉淀物充分沉淀,节约用水,达到显像液高效回收再利用,本实用新型提供一种标牌显像液自动沉淀处理机构技术方案,通过多级沉淀池将可沉淀物充分沉淀,同时增加隔板防止因液体流动产生的冲击扰动激起沉淀物,最后得到清洁可进一步处理的澄清液体。
实用新型内容
本实用新型的主要目的在于提供一种标牌显像液自动沉淀处理机构,通过多级沉淀池将可沉淀物充分沉淀,同时增加隔板防止因液体流动产生的冲击扰动激起沉淀物,最后得到清洁可进一步处理的澄清液体。
为实现上述目的,本实用新型采取的技术方案为:
本实用新型所述的一种标牌显像液自动沉淀处理机构,包括第一沉淀池(1)、第二沉淀池(2)、第三沉淀池(3)、第四沉淀池(4)、进液管(5)、出液管(6),进液管(5)连接第一沉淀池(1),第一沉淀池(1)连接第二沉淀池(2),第二沉淀池(2)连接第三沉淀池(3),第三沉淀池(3)连接第四沉淀池(4),第四沉淀池(4)连接出液管(6);第一沉淀池(1)、第二沉淀池(2)、第三沉淀池(3)、第四沉淀池(4)均为长方体形状箱体,第一沉淀池(1)上沿高于第二沉淀池(2),第二沉淀池(2)的上沿高于第三沉淀池(3),第三沉淀池(3)的上沿高于第四沉淀池(4);第一沉淀池(1)设置有出液口,第二沉淀池(2)设置有进液口,第一沉淀池(1)的出液口与第二沉淀池(2)的进液口无缝对接;第二沉淀池(2)设置有出液口,第三沉淀池(3)设置有进液口,第二沉淀池(2)的出液口与第三沉淀池(3)的进液口无缝对接;第三沉淀池(3)设置有出液口,第四沉淀池(4)设置有进液口,第三沉淀池(3)的出液口与第四沉淀池(4)的进液口无缝对接;第四沉淀池(4)设置有出液口,第四沉淀池(4)通过出液口连接出液管(6)。
进一步的,本实用新型所述的一种标牌显像液自动沉淀处理机构,第一沉淀池(1)、第二沉淀池(2)、第三沉淀池(3)、第四沉淀池(4)均设有隔板(7),隔板(7)高度高于各自对应的出液口的下缘。
进一步的,本实用新型所述的一种标牌显像液自动沉淀处理机构,第一沉淀池(1)、第二沉淀池(2)、第三沉淀池(3)、第四沉淀池(4)所设置的隔板(7)位于长度的二分之一到三分之二处。
进一步的,本实用新型所述的一种标牌显像液自动沉淀处理机构,第一沉淀池(1)的出液口、第二沉淀池(2)的出液口和进液口、第三沉淀池(3)的出液口和进液口、第四沉淀池(4)的进液口为矩形。
进一步的,本实用新型所述的一种标牌显像液自动沉淀处理机构,第四沉淀池(4)的出液口设置在接近上缘的位置。
进一步的,本实用新型所述的一种标牌显像液自动沉淀处理机构,第一沉淀池(1)、第二沉淀池(2)、第三沉淀池(3)、第四沉淀池(4)的宽度相等。
进一步的,本实用新型所述的一种标牌显像液自动沉淀处理机构,第一沉淀池(1)的出液口、第二沉淀池(2)的出液口和进液口、第三沉淀池(3)的出液口和进液口、第四沉淀池(4)的进液口设置在靠近各自沉淀池上缘位置。
与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:采用级差沉淀池,结构简单,节约用水;增加隔板,成本低,效果好;沉淀池可以因地制宜,应用前景广阔。
附图说明
图1为本实用新型所述的一种标牌显像液自动沉淀处理机构的立体结构示意图;
图2为本实用新型所述的一种标牌显像液自动沉淀处理机构的另一方向投影的立体结构示意图;
图3为本实用新型所述的一种标牌显像液自动沉淀处理机构的中间剖面的剖视图。
图中:1、第一沉淀池;2、第二沉淀池;3、第三沉淀池;4、第四沉淀池;5、进液管;6、出液管;7、隔板。
具体实施方式
为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本实用新型。
如图1-3所示,本实用新型所述的一种标牌显像液自动沉淀处理机构,包括第一沉淀池1、第二沉淀池2、第三沉淀池3、第四沉淀池4、进液管5、出液管6,进液管5连接第一沉淀池1,第一沉淀池1连接第二沉淀池2,第二沉淀池2连接第三沉淀池3,第三沉淀池3连接第四沉淀池4,第四沉淀池4连接出液管6;第一沉淀池1、第二沉淀池2、第三沉淀池3、第四沉淀池4均为长方体形状箱体,第一沉淀池1上沿高于第二沉淀池2,第二沉淀池2的上沿高于第三沉淀池3,第三沉淀池3的上沿高于第四沉淀池4;第一沉淀池1设置有出液口,第二沉淀池2设置有进液口,第一沉淀池1的出液口与第二沉淀池2的进液口无缝对接;第二沉淀池2设置有出液口,第三沉淀池3设置有进液口,第二沉淀池2的出液口与第三沉淀池3的进液口无缝对接;第三沉淀池3设置有出液口,第四沉淀池4设置有进液口,第三沉淀池3的出液口与第四沉淀池4的进液口无缝对接;第四沉淀池4设置有出液口,第四沉淀池4通过出液口连接出液管6。
进一步的,本实用新型所述的一种标牌显像液自动沉淀处理机构,第一沉淀池1、第二沉淀池2、第三沉淀池3、第四沉淀池4均设有隔板7,隔板7高度高于各自对应的出液口的下缘。
进一步的,本实用新型所述的一种标牌显像液自动沉淀处理机构,第一沉淀池1、第二沉淀池2、第三沉淀池3、第四沉淀池4所设置的隔板7位于长度的二分之一到三分之二处。
进一步的,本实用新型所述的一种标牌显像液自动沉淀处理机构,第一沉淀池1的出液口、第二沉淀池2的出液口和进液口、第三沉淀池3的出液口和进液口、第四沉淀池4的进液口为矩形。
进一步的,本实用新型所述的一种标牌显像液自动沉淀处理机构,第四沉淀池4的出液口设置在接近上缘的位置。
进一步的,本实用新型所述的一种标牌显像液自动沉淀处理机构,第一沉淀池1、第二沉淀池2、第三沉淀池3、第四沉淀池4的宽度相等。
进一步的,本实用新型所述的一种标牌显像液自动沉淀处理机构,第一沉淀池1的出液口、第二沉淀池2的出液口和进液口、第三沉淀池3的出液口和进液口、第四沉淀池4的进液口设置在靠近各自沉淀池上缘位置。
需要说明的是,本实用新型为一种标牌显像液自动沉淀处理机构,沉淀时,显像液依次流经第一沉淀池到第四沉淀池,由于隔板阻挠了液体流动引起的扰动,使得出液口液体流出平缓,最后得到澄清的液体。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (7)
1.一种标牌显像液自动沉淀处理机构,包括第一沉淀池、第二沉淀池、第三沉淀池、第四沉淀池、进液管、出液管,其特征在于:进液管连接第一沉淀池,第一沉淀池连接第二沉淀池,第二沉淀池连接第三沉淀池,第三沉淀池连接第四沉淀池,第四沉淀池连接出液管;第一沉淀池、第二沉淀池、第三沉淀池、第四沉淀池均为长方体形状箱体,第一沉淀池上沿高于第二沉淀池,第二沉淀池的上沿高于第三沉淀池,第三沉淀池的上沿高于第四沉淀池;第一沉淀池设置有出液口,第二沉淀池设置有进液口,第一沉淀池的出液口与第二沉淀池的进液口无缝对接;第二沉淀池设置有出液口,第三沉淀池设置有进液口,第二沉淀池的出液口与第三沉淀池的进液口无缝对接;第三沉淀池设置有出液口,第四沉淀池设置有进液口,第三沉淀池的出液口与第四沉淀池的进液口无缝对接;第四沉淀池设置有出液口,第四沉淀池通过出液口连接出液管。
2.根据权利要求1所述的一种标牌显像液自动沉淀处理机构,其特征在于:第一沉淀池、第二沉淀池、第三沉淀池、第四沉淀池均设有隔板,隔板高度高于各自对应的出液口的下缘。
3.根据权利要求1所述的一种标牌显像液自动沉淀处理机构,其特征在于:第一沉淀池、第二沉淀池、第三沉淀池、第四沉淀池所设置的隔板位于长度的二分之一到三分之二处。
4.根据权利要求1所述的一种标牌显像液自动沉淀处理机构,其特征在于:第一沉淀池的出液口、第二沉淀池的出液口和进液口、第三沉淀池的出液口和进液口、第四沉淀池的进液口为矩形。
5.根据权利要求1所述的一种标牌显像液自动沉淀处理机构,其特征在于:第四沉淀池的出液口设置在接近上缘的位置。
6.根据权利要求1所述的一种标牌显像液自动沉淀处理机构,其特征在于:第一沉淀池、第二沉淀池、第三沉淀池、第四沉淀池的宽度相等。
7.根据权利要求1所述的一种标牌显像液自动沉淀处理机构,其特征在于:第一沉淀池的出液口、第二沉淀池的出液口和进液口、第三沉淀池的出液口和进液口、第四沉淀池的进液口设置在靠近各自沉淀池上缘位置。
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Family Applications (1)
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CN201822037999.3U Active CN209254206U (zh) | 2018-12-06 | 2018-12-06 | 一种标牌显像液自动沉淀处理机构 |
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